金属雾化片制造技术

技术编号:3992034 阅读:271 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种金属雾化片,包括光阻材料以及电镀沉积在光阻材料表面及四周的电铸镍层,电铸镍层上还具有微孔,其特征在于,所述的微孔的孔径为2~10μm,圆度误差为0.5μm。本实用新型专利技术通过采用特种电铸沉积加工而成,其可以使自身微孔的孔径达到2~10μm的孔径要求,可以雾化液体颗粒达到5μm以下的直径水平,且可以满足本实用新型专利技术具有2000~5000小时的使用寿命。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种金属雾化片,包括光阻材料(1)以及电镀沉积在光阻材料(1)表面及四周的电铸镍层(2),电铸镍层(2)上还具有微孔(3),其特征在于,所述的微孔(3)的孔径为2~10um,圆度误差为0.5um。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:周涛李真明黎增祺
申请(专利权)人:昆山美微电子科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:32

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