金属雾化器的气体供应和再生制造技术

技术编号:706189 阅读:238 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
去除封闭工艺设备内气体不需要杂质的工艺,包括以下步骤:    (a)去除封闭工艺设备内的任何空气;    (b)引入氦气到所述封闭工艺设备;    (c)循环所述氦气完全通过所述封闭工艺设备以去除杂质;    (d)用工艺气体交换所述氦气;    (e)以所述工艺气体开始工艺过程。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及工艺气体的使用,如氩气,该工艺设备首先用氦气和氦气净化设备净化。
技术介绍
众所周知,基于氩气的工艺可以回收和净化工艺中使用的氩气。净化设备可以包括吸气器,PSA,TSA和低温柱。然而,利用上述净化设备从氩气中分离氧气和氮气会产生额外的资金成本。众所周知,从氦气中去除氧气和氮气的资金成本较低。由于氦气和其它杂质在物理性质上的差别,从氦气中分离氧气和氮气更容易实现。作为一个实例,众所周知,在间歇处理工艺中,通过雾化喷嘴将气流喷射到熔融的金属流周围可以产生雾化粉末。通常,熔融的物质是如下的金属铁、钢、铜、镍、铝、镁、铅、锡、钛、钴、钒、钽和它们的合金,或也可以用来生产非金属粉末的物质,如使用氧化物和/或陶瓷材料作为熔融流。在许多情况下,优选使用高纯氩气(例如,至少99.99mol%)。在雾化前,从熔融室和雾化塔中去除杂质也是必须的。这些杂质包括氧气、氮气、水、一氧化碳、二氧化碳、金属和金属盐。不利的是,从氧气和氮气中分离氩气非常困难且昂贵。除了吸气器(即化学反应),膜和分子筛(如在PSA中)处理氧气和氩气几乎是一样的。因此,当气体中包含相当数量的氮气和氧气杂质时,氩气净化包括再生吸气器或低温工艺。因而在雾化工艺中净化氩气是非常高成本的,而净化氦气简单多了,因此成本较低。更进一步的,美国专利4629407公开了一种金属雾化系统,带有气体回收、净化和传输系统。气体回收系统可以处理惰性气体和氮气。对于惰性气体,气体净化系统是使用钛吸气器去除氧气和氮气。对于氮气,气体净化系统使用其它吸气器如铜金属来去除氧气。惰性气体和氮气都应该使用分子筛去除水。专利4838912和6123909各自公开了基于氩气液化和/或蒸馏的氩气回收系统。专利技术目的因而本专利技术的目的是提供一个工艺和系统,当该工艺设计使用不同的气体如氩气时,该工艺和系统能够有效的净化使用氦气的工艺室。专利技术概述本专利技术使用氦气和氦气回收设备净化填充工艺气体前的工艺室。工艺气体用在间歇处理中,该工艺包括雾化、热处理、化学掺杂,金属处理或任何其它分离工艺气体困难或昂贵的杂质分离工艺。因而,作为本专利技术的第一步,工艺室含有的杂质浓度达到不能接受的浓度,引入氦气到工艺室与杂质混合,氦气和杂质然后通过净化设备去除杂质。当工艺室内杂质浓度达到可以接受的水平时,作为第二步,工艺气体置换工艺室内氦气。本专利技术的一个实施方式是使用氦气和氦气回收设备来净化用于雾化填充氩气前的金属雾化工艺中的熔融室和塔。雾化工艺是间歇工艺,其中,雾化后,雾化室在空气中打开,得到清洁。这就将空气引入系统。因而根据本专利技术,专利技术工艺的第一步是加真空于熔融室和雾化器。真空减少了空气和其它杂质的量。真空步骤的最后,氦气通入工艺室和塔增加其中的压力,直到稍微高于大气压力。氦气的纯度依赖于氦气引入工艺室的方式,范围在约90-99.999mol%。例如,通过密度交换氦气置换空气,交换后氦气的纯度达到90mol%的数量级。另一方面,如果氦气是在真空去除空气后引入,从净化系统直接引入的氦气纯度可达到99.999mol%数量级,或如果从例如渗透管引入,纯度可达到99.995mol%。压缩设备使氦气和杂质循环通过氦气回收系统得以净化。氦气净化系统可以使用一次和多次压力变化吸附和/或膜吸附来分离气体杂质中的氦气,以生产99.999mol%的氦气。优选的工艺公开在通常认定的WO 031011434 A1(氦气回收控制系统)和WO031011431 A1(氦气回收)中。净化后,氦气与例如氩气交换。氩气在塔的低点进入雾化系统,当氩气进入雾化系统,氦气通过塔的高点从系统中排出。在优选的方式中,氩气/氦气交换获得的气体中氩气大于90%。剩余在雾化系统中的氦气可以作为氩气的杂质停留,或通过另外的工艺去除。在高纯度的情况下,雾化空气中氧气、氮气、水、CO2和其它杂质(不包括氦气)的含量必须小于百万分之5(ppm),优选小于2ppm。在雾化过程中,使氦气循环的同一压缩设备在此使氩气循环。额外的压缩用来增加氩气的压力达到用于雾化工艺的喷嘴所需压力(如范围在100-1500psi)。更通常的是,本专利技术涉及去除不可接受杂质的工艺,如工艺设备空气中的杂质。包括以下步骤(a)从工艺设备中去除空气;(b)引入氦气到所述的工艺设备;(c)循环所述氦气完全通过所述工艺设备;(d)用氩气或其它工艺气体交换所述氦气;和(e)用所述工艺气体完成工艺过程。在一个实施方式中,引入氦气前,通过真空将空气从所述工艺设备中去除。在另一个实施方式中,所述空气通过密度交换被所述氦气置换。在另一个实施方式中,所述氦气由净化系统提供。在另一个实施方式中,净化系统包括一个或多个压力变化吸收系统和膜系统。在另一个实施方式中,所述净化系统与所述工艺设备连接成为整体。在另一个实施方式中,通过密度交换,所述氦气被所述氩气交换。在另一个实施方式中,氦气在低于大气压的条件下引入所述工艺设备。在另一个实施方式中,所述工艺设备包括一个或多个熔融室和雾化塔。在另一个实施方式中,所述工艺产生雾化金属和被污染的氩气。在另一个实施方式中,所述污染的氩气被处理。在另一个实施方式中,所述氩气通过净化系统去除一种或多种所述污染成分和雾化金属。在另一个实施方式中,所述污染成分存在的量小于2ppm。在另一个实施方式中,90%或更多的所述氦气被氩气交换。在另一个实施方式中,本专利技术包括一个工艺系统,例如,金属雾化,包括a)工艺系统,例如金属雾化塔;b)氦气源;c)工艺气体源,如氩气源;d)用工艺气体如氩气交换氦气的方法和将氩气填充入金属雾化塔的手段。在该系统的实施方式中,氦气源是氦气净化系统。附图简要说明对于本领域的熟练技术人员,从以下的优选实施例的叙述和附图,可以认识到其它的目的、特征和优点,其中附图说明图1是本专利技术优选实施方式的简图。专利技术详述本专利技术使用氦气净化引入氩气前的工艺设备(如雾化塔和熔融室)。利用膜和分子筛去除氦气中的空气、甲烷和其它杂质。通过联合使用标准PSA/膜,工艺设备中气体纯度能达到上述杂质小于5ppm。PSA/膜氦气回收系统能够去除百分比数量的氧气和氮气。当氦气气体达到所需的纯度后,氩气可以简单的置换工艺设备中的氦气。氩气/氦气交换可通过多种已知的方法实现。优选方法是利用氦气和氩气的密度不同。在密度分离中,氩气从系统的低点引入,氦气在系统高点去除。如果交换后,氩气中的氦气浓度还是很高,那么可以使用膜和/或PSA净化系统来降低氦气浓度。一旦不希望的杂质(如氧气和氮气)浓度降低到可接受的水平(如上述提到的2-5ppm),雾化工艺开始。工艺设备和回收设备的压力保持高于大气压,以避免空气渗透进系统。然而,即使高于大气压,氧气和氮气也可以在金属或设备脱气过程进入工艺气体。在氧气和氮气浓度过高的情况下,氩气净化可以在压缩到大约10bar过程中通过切向流实现(其中,部分气体被去除、净化和重新引入)。本专利技术参照附图1得到更详细描述。本专利技术从引入氦气(来自源18或来自PSA16的净化设备)到雾化器30,即工艺设备开始。使用如真空泵28,通过管线27将工艺设备抽真空(为了去除空气)后,氦气作为回填气体引入。空气然后通过管线29和压缩机5进入氩气净化系统。氦气还可以通过空气和氦气的密度交换来引入。为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:S·E·杰恩斯M·克莱斯J·范登塞普
申请(专利权)人:普莱克斯技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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