【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及溅射镀膜设备
，特别是涉及一种具有真空泵保护结构的真空 溅射镀膜设备。
技术介绍
在真空设备运用中，真空泵作为一种从真空室抽除气体分子的设备，品种多样，安 装方式各不相同，作为设备达到真空的部件之一，有着极其重要性的地位。目前相关设备实 际使用过程中，靶材溅射时中性的靶原子(或分子)在沉积于基片上形成薄膜的同时也会 沉积于与真空腔体相连接的真空泵的叶片上，造成真空泵的失效，影响到产品的品质，并造 成相关联性设备的损坏。
技术实现思路
为了解决现有技术中，靶材溅射时，中性的靶原子(或分子)在沉积于基片上形成 薄膜的同时也会沉积于与真空腔体相连接的真空泵的叶片上的问题，提供了一种具有较好 保护功能的真空泵防护结构。为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案是一种具有真空泵保护结构的真空溅射镀膜设备，包括分子泵，箱体，真空腔体，真 空泵，在箱体内设置有真空腔体，其特征在于还包括真空泵外罩和真空泵内罩，所述分子 泵设置在箱体的上部，在分子泵与箱体相连接的位置设置有真空泵外罩，在真空泵外罩里 面设置有真空泵内罩，所述真空泵与真空腔体贯通连接，且真空泵内罩...
【技术保护点】
一种具有真空泵保护结构的真空溅射镀膜设备，包括分子泵，箱体，真空腔体，真空泵，在箱体内设置有真空腔体，其特征在于：还包括真空泵外罩和真空泵内罩，所述分子泵设置在箱体的上部，在分子泵与箱体相连接的位置设置有真空泵外罩，在真空泵外罩里面设置有真空泵内罩，所述真空泵与真空腔体贯通连接，且真空泵内罩将真空泵叶片罩住。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄国兴，
申请(专利权)人：赫得纳米科技昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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