一种投影物镜波像差实时绝对检测系统技术方案

本发明专利技术公开了一种投影物镜波像差实时绝对检测系统，所述实现实时绝对检测系统包括光源及在光轴上放置的物方掩模

【技术实现步骤摘要】
一种投影物镜波像差实时绝对检测系统


[0001]本专利技术涉及波像差检测领域，具体为一种投影物镜波像差实时绝对检测系统
。

技术介绍

[0002]集成电路作为信息设备的基石，其重要性日益凸显
。
在集成电路制造过程中，光刻机将预制好的掩模版上的图案转移至硅片上，是决定集成电路功能的核心设备
。
随着摩尔定律的逐步推进，对投影光刻机的成像质量要求越来越高
。
在高工艺节点下，波像差会直接影响系统的成像分辨率
、
对比度等，是评价其光刻物镜成像质量最重要参数之一
。
[0003]高精度波像差测量是保证物镜获得高成像质量的必要手段
。
目前基于光栅的横向剪切干涉是最为主流的波像差检测方案，该方法拥有极高的波像差检测精度，同时具有检测速度快和重复性高的优势
。
综合来看，研究人员为了更好的提升检测精度，提出了各种绝对检测技术以减小系统误差对于测量的影响
。
尽管现在绝对检测手段已经达到亚纳米的测量精度，测量步骤也有所简本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种投影物镜波像差实时绝对检测系统，其特征在于，所述系统包括：待测投影物镜
(3)
；光栅
(5)
；光电探测器
(6)
；照明光源
(1)
，包括两束细径单模光纤，所述两束细径单模光纤分光产生两个波前；物方掩模
(2)
，包括光窗和亚衍射极限针孔，且位于物方视场内；像方掩模
(4)
，包括光窗和亚衍射极限针孔；其中，所述光纤的光纤输出端置于待测投影物镜
(3)
的物方视场内，并分别对准物方掩模上的所述光窗和所述亚衍射极限针孔；所述两个波前中的一个波前衍射通过所述物方掩模
(2)
的所述亚衍射极限针孔，产生理想球面波，通过待测投影物镜
(3)
并且携带了所在视场点的波像差信息，成像至像方掩模的光窗处，经透射形成测试波前；所述两个波前中的另一个波前透射通过所述物方掩模
(2)
的所述光窗，被待测投影物镜
(3)
成像至像方掩模
(4)
的亚衍射极限针孔处，经衍射产生理想球面波，作为标定波前；所述测试波前和所述标定波前同时经过所述光栅
(5)
产生多衍射级次，并分别在泰伯距离处干涉产生测试剪切干涉图和标定剪切干涉图，且分别被所述光电探测器的不同区域接收；所述测试剪切干涉图记录了系统误差和待测波像差的叠加波前，所述标定剪切干涉图仅记录系统误差波前；利用相移器精密移动光栅
(5)
获得多幅剪切干涉图，利用波前重建方法解调剪切干涉图波前信息，将得到的两个波前做差分运算，从而实现待测波像差信息高精度绝对检测
。2.
根据权利要求1所述的一种投影物镜波...

【专利技术属性】
技术研发人员：金川，全海洋，李建科，刘俊伯，王建，胡松，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：