玻璃衬底的清洗方法技术

再利用玻璃衬底

【技术实现步骤摘要】
玻璃衬底的清洗方法、半导体装置的制造方法及玻璃衬底
本申请是申请号为
201780056499.X、
申请日为
2017
年
09
月
29
日
、
专利技术名称为“玻璃衬底的清洗方法
、
半导体装置的制造方法及玻璃衬底”的专利申请的分案申请
。


[0001]本专利技术的一个方式涉及一种衬底的清洗方法
。
本专利技术的一个方式涉及一种玻璃衬底及玻璃衬底的清洗方法
。
本专利技术的一个方式涉及一种剥离方法
、
半导体装置的制造方法及显示装置的制造方法
。
[0002]注意，本专利技术的一个方式不局限于上述

。
作为本专利技术的一个方式的
的一个例子，可以举出半导体装置
、
显示装置
、
发光装置
、
蓄电装置
、
存储装置
、
电子设备
、
照明装置
、
输入装置
(
例如，触摸传感器等
)、
输入输出装置
(
例如，触摸面板等
)
以及上述装置的驱动方法或制造方法
。
[0003]注意，本说明书等中的半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置
。
晶体管
、
半导体电路
、
显示装置<br/>、
发光装置
、
输入装置
、
输入输出装置
、
运算装置及存储装置等都是半导体装置的一个方式
。
此外，摄像装置
、
电光装置
、
发电装置
(
包括薄膜太阳能电池或有机薄膜太阳能电池等
)
及电子设备有时包括半导体装置
。

技术介绍

[0004]已知应用有机
EL(Electro Luminescence
：电致发光
)
元件或液晶元件的显示装置
。
作为显示装置的一个例子，还可以举出具备发光二极管
(LED
：
Light Emitting Diode)
等发光元件的发光装置
、
以电泳方式等进行显示的电子纸等
。
[0005]有机
EL
元件的基本结构是在一对电极之间夹有包含发光性有机化合物的层的结构
。
通过对该元件施加电压，可以得到来自发光性有机化合物的发光
。
通过应用这种有机
EL
元件，可以实现薄型
、
轻量
、
高对比度且低功耗的显示装置
。
[0006]通过在柔性衬底
(
薄膜
)
上形成晶体管等半导体元件或有机
EL
元件等显示元件，可以实现柔性显示装置
。
[0007]在专利文献1中公开了对隔着牺牲层设置有耐热性树脂层及电子元件的支撑衬底
(
玻璃衬底
)
照射激光，将耐热性树脂层从玻璃衬底剥离，制造柔性显示装置的方法
。[
先行技术文献
][
专利文献
][0008][
专利文献
1]日本专利申请公开第
2015
‑
223823
号公报

技术实现思路

专利技术所要解决的技术问题
[0009]本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种新颖的衬底
(
典型为玻璃衬底
)
的清洗方法
、
玻璃衬底
、
剥离方法
、
半导体装置的制造方法或显示装置的制造方法
。
本专利技术的一个方式的目的之一是玻璃衬底的再利用
。
本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种成本低且
生产率高的剥离方法
、
半导体装置的制造方法或显示装置的制造方法
。
本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种成品率高的剥离方法
。
本专利技术的一个方式的目的之一是使用大型衬底制造半导体装置或显示装置
。
本专利技术的一个方式的目的之一是以低温制造半导体装置或显示装置
。
[0010]注意，这些目的的记载并不妨碍其他目的的存在
。
本专利技术的一个方式并不一定必须达到所有上述目的
。
可以从说明书
、
附图
、
权利要求书的记载中抽取上述目的以外的目的
。
解决技术问题的手段
[0011]本专利技术的一个方式是玻璃衬底的清洗方法，该清洗方法包括准备其一个表面具有第一材料的玻璃衬底的步骤及去除第一材料的至少一部分的步骤
。
第一材料具有金属和金属氧化物中的一个或两个
。
在去除第一材料的至少一部分的步骤中，优选进行湿蚀刻
、
干蚀刻
、
灰化
、
清洗以及抛光中的一个以上
。
[0012]本专利技术的一个方式是玻璃衬底的清洗方法，该清洗方法包括准备其一个表面具有第一材料及第二材料的玻璃衬底的步骤及去除第二材料的至少一部分以暴露第一材料的步骤
。
第一材料具有金属和金属氧化物中的一个或两个
。
第二材料具有树脂和树脂分解物中的一个或两个
。
在暴露第一材料的步骤中，优选进行湿蚀刻
、
干蚀刻
、
灰化
、
清洗以及抛光中的一个以上
。
[0013]本专利技术的一个方式是半导体装置的制造方法，该制造方法包括如下步骤：在玻璃衬底上形成第一材料层；在第一材料层上形成第二材料层；在第二材料层上形成第一被剥离层；使用第一材料层及第二材料层分离玻璃衬底和第一被剥离层；以及去除残留在玻璃衬底上的第一材料层的至少一部分
。
在去除第一材料层的至少一部分的步骤之后，还可以有如下步骤：在玻璃衬底上形成第三材料层；在第三材料层上形成第四材料层；在第四材料层上形成第二被剥离层；使用第三材料层及第四材料层分离玻璃衬底和第二被剥离层
。
第一材料层和第三材料层都具有金属和金属氧化物中的一个或两个
。
第二材料层和第四材料层都具有树脂
。
在去除第一材料层的至少一部分的步骤中，优选进行湿蚀刻
、
干蚀刻
、
灰化
、
清洗以及抛光中的一个以上
。
[0014]本专利技术的一个方式是半导体装置的制造方法，该制造方法包括如下步骤：在玻璃衬底上形成第一材料层；在第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种叠层体，包括玻璃衬底
、
在所述玻璃衬底上且与其接触的氧化钛膜
、
和在所述氧化钛膜上且与其接触的树脂层，其中，所述氧化钛膜在提供所述树脂层的一侧的表面或内部包含氢
、
氧及羟基，所述叠层体用来将所述氧化钛膜与所述树脂层分离
。2.
根据权利要求1所述的叠层体，其中，所述叠层体用来通过照射激光将所述氧化钛膜与所述树脂层分离
。3.
根据权利要求2所述的叠层体，其中，所述叠层体用来通过照射所述激光并施加力将所述氧化钛膜与所述树脂层分离
。4.
一种叠层体，包括玻璃衬底
、
和在所述玻璃衬底上且与其接触的氧化钛膜，其中，所述叠层体在将所述氧化钛膜与在所述氧化钛膜上且与其接触而提供的树脂层分离时使用，所述氧化钛膜在提供所述树脂层的一侧的表面或内部包含氢
、
氧及羟基
。5.
根据权利要求4所述的叠层体，其中，所述叠层体用来通过照射激光将所述氧化钛膜与在所述氧化钛膜上且与其接触而提供的树脂层分离
。6.
根据权利要求5所述的叠层体，其中，所述叠层体用来通过照射所述激光并施加力将所述氧化钛膜和所述树脂层分离
。7.
根据权利要求1或4所述的叠层体，其中，所述叠层体通过对分离界面供给水而将所述氧化钛膜和所述树脂层分离
。8.
根据权利要求1或4所述的叠层体，其中，所述树脂层为聚酰亚胺树脂层
。9.
根据权利要求1或4所述的叠层体，其中，所述氧化钛膜的膜厚为
5nm
以上且
100nm
以下
。10.
一种叠层体，包括衬底
、
和所述衬底上的第一材料层，其中，所述叠层体在将所述第一材料层
、
和与所述第一材料层接触而设置的第二材料层分离时使用，所述第一材料层在设置所述第二材料层的一侧的表面或内部包含羟基
。11.
根据权利要求
10
所述的叠层体，其中，所述第一材料层包含金属或金属氧化物中的一者或两者
。12.
一种显示装置的制造方法，包括：在第一形成用衬底上形成叠层体的工序；隔着所述第一形成用衬底对所述叠层体照射激光的工序；将所述叠层体与所述第一形成用衬底分离的工序；和在所述分离的工序后，在所述叠层体的将所述第一形成用衬底分离的一侧贴合使用具有柔性的材料的第一衬底的工序，在所述形成的工序中，所述叠层体具有：具有晶体管及发光元件的层
、
和在所述层与所述第一形成用衬底之间的树脂层，在所述照射的工序中，所述激光具有比在使所述晶体管的半导体膜晶化的工序中照射的激光的能量密度低的能量密度
。
13.
根据权利要求
12
所述的显示装置的制造方法，其中，在所述形成的工序中，所述叠层体还具有使用具有柔性的材料的第二衬底，在所述第二衬底与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：山崎舜平，佐藤将孝，井户尻悟，高濑奈津子，
申请(专利权)人：株式会社半导体能源研究所，
类型：发明
国别省市：