一种硅片收料设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅片收料设备，其包括主输送单元

【技术实现步骤摘要】
一种硅片收料设备


[0001]本技术属于硅片加工
，尤其涉及一种硅片收料设备
。

技术介绍

[0002]硅片经过分选机分选检测后，要根据分选后的等级对硅片进行分类收料，以将不同等级的硅片收至不同的料盒中
。
随着分选机产能的不断提升，目前对分选机的出料区的收料设备的产能要求较高，传统的硅片收料设备产能较低，无法满足目前的产能要求
。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种硅片收料设备，以解决现有技术中的硅片收料设备存在产能较低的问题
。
[0004]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]一种硅片收料设备，其包括主输送单元
、
拾取单元和下料单元，主输送单元沿第一方向设置有多个换向位，每个换向位上方均设置有拾取单元，每个拾取单元的两端均对应设置有下料单元，拾取单元被配置为非接触地吸附换向位处的硅片并沿垂直于第一方向将硅片换向输送给拾取单元两端之一的下料单元；其中：
[0006]下料单元包括接料单元和存料单元，接料单元与拾取单元的端部对应设置，接料单元沿垂直于第一方向具有至少两个释放位置，接料单元包括至少两条平行设置的第一输送带以及与第一输送带一一对应的第一吸附组件，第一吸附组件为长条形且沿第一输送带的输送方向延伸设置，第一吸附组件被配置为非接触地吸附硅片使硅片在负压作用下保持在第一输送带上，第一输送带被配置为带动保持的硅片运动至任一所述释放位置；
[0007]存料单元包括与释放位置数量相同的存料载具，每个释放位置下方一一对应设置有存料载具，存料载具中的至少一个被配置为可相对其他存料载具升降及横移
。
[0008]通过主输送单元
、
拾取单元和下料单元的配合，实现了硅片的自动分选和收片，提高了硅片的分选效率；接料单元上的第一吸附组件为长条形并沿第一输送带的输送方向设置，吸附力沿输送方向产生在输送带的周围，在吸附时不容易造成硅片变形，提高了输送的平稳性；同时接料单元上设置至少两个释放位置，存料单元包括与释放位置数量相同的存料载具，存料载具中的至少一个可相对于其他存料载具升降及横移，提高了下料单元的收料效率，进而提升了硅片收料设备的产能
。
[0009]可选的，拾取单元包括至少两条平行设置的第二输送带以及位于两条第二输送带之间的吸盘，吸盘的吸附面高于第二输送带的输送面设置，吸盘被配置为非接触地吸附硅片使硅片在负压作用下保持在第二输送带上，第二输送带被配置为带动保持的硅片运动至第一输送带上
。
[0010]通过吸盘实现了将换向位的硅片非接触地吸附保持在第二输送带上，通过第二输送带实现了将保持的硅片移送至第一输送带，提供了一种结构简单，成本低
、
工作效率高的拾取单元
。
[0011]可选的，拾取单元包括至少两条平行设置的第二输送带以及与第二输送带一一对应的第二吸附组件，第二吸附组件为长条形且沿第二输送带的输送方向延伸设置，第二吸附组件被配置为非接触地吸附硅片使硅片在负压作用下保持在第二输送带上，第二输送带被配置为带动保持的硅片运动至第一输送带上
。
[0012]通过第二吸附组件实现了将换向位的硅片非接触地吸附保持在第二输送带上，通过第二输送带实现了将保持的硅片移送至第一输送带，同时将第二吸附组件设置为长条形且第二输送带的输送方向延伸设置，使第二吸附组件的吸附力沿输送方向产生在输送带的周围，在吸附时不容易造成硅片变形，提高了拾取单元输送的平稳性，有利于提高硅片的收料效率
。
[0013]可选的，第一吸附组件包括底座和引流件，底座靠近对应的第一输送带安装且至少用于支撑第一输送带的输送面；引流件安装在底座上且两者之间具有气腔，引流件上设置有进气口，引流件与底座之间形成与气腔连通的出气端，压缩气体经进气口进入气腔，再经气腔从出气端流出以基于伯努利效应产生的负压将硅片非接触地保持在第一输送带的输送面上
。
[0014]通过底座和引流件的配合，能够形成基于伯努利效应的负压，实现了将硅片非接触地保持在第一输送带的输送面上，同时底座可对第一输送带的输送面起到支撑作用，提高了第一输送带输送的平稳性
。
[0015]可选的，接料单元沿垂直于第一方向具有依次设置的第一释放位置和第二释放位置，第一释放位置靠近主输送单元；
[0016]存料单元包括第一存料载具和第二存料载具，第一存料载具用于存放经第一释放位置释放的硅片，第二存料载具用于存放经第二释放位置释放的硅片；第一存料载具被配置为可相对第二存料载具升降及横移
。
[0017]接料单元设置有第一释放位置和第二释放位置，存料单元对应两个释放位置设置第一存料载具和第二存料载具，第一存料载具设置为可相对第二存料载具升降及横移，实现了将第一存料载具移至便于取料的位置，方便收取硅片，提高了硅片的收料效率
。
[0018]可选的，存料单元还包括安装架
、
第一气缸
、
第二气缸
、
第一立板和升降立板，第一存料载具沿竖向滑动设置在升降立板上，升降立板沿横向滑动设置在第一立板上，第一立板设置在安装架上，第一气缸被配置为驱动升降立板在第一立板上横向运动，第二气缸被配置为驱动第一存料载具在升降立板上竖向运动
。
[0019]通过第一气缸
、
第二气缸
、
第一立板和升降立板的配合，实现了第一存料载具相对于第二存料载具的横移和升降，以使第一存料载具能够避开第二存料载具并远离主输送单元被拉出至便于取料的位置，提供了一种结构简单，成本低和便于安装的存料单元
。
[0020]可选的，第一立板滑动设置在安装架上；存料单元还包括第一同步带
、
第一带轮
、
第二带轮
、
第一固定件和第二固定件，第一带轮和第二带轮分别安装在第一立板的两端部，第一同步带套设在第一带轮和第二带轮上；
[0021]第一同步带的第一侧带体通过第一固定件固定连接在安装架上；第一同步带的第二侧带体通过第二固定件与升降立板固定连接；
[0022]第一气缸的驱动端与第一立板连接，用于驱动第一立板沿横向运动第一距离；第二固定件用于带动升降立板沿横向运动第二距离
。
[0023]通过第一立板
、
第一气缸和同步带传动组件的配合，能够实现对第一存料载具的双倍气缸行程
(
即第一距离和第二距离之和
)
的抽拉，提供了一种移动行程大
、
结构紧凑的存料单元
。
[0024]可选的，存料单元还包括安装架
、
第三气缸和第二立板，第二立板设置在安装架上，第二存料载具滑动设置在第二立板上，第三气缸被配置为驱动第二存料载具在第二立板上横向运动
。
[0025]通过第三气本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种硅片收料设备，其特征在于，所述硅片收料设备包括主输送单元
、
拾取单元和下料单元，所述主输送单元沿第一方向设置有多个换向位，每个所述换向位上方均设置有所述拾取单元，每个所述拾取单元的两端均对应设置有所述下料单元，所述拾取单元被配置为非接触地吸附所述换向位处的硅片并沿垂直于所述第一方向将所述硅片换向输送给所述拾取单元两端之一的下料单元；其中：所述下料单元包括接料单元和存料单元，所述接料单元与所述拾取单元的端部对应设置，所述接料单元沿垂直于所述第一方向具有至少两个释放位置，所述接料单元包括至少两条平行设置的第一输送带以及与所述第一输送带一一对应的第一吸附组件，所述第一吸附组件为长条形且沿第一输送带的输送方向延伸设置，所述第一吸附组件被配置为非接触地吸附硅片使所述硅片在负压作用下保持在所述第一输送带上，所述第一输送带被配置为带动保持的硅片运动至任一所述释放位置；所述存料单元包括与所述释放位置数量相同的存料载具，每个所述释放位置下方一一对应设置有所述存料载具，所述存料载具中的至少一个被配置为可相对其他存料载具升降及横移
。2.
根据权利要求1所述的硅片收料设备，其特征在于，所述拾取单元包括至少两条平行设置的第二输送带以及位于两条所述第二输送带之间的吸盘，所述吸盘的吸附面高于所述第二输送带的输送面设置，所述吸盘被配置为非接触地吸附硅片使所述硅片在负压作用下保持在所述第二输送带上，所述第二输送带被配置为带动保持的硅片运动至所述第一输送带上
。3.
根据权利要求1所述的硅片收料设备，其特征在于，所述拾取单元包括至少两条平行设置的第二输送带以及与所述第二输送带一一对应的第二吸附组件，所述第二吸附组件为长条形且沿第二输送带的输送方向延伸设置，所述第二吸附组件被配置为非接触地吸附硅片使所述硅片在负压作用下保持在所述第二输送带上，所述第二输送带被配置为带动保持的硅片运动至所述第一输送带上
。4.
根据权利要求1所述的硅片收料设备，其特征在于，所述第一吸附组件包括底座和引流件，所述底座靠近对应的第一输送带安装且至少用于支撑所述第一输送带的输送面；所述引流件安装在所述底座上且两者之间具有气腔，所述引流件上设置有进气口，所述引流件与所述底座之间形成与所述气腔连通的出气端，压缩气体经所述进气口进入所述气腔，再经所述气腔从所述出气端流出以基于伯努利效应产生的负压将硅片非接触地保持在所述第一输送带的输送面上
。5.
根据权利要求1所述的硅片收料设备，其特征在于，所述接料单元沿垂直于所述第一方向具有依次设置的第一释放位置和第二释放位置，所述第一释放位置靠近所述主输送单元；所述存料单元包括第一存料载具和第二存料载具，所述第一存料载具用于存放经所述第一释放...

【专利技术属性】
技术研发人员：卞海峰，李昶，刘世挺，闫东，顾晓奕，
申请(专利权)人：无锡奥特维科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：