间距测量装置制造方法及图纸

本申请涉及一种间距测量装置

【技术实现步骤摘要】
间距测量装置


[0001]本申请涉及半导体检测
，特别是涉及一种用于靶材到磁控管的间距测量装置
。

技术介绍

[0002]在半导体制造过程中，靶材通常用于物理气相沉积
(Physical Vapor Deposition
，
PVD)
，物理气相沉积是一种薄膜制备技术，可在真空条件下将靶材的表面物理气化为气态原子，将分子或部分离子离化为等离子体状态，然后通过低压气体将具有特定功能的膜沉积在基板的表面上
。
在真空镀膜设备中，靶材与磁控管之间的间距是一个非常重要的参数
。
对真空镀膜设备中的靶材更换时，通常需要测量靶材背板到磁控管的间距来确保沉积工艺的稳定性
。
[0003]目前，一般是采用长铝条加游标卡尺的方法来测量靶材背板到磁控管的间距
(
也即靶磁间距
)
，但会由于测量手法的不同导致测量结果存在差异性
。
此外，铝条长期使用后表面不平也会导致测量出现误差，若测量结果与实际数据偏差较大，无法达到标准化作业的需求，则会对半导体制程造成影响
。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对目前靶材背板到磁控管的间距的测量方法存在测量精度低的问题，提供一种间距测量装置
。
[0005]本申请实施例提供了一种间距测量装置，用于测量靶材和磁控管之间的靶磁间距，所述间距测量装置包括：
[0006]基座，用于安装至固定件，所述固定件用于安装所述靶材和所述磁控管，所述固定件具有沿第一方向依次间隔设置的第一定位面和第二定位面，所述第一定位面用于在所述第一方向上定位所述靶材，所述第二定位面用于在所述第一方向上定位所述磁控管；及
[0007]调节件和测量机构，所述调节件连接于所述基座和所述测量机构之间，所述测量机构和所述调节件配置为所述测量机构能够相对所述调节件沿第二方向移动；
[0008]其中，所述磁控管面向所述靶材的一侧表面和所述第一定位面的其中之一为基准面，其中另一为测量面；所述测量机构沿所述第二方向移动的过程中，所述测量机构能够在所述第一方向上分别对位于所述基准面和所述测量面；所述测量机构用于依次在所述基准面和所述测量面分别确定一个点，并基于所确定的点确定所述基准面与所述测量面间的距离，作为所述靶磁间距；
[0009]所述第一方向和所述第二方向彼此垂直
。
[0010]在其中一个实施例中，所述测量机构包括探头和检测单元，所述探头和所述检测单元电连接；
[0011]所述探头配置为能够沿所述第一方向伸缩，用于在所述基准面和所述测量面分别确定所述一个点；
[0012]所述检测单元用于检测所述探头从所述基准面上确定的点到所述测量面上确定的点的位移信号，以确定所述基准面与所述测量面间的距离
。
[0013]在其中一个实施例中，所述间距测量装置还包括显示单元；
[0014]所述显示单元与所述测量机构电连接，所述显示单元用于显示所述靶磁间距
。
[0015]在其中一个实施例中，所述检测单元包括传感模块和数据处理模块，所述传感模块分别与所述数据处理模块和所述探头电连接；
[0016]所述传感模块用于依次检测所述探头对位于所述基准面和对位于所述测量面时的位移信号；所述数据处理模块用于基于所述位移信号确定所述基准面和所述测量面间的距离
。
[0017]在其中一个实施例中，所述检测单元配置为将所述探头在所述基准面上确定的点作为零点，将所述探头在所述测量面上确定的点作为移动点，根据所述探头在所述移动点的位移信号，确定所述基准面与所述测量面间的距离；或者
[0018]所述检测单元配置为根据所述探头对位于所述基准面时的位移信号和对位于所述测量面时的位移信号，确定位移差信号，以确定所述基准面和所述测量面间的距离
。
[0019]在其中一个实施例中，所述调节件上设有沿所述第二方向延伸设置的导向槽，所述测量机构可移动设于所述导向槽内；或者
[0020]所述调节件具有连接所述测量机构的调节端，所述调节端配置为能够沿所述第二方向伸缩以带动所述测量机构沿所述第二方向移动
。
[0021]在其中一个实施例中，所述调节件绕转动轴线可转动连接于所述基座，所述测量机构能够在所述调节件的转动下旋转；
[0022]所述转动轴线与所述第一方向彼此平行
。
[0023]在其中一个实施例中，所述测量机构配置为能够与所述磁控管以同一速度旋转
。
[0024]在其中一个实施例中，所述调节件包括彼此连接的转动部和连接部，所述转动部转动连接于所述基座，所述测量机构连接于所述连接部远离所述转动部的一端；
[0025]所述转动部用于将所述连接部转动以带动所述测量机构旋转
。
[0026]在其中一个实施例中，所述基座与所述固定件可拆卸连接
。
[0027]上述的间距测量装置中，间距测量装置至少包括基座
、
调节件和测量机构，基座用于安装至固定件，调节件连接于基座和测量机构之间，测量机构能够相对调节件沿第二方向移动，由于固定件的第一定位面是用于定位靶材的，第二定位面是用于定位磁控管的，因此，可以通过测量第一定位面和设于第二定位面上的磁控管面向靶材的一侧表面这两个面之间的距离作为靶磁间距
。
在测量时，可以将磁控管面向靶材的一侧表面和第一定位面的其中之一作为基准面，将磁控管靠近靶材的一侧表面和第一定位面的其中另一作为测量面，然后在测量机构沿第二方向移动的过程中，根据测量机构在基准面和测量面上分别确定的点，确定出基准面与测量面间的距离，从而提高了靶材到磁控管的间距的测量精度，减少了手工测量误差，满足了半导体制造的标准化作业要求
。
附图说明
[0028]图1为本申请一实施例中的间距测量装置的结构示意图
。
[0029]图2为图1中间距测量装置的部分结构示意图
。
[0030]附图标号说明：
[0031]1、
间距测量装置；
11、
基座；
12、
调节件；
121、
转动部；
122、
连接部；
13、
测量机构；
131、
探头；
132、
检测单元；
1321、
传感模块；
133、
机壳；
14、
显示单元；
2、
磁控管；
3、
固定件；
31、
阶梯部；
32、
第一配重盘；
33、
第二配重盘；
F1、
第一方向；
F2、
第二方向；
K1、
第一定位面；
K2、
第二定位面；
S、<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种间距测量装置，用于测量靶材和磁控管之间的靶磁间距，其特征在于，所述间距测量装置包括：基座，用于安装至固定件，所述固定件用于安装所述靶材和所述磁控管，所述固定件具有沿第一方向依次间隔设置的第一定位面和第二定位面，所述第一定位面用于在所述第一方向上定位所述靶材，所述第二定位面用于在所述第一方向上定位所述磁控管；及调节件和测量机构，所述调节件连接于所述基座和所述测量机构之间，所述测量机构和所述调节件配置为所述测量机构能够相对所述调节件沿第二方向移动；其中，所述磁控管面向所述靶材的一侧表面和所述第一定位面的其中之一为基准面，其中另一为测量面；所述测量机构沿所述第二方向移动的过程中，所述测量机构能够在所述第一方向上分别对位于所述基准面和所述测量面；所述测量机构用于依次在所述基准面和所述测量面分别确定一个点，并基于所确定的点确定所述基准面与所述测量面间的距离，作为所述靶磁间距；所述第一方向和所述第二方向彼此垂直
。2.
根据权利要求1所述的间距测量装置，其特征在于，所述测量机构包括探头和检测单元，所述探头和所述检测单元电连接；所述探头配置为能够沿所述第一方向伸缩，用于在所述基准面和所述测量面分别确定所述一个点；所述检测单元用于检测所述探头从所述基准面上确定的点到所述测量面上确定的点的位移信号，以确定所述基准面与所述测量面间的距离
。3.
根据权利要求2所述的间距测量装置，其特征在于，所述间距测量装置还包括显示单元；所述显示单元与所述测量机构电连接，所述显示单元用于显示所述靶磁间距
。4.
根据权利要求2所述的间距测量装置，其特征在于，所述检测单元包括传感模块和数据处理模块，所述传感模块分别与所述数据处理模块和所述探头电连接；所述传感模块用于依次检测所述探头对位于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李雨鹏，
申请(专利权)人：湖北江城芯片中试服务有限公司，
类型：新型
国别省市：