旋涂旋转平台制造技术

本实用新型专利技术属于基片处理技术领域，公开了一种旋涂旋转平台，该旋涂旋转平台包括旋转传动轴以及旋转平台，旋转平台连接旋转传动轴以被旋转传动轴驱动旋转，旋转平台上设置有吸附孔；而旋转平台上设置分隔壁，分隔壁周向包围吸附孔，若干分隔壁以吸附孔为中心向远离吸附孔的方向扩展分布，相邻分隔壁之间的距离相等

【技术实现步骤摘要】
旋涂旋转平台


[0001]本技术涉及基板处理
，尤其涉及一种旋涂旋转平台
。

技术介绍

[0002]在旋涂工艺中，基片样品是放在旋涂旋转平台上，通常采用真空吸附方式固定基片
。
在样品表面涂所需胶液，在高速旋转后达到均匀涂胶的目的
。
但是由于采用真空吸附方式，胶液又是被甩出基片表面，那么胶液就会在边沿处有残留
。
而真空吸附导致边沿处有气流向轴中心流动，进而导致胶液渗入基片和平台之间，最终流入真空吸附管
。
长时间之后真空吸附管就会堵塞
。
[0003]为解决此问题，现有技术中通常的做法是将平台做出台阶，这种做法可以解决胶液渗漏的问题，但是此时旋转平面与基片之间的距离已经不对等
。
当平台开始加热时，平台作为发热体，由于与基片距离不等，受热十分不均匀
。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种旋涂旋转平台，在避免胶液渗入的基础上解决受热均匀的问题
。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]旋涂旋转平台，包括：
[0007]旋转传动轴；
[0008]旋转平台，所述旋转平台连接所述旋转传动轴以被所述旋转传动轴驱动旋转，所述旋转平台上设置有吸附孔；
[0009]分隔壁，所述分隔壁设置在所述旋转平台上，所述分隔壁周向包围所述吸附孔，若干所述分隔壁以所述吸附孔为中心向远离所述吸附孔的方向扩展分布，相邻所述分隔壁之间的距离相等
。
[0010]作为优选，从外向内的第三层所述分隔壁至最内层的所述分隔壁上均设置有通气沟槽
。
[0011]作为优选，每层所述分隔壁上设置有多个所述通气沟槽
。
[0012]作为优选，从外向内第二层的所述分隔壁与最外层的所述分隔壁之间的所述旋转平台上设置有若干通孔，所述通孔贯穿所述旋转平台
。
[0013]作为优选，任意两个所述分隔壁的高度相同
。
[0014]作为优选，所述分隔壁与所述旋转平台一体成型
。
[0015]作为优选，所述吸附孔位于所述旋转平台的中心处
。
[0016]作为优选，所述旋转传动轴与所述分隔壁位于所述旋转平台的相对面
。
[0017]作为优选，所述吸附孔贯穿所述旋转平台与所述旋转传动轴
。
[0018]作为优选，所述旋转传动轴与所述旋转平台可拆卸连接
。
[0019]本技术的有益效果：
[0020]通过以吸附孔为中心，依次向外扩展分布若干分隔壁，从而当基片放置于分隔壁上时，能够被吸附孔进行吸附固定，而在进行旋转涂胶时，胶液被分隔壁阻挡，无法进入到吸附孔中，保证吸附孔不会堵塞；而由于相邻分隔壁之间的距离相等，从而使基片各部的受热均匀
。
附图说明
[0021]图1是本技术旋涂旋转平台的示意图；
[0022]图2是本技术旋涂旋转平台的俯视图；
[0023]图3是本技术旋涂旋转平台的剖面图；
[0024]图4是现有技术中旋涂旋转平台的示意图
。
[0025]图中：
[0026]1、
旋转传动轴；
2、
旋转平台；
3、
吸附孔；
4、
分隔壁；
5、
通气沟槽；
6、
通孔
。
具体实施方式
[0027]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明
。
可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定
。
另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构
。
[0028]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系
。
对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义
。
[0029]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触
。
而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征
。
第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征
。
[0030]在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、
等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位
、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制
。
此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义
。
[0031]目前在采用真空吸附的旋涂旋转平台，为了避免旋转时胶液渗漏的问题，平台经常做出台阶状，如图4所示
。
采用此种方式虽然解决了胶液渗漏的问题，但是当平台开始加热时，平台将作为发热体，由于平台与基片的距离不等，导致基片受热十分不均匀
。
由此，如图1至图3所示，本实施例提供一种旋涂旋转平台，该旋涂旋转平台包括旋转传动轴1以及旋转平台2，旋转平台2连接旋转传动轴1以被旋转传动轴1驱动旋转，旋转平台2上设置有吸附孔3；而旋转平台2上设置分隔壁4，分隔壁4周向包围吸附孔3，若干分隔壁4以吸附孔3为中心向远离吸附孔3的方向扩展分布，相邻分隔壁4之间的距离相等
。
[0032]从而通过以吸附孔3为中心，依次向外扩展分布若干分隔壁4，从而当基片放置于分隔壁4上时，能够被吸附孔3进行吸附固定，而在进行旋转涂胶时，胶液被分隔壁4阻挡，无法进入到吸附孔3中，保证吸附孔3不会堵塞；而由于相邻分隔壁4之间的距离相等，从而使基片各部的受热均匀
。
[0033]下面详细介绍本实施例，如图1至图3所示，本实施例提供一种旋涂旋转平台，涂旋旋转平台包括旋转传动轴1和旋转平台2，旋转平台2连接旋转传动轴1以被旋转传动轴1驱动旋转
。
具体的，旋转传动轴1位于旋转平台2的下表面，旋转传动轴1与旋转平台2可拆卸连接，可以根据使用环境对旋转平台2进行更换
。
示例性的，二者可以采用螺栓进行连接
。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
旋涂旋转平台，其特征在于，包括：旋转传动轴
(1)
；旋转平台
(2)
，所述旋转平台
(2)
连接所述旋转传动轴
(1)
以被所述旋转传动轴
(1)
驱动旋转，所述旋转平台
(2)
上设置有吸附孔
(3)
；分隔壁
(4)
，所述分隔壁
(4)
设置在所述旋转平台
(2)
上，所述分隔壁
(4)
周向包围所述吸附孔
(3)
，若干所述分隔壁
(4)
以所述吸附孔
(3)
为中心向远离所述吸附孔
(3)
的方向扩展分布，相邻所述分隔壁
(4)
之间的距离相等
。2.
根据权利要求1所述的旋涂旋转平台，其特征在于，从外向内的第三层所述分隔壁
(4)
至最内层的所述分隔壁
(4)
上均设置有通气沟槽
(5)。3.
根据权利要求2所述的旋涂旋转平台，其特征在于，每层所述分隔壁
(4)
上设置有多个所述通气沟槽
(5)。4.
根据权利要求2所述的旋涂旋转平台，其特征在于，从外向内第二层的所述分隔壁
(4)
与最外层的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈健健，刘研学，童翔，
申请(专利权)人：北京石墨烯研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：