偏光膜的制造方法技术

技术编号:3963004 阅读:229 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术为一种偏光膜的制造方法,对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理,在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸,其中,将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时,使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率为0.7~0.98,或者,将洗净处理前的膜宽设为A、将洗净处理后的膜宽设为B时,使一次洗净处理前后的A/B为0.97~1.03。根据本发明专利技术能够提供具有无颜色偏差、无异物缺陷、无打痕等良好外观的偏光膜的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种外观良好的。
技术介绍
一直以来,采用使二色性色素吸附到聚乙烯醇系膜上并发生取向而得到的膜作为 偏光膜。也就是说,众所周知有将碘作为二色性色素的碘系偏光膜、将二色性染料作为二色 性色素的染料系偏光膜等。通常,这些偏光膜在其至少一面、优选两面上通过由聚乙烯醇系 树脂的水溶液等构成的胶粘剂贴合三乙酰纤维素等保护膜,制成偏光板。作为,众所周知有如下的方法使用轧辊、导向辊,用所述二色 性色素对聚乙烯醇系膜进行染色并将其延伸,随后为了使碘固着在膜上对聚乙烯醇系膜进 行硼酸处理,进行水洗等洗净处理,然后干燥。但是,在上述制造方法中,在所述洗净处理中存在以下降低外观的问题在膜上发 生起皱、或因硼酸处理引起的硼酸化合物在膜表面析出而发生异物缺陷、在所得的偏光膜 上发生颜色偏差、异物缺陷、打痕等。例如,在JP-3979688-B2中记载有,作为光学性能、尺寸稳定性良好的偏光膜的制 造方法,膜中的硼原子含量为规定值。根据该文献的记载,利用水洗处理能够调整偏光膜中 的硼原子含量。但是,在JP-3979688-B2中没有记载洗净处理前后的膜中的硼化合物的具体含 量,现状是即使使用JP-本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏光膜的制造方法,对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理,在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸,其中,将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时,使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率X/Y为0.7~0.98。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:纲谷圭二难波明生
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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