高透明导电性位相差胶膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高透明导电性位相差胶膜，包括导电性离型膜及一侧涂有透明导电性胶层的位相差膜，其中位相差膜另一侧涂有抗刮伤防污导电层。其特征在于：具有透明导电性胶层的抗刮伤防污导电性位相差膜可全面提高清晰度，使得被贴附物在加工生产过程中，如遇到质量异常情形，目视即可发现，增加实质生产量，并节省质量检验时间。同时高透明导电性位相差胶膜在撕离导电性离型膜另贴被贴物，消除静电的产生，避免静电危害。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种高透明导电性位相差胶膜，尤其涉及一种维持高 清晰度并具有防止静电产生功能的构造，该胶膜利用涂有透明导电性胶层 的抗刮伤防污导电性位相差膜，令被贴附物的目视效果长期清晰，除了加 工全程不产生静电外，生产完成后，可直接用于高清晰度物品上，省去了 更换新保护胶膜的过程，也节省了购置新保护胶膜的费用。
技术介绍
一般胶膜因高透明度及耐破坏性，广泛应用于事务用品或视频产品。如图1和2所示，传统的胶膜D是在离型膜和塑胶膜R、 P之间涂一 层胶体B，当撕去离型膜R后，以胶体和塑胶膜P贴附于物品上起保护作 用。为了不占使用空间， 一般的胶膜D是按图3所示成巻存放。由于一般胶膜具有透明度，但塑胶膜本身的厚度对于光线会产生不同 的折射，以致被贴附物无法保持清晰度，所以较难应用于生产线与质量检 验出货等多重流程。
技术实现思路
为使上述问题获得改善，设计人特别设计了一种"高透明导电性位相 差胶膜"，将透明导电性胶涂在位相差膜的一侧上，相对于位相差膜的另 一侧上涂有抗刮伤防污导电层，以达到胶膜撕离再贴合不产生静电同时保 持胶膜高清晰度的效果，这是本技术的主要目的。为实现以上的技术目的，以下技术手段又不受其限制，本实用新 型的技术手段有导电性离型膜及涂有透明导电胶层的抗刮伤防污导电性 位相差膜，其特征在于，位相差膜的一侧涂有透明导电性胶层，位相差膜 的另一侧涂有抗刮伤防污导电层。另外，导电性离型膜，即塑胶薄膜一面 涂有离型剂，另一面涂有导电剂。离型膜是使涂有透明导电性胶层的抗刮 伤防污导电性位相差膜能被巻状和片状使用的必备附属品，适用各样加工 品。由于位相差膜的分子链产生机械方向的顺向角如果使用在光学品上， 再涂有抗刮伤防污导电层则提高清晰度。本新型内容中的透明导电性胶 层，是消除静电及重复撕贴胶达到被贴物实质的保护，使被贴附物在应用 于加工生产等多重流程后，保持清晰的目视效果，同时不必更换新的保护 胶膜。附图说明图l:传统胶膜的外观图。 图2:图l的局部剖视图。 图3:胶膜的存放状态图。 图4:传统胶膜的使用状态图。 图5:本技术胶膜的JBSC剖视图。 图6:本技术的SCS剖视图。 图7:本技术的JBS剖视图。 主要元件标记说明J 位相差膜JS 抗刮伤防污导电层Sl 导电剂p 塑胶薄膜R —般离型膜BS 透明导电性胶层B —般胶层C 离型剂scs 导电性离型膜JBS 导电性抗刮伤防污位相差膜JBSC 涂有透明导电性胶层的抗刮伤防污导电性位相差膜F 静电D —般胶膜具体实施方式请参照图5，观察本技术的高透明导电性位相差胶膜的剖视 图。图中清楚显示，本技术的胶膜包括导电性离型膜SCS、位相 差膜J及涂有位相差膜的一侧透明导电性胶层BS、另一侧涂有抗刮 伤防污导电层JS。导电性离型膜SCS，即塑胶膜一面先涂导电剂S1， 再接着涂离型剂C，另一面涂导电剂Sl;导电性抗刮伤防污位相差 膜JBS，即位相差膜J一侧涂抗刮伤防污导电层JS，另一侧涂透明导 电性胶层BS。本技术是导电性离型膜SCS，如图6所示，和导 电性抗刮伤防污位相差膜JBS，如图7所示。高透明导电性位相差胶膜由于具有透明导电性胶层BS，因此贴 合或撕离多次也不会产生静电F，且涂有透明导电性胶层的抗刮伤防 污导电性位相差膜可使被贴附物保持目视清晰度，达到全面高清晰效 果。权利要求1.一种高透明导电性位相差胶膜，其包含位相差膜；及透明导电性胶层；其特征在于，所述透明导电性胶层位于所述位相差膜的一侧。2. 根据权利要求1所述的位相差胶膜，其特征在于，还包含抗刮伤防 污导电层，所述抗刮伤防污导电层相对于所述透明导电性胶层位于所述位 相差膜的另一侧。3. 根据权利要求1或2所述的高透明导电性位相差胶膜，其特征在于， 还包含离型膜，其中所述离型膜包含以下特征塑胶膜及离型层。专利摘要本技术公开了一种高透明导电性位相差胶膜，包括导电性离型膜及一侧涂有透明导电性胶层的位相差膜，其中位相差膜另一侧涂有抗刮伤防污导电层。其特征在于具有透明导电性胶层的抗刮伤防污导电性位相差膜可全面提高清晰度，使得被贴附物在加工生产过程中，如遇到质量异常情形，目视即可发现，增加实质生产量，并节省质量检验时间。同时高透明导电性位相差胶膜在撕离导电性离型膜另贴被贴物，消除静电的产生，避免静电危害。文档编号G02B5/30GK201072451SQ20072000521公开日2008年6月11日 申请日期2007年2月27日 优先权日2007年2月27日专利技术者叶隆泰 申请人:叶隆泰本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高透明导电性位相差胶膜，其包含：　　　　位相差膜；及　　　　透明导电性胶层；　　　　其特征在于，所述透明导电性胶层位于所述位相差膜的一侧。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：叶隆泰，
申请(专利权)人：叶隆泰，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]