一种铝钼蚀刻液制造技术

本发明专利技术涉及一种铝钼蚀刻液，其特征是它包括以下重量百分比的组份：磷酸６０～８０、硝酸１～１０、醋酸钠１～１０、非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚、０．１～０．５、水１０～３０。本发明专利技术具有蚀刻角度和蚀刻量能满足客户要求和提高蚀刻产品优良率的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种铝钼蚀刻液，尤其涉及一种用于铝层和钼层的蚀刻的铝钼蚀刻液。二
技术介绍
铝钼蚀刻液，本品为无色透明液体，有酸性气味，该产品主要用作半导体或FPD面 板制程中铝层和钼层的蚀刻，目前铝钼蚀刻液主要由磷酸、硝酸和醋酸组成；该铝钼蚀刻液 主要存在以下几点缺点 ①铝钼蚀刻液蚀刻角度难以控制，无法满足不同客户对蚀刻角度的需求，使用效 果不是很好，影响产品的良率； ②铝钼蚀刻液对金属层的蚀刻量难以控制，无法满足不同客户对蚀刻角度的需 求，容易时刻过量，也会影响到产品的优良率。三、
技术实现思路
针对上述缺点，本专利技术的目的在于提供一种蚀刻角度和蚀刻量能满足客户要求和 提高蚀刻产品优良率的铝钼蚀刻液。 本专利技术的
技术实现思路
为，一种铝钼蚀刻液，其特征是它包括以下重量百分比的组份 磷酸 60 80 硝酸 1 10 醋酸钠 1 10 非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚 0. 1 0. 5 水 10 30。 本专利技术的铝钼蚀刻液的制备方法为常规工艺，即为将原料磷酸、硝酸、醋酸钠、非 离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚和水按比例打入调配罐中，经过O. 5um过滤器循环 过滤，表面张力，达到所需要求；经O. 2iim的过滤器过滤，以去除混合液中粒径大于O. 2iim 的有害粒子，即得铝钼蚀刻液。 本专利技术的铝钼蚀刻液在原有工艺的基础上，引入了醋酸钠和聚氧乙烯烷基苯基 醚，使其在不影响产品质量的前提下，提高了产品的功能性，使其在刻蚀角度、刻蚀量上达 到客户所需。 本专利技术与现有技术相比所具有的优点是 1、本专利技术的铝钼蚀刻液引入的醋酸钠起到了缓冲剂的作用，使刻蚀速度得到控 制，从而达到控制住刻蚀角度的要求；能满足不同客户对刻蚀角度的要求。 2、本专利技术的铝钼蚀刻液中加入了非离子型界面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚，使产 品对金属层的渗透性提高，从而达到控制刻蚀量的要求，能满足不同客户对刻蚀量的要求。四具体实施例方式下面通过实施例进一步描述本专利技术，但未限于所举的实施例。 浓度为85重量％的磷酸，电子级，江阴澄星磷化工有限公司生产，其指标如表1 <table>table see original document page 4</column></row><table> 表1 浓度为70重量％的硝酸，电子级，江阴市江化微电子材料有限公司生产，其指标如表2 <table>table see original document page 5</column></row><table> 表2 纯度为99%的醋酸钠，优等品，无锡市优利森化工产品有限公司生产，其指标如表3 <table>table see original document page 6</column></row><table> 表3 浓度为99重量％的非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚，优等品，南京威尔化工有限公司，其指标如表4<table>table see original document page 6</column></row><table> 表4 例1、称取磷酸72kg，在搅拌下加入硝酸10kg，充分搅拌均匀，加入醋酸钠5kg，循 环搅拌1小时，加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚O. 15kg，加水至100kg，循环搅拌 1小时后，将制得的混合物经0. 2 ii m的过滤器过滤，以去除混合物中粒径大于0. 2 ii m的有 害粒子，即得铝钼蚀刻液。 例2、称取磷酸72kg，在搅拌下加入硝酸10kg，充分搅拌均匀，加入醋酸钠5kg，循 环搅拌1小时，加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚0. 2kg，加水至100kg，循环搅拌1 小时后，将制得的混合物经0. 2 ii m的过滤器过滤，以去除混合物中粒径大于0. 2 ii m的有害 粒子，即得铝钼蚀刻液。 例3、称取磷酸72kg，在搅拌下加入硝酸10kg，充分搅拌均匀，加入醋酸钠5kg，循 环搅拌1小时，加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚O. 3kg，加水至100kg，循环搅拌1 小时后，将制得的混合物经O. 2ym的过滤器过滤，以去除混合物中粒径大于O. 2ym的有害 粒子，即得铝钼蚀刻液。 例4、称取磷酸72kg，在搅拌下加入硝酸10kg，充分搅拌均匀，加入醋酸钠5kg，循 环搅拌1小时，加入非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基醚0. 4kg，加水至100kg，循环搅拌1小时后，将制得的混合物经O. 2ym的过滤器过滤，以去除混合物中粒径大于O. 2ym的有害 粒子，即得铝钼蚀刻液。权利要求一种铝钼蚀刻液，其特征是它包括以下重量百分比的组份磷酸 60～80硝酸 1～10醋酸钠1～10非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚 0.1～0.5水10～30。全文摘要本专利技术涉及一种铝钼蚀刻液，其特征是它包括以下重量百分比的组份磷酸60～80、硝酸1～10、醋酸钠1～10、非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚、0.1～0.5、水10～30。本专利技术具有蚀刻角度和蚀刻量能满足客户要求和提高蚀刻产品优良率的优点。文档编号C23F1/26GK101792907SQ201010139060公开日2010年8月4日 申请日期2010年4月1日 优先权日2010年4月1日专利技术者朱龙, 栾成, 殷福华, 邵勇 申请人:江阴市江化微电子材料有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铝钼蚀刻液，其特征是它包括以下重量百分比的组份　　磷酸　６０～８０　　硝酸　１～１０　　醋酸钠　１～１０　　非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚　０．１～０．５　　水　１０～３０。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：殷福华，栾成，邵勇，朱龙，
申请(专利权)人：江阴市江化微电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]