【技术实现步骤摘要】
用于调节等离子体均匀性的可变控制板及调节方法
[0001]本专利技术属于等离子体源控制技术，尤其涉及一种用于调节等离子体均匀性的可变控制板及调节方法
。
技术介绍
[0002]在半导体制造
、
材料表面处理等领域中，等离子体设备被广泛使用，其中等离子体中电子温度
、
电子密度
、
离子密度
、
离子温度对于处理物表面的化学反应
、
粒子轰击等效应具有重要影响，往往在不同工艺中需要对其进行控制
。
现有技术主要利用三种方式进行等离子体参数控制：
1)
利用多个射频源，通过不同射频源功率的调整，实现离子能量和通量的控制，比较常见的如图1所示的底部
、
侧部两个不同频射频源用于粒子能量控制，这种方式可以实现良好的效果，但是由于需要两套射频系统，成本高昂，控制系统复杂；
2)
利用网孔板加直流偏压，这种方式通过控制网孔板的电压高低
、
正负，来实现对电子
、<...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种用于调节等离子体均匀性的可变控制板，其特征在于，包括：至少两层网格板，均为一金属圆板，相邻网格板之间通过同一根转轴转动连接，其中一层网格板与其余层网格板之间可相对转动，以控制调节开口和金属孔的开合大小；若干所述调节开口，其靠近网格板中心的面积，小于其靠近网格板边缘的面积，以用于通过高能电子和离子，以改善等离子体中心强四周弱的非均匀分布，其开设于每层所述网格板上；所述金属孔，与调节开口配合以用于对温度进行调节，所述金属孔位于相邻所述调节开口之间，其开设于每层所述网格板上
。2.
根据权利要求1所述的用于调节等离子体均匀性的可变控制板，其特征在于，所述转轴设置于网格板的中心处；调节开口关于中心处对称设置
。3.
根据权利要求2所述的用于调节等离子体均匀性的可变控制板，其特征在于，所述转轴依次穿过所有网格板，其固定于其中一层网格板上，其通过轴承安装于其余层网格板上
。4.
根据权利要求3所述的用于调节等离子体均匀性的可变控制板，...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨平，
申请(专利权)人：上海稷以科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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