一种外延设备用晶圆传送系统及传送方法技术方案

本发明专利技术公开了一种外延设备用晶圆传送系统及传送方法，包括：料腔

【技术实现步骤摘要】
一种外延设备用晶圆传送系统及传送方法


[0001]本专利技术属于外延设备
，具体涉及一种外延设备用晶圆传送系统及传送方法
。

技术介绍

[0002]目前，外延炉是通过机械手将晶圆从上料腔传至传送腔再传至反应室，待反应生长完后，再使用机械手将反应室内晶圆取至传送腔，最后送回下料腔
。
[0003]当前晶圆传送系统的传送方法存在以下缺点：
[0004]1、
在晶圆传送进入反应室过程中，沿路上的颗粒
、
副产物落在晶圆表面，导致外延过程中形成缺陷，影响外延层质量
。
[0005]2、
在晶圆传送进入反应室过程中，冷的晶圆进入热腔室内，晶圆表面骤热发生应力变化，影响晶圆翘曲，导致膜厚与掺杂浓度均匀性不受生长工艺调控，严重时更会直接开裂
。
[0006]3、
在晶圆传回至下料腔过程中，热晶圆容易受下料腔内气氛影响表面状态，严重时被氧化，破坏外延层质量
。
[0007]4、
无法避免晶圆骤热和过热，全程采用极其缓慢的传输速度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种外延设备用晶圆传送系统，其特征在于，包括：料腔
(1)、
机械手
(2)、
传送腔
(3)、
门阀
(4)、
反应室
(5)、
测温探头
(6)、
热偶
(7)
和介质流道
(9)
；所述传送腔
(3)
的输入端和输出端分别通过门阀
(4)
与料腔
(1)
和反应室
(5)
连接；所述传送腔
(3)
内设有机械手
(2)
和多个热偶
(7)
，传送腔
(3)
顶部外侧设有多个测温探头
(6)
，所述机械手
(2)
用于实现晶圆在料腔
(1)、
传送腔
(3)
和反应室
(5)
之间传送，所述测温探头
(6)
用于监测晶圆在传送过程中的温度变化，所述热偶
(7)
用于监测传送腔
(3)
内的温度变化；所述传送腔
(3)
外侧设有介质流道
(9)
，所述介质流道
(9)
通入介质，以实现晶圆在传送腔
(3)
内加热或降温；所述料腔
(1)、
机械手
(2)
和传送腔
(3)
中均设有多个独立控制的吹扫口，用于实现传送过程中的晶圆保持吹扫状态
。2.
根据权利要求1所述的外延设备用晶圆传送系统，其特征在于，所述介质流道
(9)
包括多条平行设置的子流道，各子流道独立控制通断，并独立控制输入的介质种类；晶圆由料腔
(1)
上料至反应室
(5)
的过程中，介质流道
(9)
内通入热介质对晶圆进行加热；晶圆由反应室
(5)
下料至料腔
(1)
的过程中，介质流道
(9)
内通入冷介质对晶圆进行冷却
。3.
根据权利要求2所述的外延设备用晶圆传送系统，其特征在于，多个所述测温探头
(6)
均布在传送腔
(3)
的输入端和输出端之间
。4.
根据权利要求3所述的外延设备用晶圆传送系统，其特征在于，多个热偶
(7)
均布在传送腔
(3)
的输入端和输出端之间，且热偶
(7)
的分布与介质流道
(9)
的子流道分布相匹配
。5.
根据权利要求4所述的外延设备用晶圆传送系统，其特征在于，还包括载片盘
(8)
，所述载片盘
(8)
用于承载晶圆；机械手
(2)
的机械手指
(21)
用于抓取载片盘
(8)
，且机械手指
(21)
上部和底部设有多个独立控制的吹扫口，以实现对晶圆表面和底部进行吹扫
。6.
根据权利要求5所述的外延设备用晶圆传送系统，其特征在于，所述料腔
(1)
上设有料腔吹扫口
(11)
；所述传送腔
(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：巴赛，胡凡，巩小亮，万胜强，刘柱，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十八研究所，
类型：发明
国别省市：