一种蒸镀装置和蒸镀方法制造方法及图纸

本申请公开一种蒸镀装置和蒸镀方法

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀装置和蒸镀方法


[0001]本申请涉及蒸镀
，尤其涉及一种蒸镀装置和蒸镀方法
。

技术介绍

[0002]蒸镀是指在一定的真空条件下加热被蒸镀材料，使其熔化
(
或升华
)
并形成原子
、
分子或原子团组成的蒸汽，凝结在基材表面成膜的技术
。
蒸镀是使用较早
、
用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单
、
薄膜纯度和致密性高
、
膜结构和性能独特等优点
。
蒸镀制备膜层结构，得到越来越广泛的应用
。
例如，在
OLED
等光电器件的制备过程中，通常也采用蒸镀制备空穴功能层等膜层
。
[0003]但真空蒸镀形成的薄膜经常会出现厚度不均匀，比如使用点源进行蒸镀时，通常基板中心区域的薄膜偏厚，而基板边缘区域的薄膜偏薄，尤其对大尺寸的基板进行蒸镀时，厚度不均匀的现象更加明显
。
而蒸镀薄膜的膜厚不均匀，会严重影响包括此薄膜的装置或者设备的性能，比如导致
OLED
器件显示不均匀等
。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请提供一种蒸镀装置和蒸镀方法，旨在改善蒸镀薄膜的膜厚不均匀的问题
。
[0005]本申请实施例是这样实现的，提供一种蒸镀装置，包括：壳体，所述壳体限定出蒸镀腔；蒸发源，所述蒸发源设置在所述蒸镀腔的底部；承载件，所述承载件设置在所述蒸镀腔的顶部，且与所述蒸发源相对设置，所述承载件用于承载待蒸镀基板；厚度调节组件，所述厚度调节组件设置在所述蒸发源与所述承载件之间，所述厚度调节组件包括调节杆以及设置在所述调节杆上的至少一个球状体，所述调节杆位于平行于所述待蒸镀基板的平面上；其中，所述调节杆以所述待蒸镀基板的垂直平分线为轴线进行周向转动；或者，所述调节杆沿所述待蒸镀基板的一端指向相对的另一端的方向上进行往复运动
。
[0006]可选的，在本申请的一些实施例中，位于所述调节杆中心区域的所述球状体的数量大于位于所述调节杆端部区域的所述球状体的数量
。
[0007]可选的，在本申请的一些实施例中，靠近所述调节杆端部一侧且相邻的两个所述球状体之间的距离大于等于靠近所述调节杆中心一侧且相邻的两个所述球状体之间的距离
。
[0008]可选的，在本申请的一些实施例中，沿所述调节杆的中心朝所述调节杆任意一个端部的方向上，单位长度上所述球状体的数量逐渐减小；和
/
或沿所述调节杆的中心朝所述调节杆任意一个端部的方向上，相邻的两个所述球状体的距离逐渐增大
。
[0009]可选的，在本申请的一些实施例中，所述调节杆进行周向转动的转速为
0.1
～
1000rpm
，或者，所述调节杆进行往复运动的速度为
0.1
～
10m/s
；和
/
或各所述球状体被配置为在所述调节杆上的位置可调，相邻的两个所述球状体的间距为1～
10000
微米；和
/
或各所述球状体被配置为温度可调，温度为
25
～
1500℃
；和
/
或所述球状体的直径为1～
10000
微
米
。
[0010]可选的，在本申请的一些实施例中，所述蒸发源包括多个子蒸发源；其中，所述多个子蒸发源依次间隔设置且呈环形；或者，所述多个子蒸发源依次间隔设置且呈线性排列
。
[0011]可选的，在本申请的一些实施例中，所述厚度调节组件还包括：升降部，所述升降部设置在所述蒸发源的边缘，所述调节杆的两端与所述升降部连接，所述升降部用于调节所述调节杆与所述蒸发源的间距；其中，所述调节杆与所述蒸发源的间距为
0.1m
～
10m。
[0012]可选的，在本申请的一些实施例中，所述调节杆和所述球状体的材料分别独立地选自金属
、
合金
、
尼龙纤维或者碳纤维的一种或多种
。
[0013]相应的，本申请实施例还提供一种蒸镀方法，应用于蒸镀装置，所述蒸镀装置包括限定出蒸镀腔的壳体
、
设置在所述蒸镀腔的底部的蒸发源
、
以及设置在所述蒸镀腔的顶部且与所述蒸发源相对设置的承载件；
[0014]所述蒸镀方法包括：
[0015]对承载在所述承载件上的测试基板进行蒸镀形成测试薄膜；
[0016]基于所述测试薄膜的膜厚分布信息以及所述蒸发源的种类，确定所述厚度调节组件的特征信息，其中，所述厚度调节组件包括调节杆以及设置在所述调节杆上的至少一个球状体，所述调节杆位于平行于所述测试基板的平面上；
[0017]根据所述厚度调节组件的特征信息，将所述厚度调节组件置于所述蒸发源与承载在所述承载件上的待蒸镀基板之间且平行于所述待蒸镀基板，以及控制所述调节杆以所述待蒸镀基板的垂直平分线为轴线进行周向转动，或者控制所述调节杆沿所述待蒸镀基板的一端指向相对的另一端的方向上进行往复运动，以在所述待蒸镀基板上蒸镀形成第一薄膜
。
[0018]可选的，在本申请的一些实施例中，所述蒸发源为点蒸发源时，控制所述调节杆以所述待蒸镀基板的垂直平分线为轴线进行周向转动；或者，所述蒸发源为线蒸发源时，控制所述调节杆沿所述待蒸镀基板的一端指向相对的另一端的方向上进行往复运动
。
[0019]可选的，在本申请的一些实施例中，所述基于所述测试薄膜的膜厚分布信息以及所述蒸发源的种类，确定厚度调节组件的特征信息，包括：基于所述测试薄膜的膜厚分布信息以及所述蒸发源的种类，确定厚度调节组件的初始特征信息；根据所述初始特征信息，设置所述厚度调节组件，以及控制所述调节杆进行周向转动或往复运动，以蒸镀形成测试调整薄膜；基于所述测试调整薄膜的膜厚分布信息，调整所述初始特征信息得到所述厚度调节组件的特征信息
。
[0020]可选的，在本申请的一些实施例中，所述对承载在所述承载件上的测试基板进行蒸镀形成测试薄膜之后，包括：基于所述测试薄膜的膜厚分布信息，判断膜厚分布是否满足预设膜厚范围；若不满足，则执行所述基于所述测试薄膜的膜厚分布信息以及所述蒸发源的种类，确定所述厚度调节组件的特征信息
。
[0021]可选的，在本申请的一些实施例中，所述在所述待蒸镀基板上蒸镀形成第一薄膜之后，还包括：在所述调节杆两端施加电压进行加热，蒸发去除所述调节杆及所述球状体上附着的蒸镀材料
。
[0022]可选的，在本申请的一些实施例中，所述厚度调节组件的特征信息包括所述厚度调节组件的结构信息
、
所述厚度调节组件的运动信息
、
所述调节杆的高度信息；其中，所述
调节杆的高度信息为所述调节杆与所述蒸发源的间距本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种蒸镀装置，其特征在于，包括：壳体，所述壳体限定出蒸镀腔；蒸发源，所述蒸发源设置在所述蒸镀腔的底部；承载件，所述承载件设置在所述蒸镀腔的顶部，且与所述蒸发源相对设置，所述承载件用于承载待蒸镀基板；厚度调节组件，所述厚度调节组件设置在所述蒸发源与所述承载件之间，所述厚度调节组件包括调节杆以及设置在所述调节杆上的至少一个球状体，所述调节杆位于平行于所述待蒸镀基板的平面上；其中，所述调节杆以所述待蒸镀基板的垂直平分线为轴线进行周向转动；或者，所述调节杆沿所述待蒸镀基板的一端指向相对的另一端的方向上进行往复运动
。2.
根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，位于所述调节杆中心区域的所述球状体的数量大于位于所述调节杆端部区域的所述球状体的数量
。3.
根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，靠近所述调节杆端部一侧且相邻的两个所述球状体之间的距离大于等于靠近所述调节杆中心一侧且相邻的两个所述球状体之间的距离
。4.
根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，沿所述调节杆的中心朝所述调节杆任意一个端部的方向上，单位长度上所述球状体的数量逐渐减小；和
/
或沿所述调节杆的中心朝所述调节杆任意一个端部的方向上，相邻的两个所述球状体的距离逐渐增大
。5.
根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述调节杆进行周向转动的转速为
0.1
～
1000rpm
，或者，所述调节杆进行往复运动的速度为
0.1
～
10m/s
；和
/
或各所述球状体被配置为在所述调节杆上的位置可调，相邻的两个所述球状体的间距为1～
10000
毫米；和
/
或各所述球状体被配置为温度可调，温度为
25
～
1500℃
；和
/
或所述球状体的直径为1～
10000
微米
。6.
根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发源包括多个子蒸发源；其中，所述多个子蒸发源依次间隔设置且呈环形；或者，所述多个子蒸发源依次间隔设置且呈线性排列
。7.
根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述厚度调节组件还包括：升降部，所述升降部设置在所述蒸发源的边缘，所述调节杆的两端与所述升降部连接，所述升降部用于调节所述调节杆与所述蒸发源的间距；其中，所述调节杆与所述蒸发源的间距为
0.1m
～
10m。8.
根据权利要求1‑7任一项所述的蒸镀装置，其特征在于，所述调节杆和所述球状体的材料分别独立地选自金属
、
合金

【专利技术属性】
技术研发人员：魏雄伟，李启立，董婷，付东，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：