一种单片旋转式显影单元装置和半导体生产设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种单片旋转式显影单元装置和半导体生产设备，属于半导体设备技术领域，单片旋转式显影单元装置包括卡托和真空吸盘，真空吸盘安装在卡托的正中心，且真空吸盘的吸附面高于卡托的顶面；吸附面用于吸附晶圆并带动晶圆旋转；卡托的顶面设置有多个出气孔，多个出气孔以真空吸盘的正中心为圆心呈圆形分布且靠近晶圆底部轮廓的边缘；出气孔用于外接供气机并通过喷出气体以吹走位于晶圆底部轮廓的边缘的液体

【技术实现步骤摘要】
一种单片旋转式显影单元装置和半导体生产设备


[0001]本技术属于半导体设备
，特别涉及一种单片旋转式显影单元装置和半导体生产设备
。

技术介绍

[0002]单片旋转式显影技术指的是将带有被曝光的光刻胶膜层的晶片放置在显影单元装置进行单片式显影作业，具体为，单片晶圆被承载且被驱动旋转，然后通过显影液冲洗晶圆顶部
。
[0003]显影作业过程中，显影液往往会沿晶圆的轮廓边缘流动到晶圆的背面，导致晶圆背面出现渗液现象，渗液现象的出现直接影响到晶圆背面的洁净度，进而直接影响晶圆在后续作业的良品率
。
[0004]因此，现有技术有待改进和发展
。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供了一种单片旋转式显影单元装置和半导体生产设备，在晶圆进行显影作业时能够有效防止显影液流动到晶圆背面，从而保证晶圆背面的洁净度
。
[0006]第一方面，本技术提供一种单片旋转式显影单元装置，包括卡托和真空吸盘，所述真空吸盘安装在所述卡托的正中心，且所述真空吸盘的吸附面高于所述卡托的顶面；所述吸附面用于吸附晶圆并带动所述晶圆旋转；
[0007]所述卡托的顶面设置有多个出气孔，多个所述出气孔以所述真空吸盘的正中心为圆心呈圆形分布且靠近所述晶圆底部轮廓的边缘；所述出气孔用于外接供气机并通过喷出气体以吹走位于所述晶圆底部轮廓的边缘的液体
。
[0008]本技术提供的单片旋转式显影单元装置，利用呈圆形分布的多个出气孔对晶圆底面喷气，阻碍显影液流向晶圆背面并吹走显影液，达到保持晶圆背面洁净的效果
。
[0009]进一步的，所述卡托的顶面设置有多个定位孔，多个所述定位孔以所述真空吸盘的正中心为圆心呈圆形分布且靠近所述晶圆底部轮廓的边缘，每个所述定位孔均插接有一个导气管，每个所述导气管的出气端均设置有一个所述出气孔，所述出气孔位于所述导气管背向所述真空吸盘的一侧且呈斜向上的角度倾斜设置，以使气体对准所述晶圆底部轮廓的边缘从所述出气孔喷出
。
[0010]倾斜设置的出气孔能够使气体喷射到晶圆底部轮廓的边缘位置，使得晶圆底部轮廓的边缘位置也能够保持洁净
。
[0011]进一步的，所述定位孔设置有沿所述定位孔轴向方向延伸的凹槽；所述导气管设置有沿所述定位孔轴向方向延伸的凸台；所述导气管通过所述凸台与所述凹槽配合在所述定位孔中进行周向定位
。
[0012]设置凸台和凹槽能够便于用户在定位孔中插接导气管时确定导气管的朝向
。
[0013]进一步的，所述卡托的底部设置有积水槽，所述积水槽用于承接液体
。
[0014]通过积水槽回收显影液有利于使设备内部保持洁净
。
[0015]进一步的，所述卡托设置有导流斜面，所述导流斜面与所述卡托的顶面连接以使液体沿导流斜面的表面流动到所述积水槽中
。
[0016]进一步的，所述积水槽设置有出水口，所述积水槽底面的高度沿远离所述出水口的方向逐渐增加
。
[0017]进一步的，所述吸附面设置有吸附孔，所述真空吸盘通过外接真空泵使所述吸附面通过所述吸附孔吸附所述晶圆
。
[0018]进一步的，所述吸附面的直径小于所述晶圆的直径
。
[0019]进一步的，所述吸附面的直径为所述晶圆的直径的
1/4
‑
2/3。
[0020]第二方面，本技术提供的一种半导体生产设备，包括上述的单片旋转式显影单元装置
。
[0021]由上可知，本技术的单片旋转式显影单元装置，通过在晶圆底部（即卡托顶面）设置出气孔进行喷气，晶圆在显影作业过程中，显影液从晶圆的轮廓边缘流动到背面时，出气孔喷出的气体会阻碍显影液流动并吹走显影液，进而防止显影液流向晶圆背面，有效保证晶圆背面洁净
。
[0022]本技术的其他特征和优点将在随后的说明书阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术实施例了解
。
本技术的目的和其他优点可通过在所写的说明书
、
以及附图中所特别指出的结构来实现和获得
。
附图说明
[0023]图1为本技术实施例提供的一种单片旋转式显影单元装置与晶圆的爆炸图
。
[0024]图2为图1中标号为
a
的局部结构示意图
。
[0025]图3为本技术实施例提供的一种单片旋转式显影单元装置安装晶圆后的侧视图
。
[0026]图4为图3中标号为
b
的局部结构示意图
。
[0027]图5为本技术实施例提供的一种单片旋转式显影单元装置在其中一种视角下的剖视图
。
[0028]图6为本技术实施例提供的一种单片旋转式显影单元装置在另一种视角下的剖视图
。
[0029]标号说明：
[0030]100、
卡托；
110、
出气孔；
120、
定位孔；
130、
积水槽；
131、
出水口；
140、
导流斜面；
200、
真空吸盘；
300、
晶圆；
400、
导气管
。
具体实施方式
[0031]下面详细描述本技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件
。
下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制
。
[0032]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位
、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制
。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量
。
由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征
。
在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定
。
[0033]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种单片旋转式显影单元装置，包括卡托（
100
）和真空吸盘（
200
），所述真空吸盘（
200
）安装在所述卡托（
100
）的正中心，且所述真空吸盘（
200
）的吸附面高于所述卡托（
100
）的顶面；所述吸附面用于吸附晶圆（
300
）并带动所述晶圆（
300
）旋转，其特征在于，所述卡托（
100
）的顶面设置有多个出气孔（
110
），多个所述出气孔（
110
）以所述真空吸盘（
200
）的正中心为圆心呈圆形分布且靠近所述晶圆（
300
）底部轮廓的边缘；所述出气孔（
110
）用于外接供气机并通过喷出气体以吹走位于所述晶圆（
300
）底部轮廓的边缘的液体
。2.
根据权利要求1所述的单片旋转式显影单元装置，其特征在于，所述卡托（
100
）的顶面设置有多个定位孔（
120
），多个所述定位孔（
120
）以所述真空吸盘（
200
）的正中心为圆心呈圆形分布且靠近所述晶圆（
300
）底部轮廓的边缘，每个所述定位孔（
120
）均插接有一个导气管（
400
），每个所述导气管（
400
）的出气端均设置有一个所述出气孔（
110
），所述出气孔（
110
）位于所述导气管（
400
）背向所述真空吸盘（
200
）的一侧且呈斜向上的角度倾斜设置，以使气体对准所述晶圆（
300
）底部轮廓的边缘从所述出气孔（
110
）喷出
。3.
根据权利要求2所述的单片旋转式显影单元装置，其特征在于，所述定位孔（
120
）设置有沿所述定位孔（
...

【专利技术属性】
技术研发人员：李国强，衣新燕，陈盼林，
申请(专利权)人：广州市艾佛光通科技有限公司，
类型：新型
国别省市：