本发明专利技术涉及曝光处理技术领域，具体公开了一种光刻板传送装备及传送方法，其中，光刻板传送装备包括：光刻板台；机械臂；光刻板寄存装置，安装在机械臂末端，用于从光刻板台中提取多个待使用的光刻板；转送装置，用于从光刻板寄存装置提取光刻板，并将光刻板转送至曝光装置中；卸板装置，用于从曝光装置获取光刻板；光刻板传送装备在机械臂末端集成了具有寄存多个光刻板功能的光刻板寄存装置，能根据工艺需求将接下来曝光处理需要用到的多个光刻板从光刻板台中一次性地提取并临时寄存在光刻板寄存装置，以对曝光装置进行快速、连续换板，在有效提高了曝光处理的效率的同时也降低了光刻板表面出现污染的风险。
【技术实现步骤摘要】
本申请涉及曝光处理，具体而言，涉及一种光刻板传送装备及传送方法。
技术介绍
1、光刻工艺中需要利用光刻板进行曝光处理；相关技术中，光刻板一般存放在光刻板台（光罩盒），光刻机中的曝光装置一般根据输入的光刻板名称，利用机械手将对应的光刻板送入至曝光装置内进行曝光处理，在曝光处理结束后，由机械手取出光刻板放回光刻板台中，再根据下一光刻板名称重新传入新的光刻板。
2、在需要进行多次连续曝光（针对不同层进行光刻）或多重曝光时，曝光装置需要频繁更换光刻板，在上述操作中，光刻板的换板时间占据了整个曝光处理的大部分时间，导致现有技术存在由于换板时间过长制约了曝光处理效率的缺点。
3、针对上述问题，目前尚未有有效的技术解决方案。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种光刻板传送装备及传送方法，提高光刻板的传送效率，以对曝光装置进行快速、连续换板。
2、第一方面，本申请提供了一种光刻板传送装备，用于传送光刻板，包括：
3、光刻板台，用于存放光刻板；
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p>4、机械臂；...
【技术保护点】
1.一种光刻板传送装备，用于传送光刻板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述转送装置（3）包括：
3.根据权利要求1所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述光刻板寄存装置（2）包括：
4.根据权利要求3所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述抓取组件（23）包括：
5.根据权利要求4所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述抓取机构（231）底部具有卡块（233），所述寄存盘（21）上具有多个能与所述卡块（233）滑动配合、且为圆周阵列的开口槽（212）。
6.根据权利要求4所述的光刻板传送装备，...
【技术特征摘要】
1.一种光刻板传送装备，用于传送光刻板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述转送装置（3）包括：
3.根据权利要求1所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述光刻板寄存装置（2）包括：
4.根据权利要求3所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述抓取组件（23）包括：
5.根据权利要求4所述的光刻板传送装备，其特征在于，所述抓取机构（231）底部具有卡块（233），所述寄存盘（21）上具有多个能与所述卡块（233）滑动配合、且为圆周阵列的开口槽（212）。
6.根据权利要求4所述的光刻板传送装备，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：李国强，衣新燕，庞胜鑫，
申请(专利权)人：广州市艾佛光通科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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