一种便于清洗的电解液清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种便于清洗的电解液清洗装置，包括反应釜以及反应釜外侧设置有的控制面板，所述反应釜的内部上侧设置有用于对其内壁进行清洗的清洗喷嘴结构，所述反应釜的上侧设置有用于对清洗喷嘴结构的清洗范围进行调节的范围调节组件，所述反应釜的底侧设置有用于分别将清洗废液和电解液分隔单独排出的排液管组件，通过范围调节组件可以对清洗喷头在反应釜内的清洗范围进行调节，从而实现对反应釜内壁清洗的全范围覆盖，避免出现冲洗不到位的情况发生。到位的情况发生。到位的情况发生。

【技术实现步骤摘要】
一种便于清洗的电解液清洗装置


[0001]本技术涉及电解水生产
，具体涉及一种便于清洗的电解液清洗装置。

技术介绍

[0002]反应釜是制造电解液常用的一种反应设备，其主要是通过电动机带动搅拌轴来搅拌反应物，使其充分反应以获得所需要的电解液，随着化工领域的不断发展，人们对电解液的质量提出了更高的要求，相应人们对化工反应中的重要设备反应釜也提出了更高的要求；
[0003]申请号为202221454780.3的一种便于清洗的电解液生产装置，包括反应釜，所述反应釜上端固定有盖板，所述盖板上端安装有升降机构，所述升降机构下端安装有清理机构，所述盖板下端还安装有冲洗机构，所述反应釜左侧安装有进液管，
[0004]然而反应釜使用后其内壁进行清洗存在对反应釜内壁的清洗范围无法调节，从而导致清洗容易发生缺漏的问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种便于清洗的电解液清洗装置，欲克服现有技术的缺陷。
[0006]为实现上述目的，本技术提供了以下技术方案：
[0007]本技术提供本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便于清洗的电解液清洗装置,其特征在于：包括反应釜(1)以及反应釜(1)外侧设置有的控制面板(5)，所述反应釜(1)的内部上侧设置有用于对其内壁进行清洗的清洗喷嘴结构，所述反应釜(1)的上侧设置有用于对清洗喷嘴结构的清洗范围进行调节的范围调节组件(4)，所述反应釜(1)的底侧设置有用于分别将清洗废液和电解液分隔单独排出的排液管组件(2)。2.根据权利要求1所述一种便于清洗的电解液清洗装置，其特征在于：所述清洗喷嘴结构包括呈圆环状的清洗喷头(7)，所述清洗喷头(7)靠近反应釜(1)内壁的一侧开设有呈水平方向喷射的第一喷水孔(6)，所述清洗喷头(7)的下侧设置有均匀分布的若干个第二喷水孔(8)，第二喷水孔(8)的喷射方向呈倾斜设置并朝向反应釜(1)的内壁。3.根据权利要求2所述一种便于清洗的电解液清洗装置，其特征在于：所述范围调节组件(4)包括呈U形的支架(4a)，支架(4a)的U型开口朝下并固定连接至反应釜(1)，所述支架(4a)的顶侧固定设置有电动伸缩杆(4c)，电动伸缩杆(4c)的推杆头端朝上并固定连接有横板(4d)，横板(4d)的两端固定设置有以电动伸缩杆(4c)为中心对称分布的两个导向杆(4b)，两个导向杆(4b)的下端滑动穿过反应釜(1)顶壁并与清洗喷头(7)彼此固定连接，所述电动伸缩杆(4c)的推杆伸缩方...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱先虎，邱振富，周美，段兰，
申请(专利权)人：贵州光瑞新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：