一种HJT电池制造技术

技术编号:39484436 阅读:47 留言:0更新日期:2023-11-23 15:04
本实用新型专利技术公开了一种HJT电池,涉及光伏电池技术领域,HJT电池包括n型衬底;设置在n型衬底的正面和背面上的本征硅层;设置在本征硅层上的微晶硅层;其中,设置在n型衬底正面的本征硅层和n型衬底背面上的本征硅层的微晶硅层的导电类型不同;设置在微晶硅层上的第一TCO层;设置在第一TCO层上的金属栅线;以及设置在金属栅线和第一TCO层上的第二TCO层。本实用新型专利技术中利用TCO层覆盖金属栅线电极,减少金属栅线应力造成的翘曲、脱落,且可填补断栅处,从而避免了断栅区域无法收集电流的缺陷;此外,第二TCO层保护金属栅线可防止金属栅线氧化,不会影响金属栅线的导电性。会影响金属栅线的导电性。会影响金属栅线的导电性。

【技术实现步骤摘要】
一种HJT电池


[0001]本技术涉及光伏电池
,尤其涉及一种HJT电池。

技术介绍

[0002]HJT(Heterojunction with Intrinsic Thin layer)太阳能电池,简称HJT电池,是非晶硅/晶硅异质结的太阳能电池,是一种利用晶硅基片、非晶硅薄膜、TCO薄膜及金属栅线制成的混合型太阳能电池。
[0003]现有HJT电池的结构主要是在n型硅的正反面沉积非晶硅本征层,然后再沉积透明导电氧化物层和金属栅线。通过上述方法制备得到的HJT电池,电池表面金属栅线电极出现断栅异常后,断栅区域无法收集电流。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题。为此,本技术提供了一种新的HJT电池。
[0005]本技术公开了一种HJT电池,其特征在于,包括:n型衬底;本征硅层;所述本征硅层设置在n型衬底的正面和背面上;微晶硅层;所述微晶硅层设置在所述本征硅层上;其中,设置在所述n型衬底正面上的所述本征硅层上的所述微晶硅层和设置在所述n型衬底背面上的所述本征硅层上的所述微晶硅本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种HJT电池,其特征在于,包括:n型衬底;本征硅层;所述本征硅层设置在n型衬底的正面和背面上;微晶硅层;所述微晶硅层设置在所述本征硅层上;其中,设置在所述n型衬底正面上的所述本征硅层上的所述微晶硅层和设置在所述n型衬底背面上的所述本征硅层上的所述微晶硅层的导电类型不同;第一TCO层;所述第一TCO层设置在所述微晶硅层上;金属栅线;所述金属栅线设置在所述第一TCO层上;第二TCO层;所述第二TCO层设置在所述金属栅线和所述第一TCO层上。2.如权利要求1所述的一种HJT电池,其特征在于,所述第一TCO层的厚度为30

100nm;和/或,所述第二TCO层的厚度为20

50mm。3.如权利要求1所述的一种HJT电池,其特征在于,所述第一TCO层为多层;和/或,所述第二TCO层为多层。4.如权利要求1所述的一种HJT电池,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:周成徐云飞何亮田得雨李建敏雷琦毛伟罗鸿志杨大谊甘胜泉
申请(专利权)人:新余赛维能源科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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