烘干设备制造技术

技术编号:39475060 阅读:9 留言:0更新日期:2023-11-23 15:00
本申请涉及电池生产制造技术领域,尤其涉及一种烘干设备。烘干设备包括机身以及风管。机身具有容置腔,容置腔用于容纳硅片。风管设置于容置腔内,风管具有送风端与背风端,风管沿送风端指向背风端的方向开设有多个出风孔,多个出风孔均与风管的内腔连通,风在内腔内由送风端流动至背风端的过程中经出风孔吹入容置腔,以烘干硅片,内腔的横截面积由送风端指向背风端的方向逐渐减小。本申请采用风管内墙的横截面积送风端指向背风端的方向逐渐减小的方式,来提高风在内腔的靠近背风端时的流速,使得烘干设备的不同位置均保持较大的风速,从而提高靠近背风端的硅片的烘干效率,避免因风速较小而使得部分硅片出现带液的情况。免因风速较小而使得部分硅片出现带液的情况。免因风速较小而使得部分硅片出现带液的情况。

【技术实现步骤摘要】
烘干设备


[0001]本申请涉及电池生产制造
,尤其涉及一种烘干设备。

技术介绍

[0002]目前晶硅太阳电池的生产过程中普遍采用湿法工序,在对硅片清洗并预脱水后需要进行烘干处理,良好的烘干效果是保证产品效率、良率的前提。硅片在预脱水后,随即进入烘干设备对硅片进行烘干。
[0003]但在实际生产过程中,由于风速在烘干设备不同位置处大小不一致,即烘干设备部分位置风速较大,其他位置风速较小,从而出现位于烘干设备的风速较小位置处的部分硅片出现带液的情况,致使该部分硅片在经烘干设备烘干处理后,需拦截隔离进行二次烘干处理,严重影响产量。另外,若未发现硅片带液的情况而直接进行后续工序处理,则会严重影响成品的效率以及良品率。

技术实现思路

[0004]本申请公开了一种烘干设备,其能够平衡烘干设备在不同位置的风速大小,使得烘干设备的不同位置均保持较大的风速,避免因风速较小而使得部分硅片出现带液的情况。
[0005]为了实现上述目的,本申请公开一种烘干设备,包括:
[0006]机身,所述机身具有容置腔,所述容置腔用于容纳硅片;以及
[0007]风管,所述风管设置于所述容置腔内,所述风管具有送风端与背风端,所述风管沿所述送风端指向所述背风端的方向开设有多个出风孔,多个所述出风孔均与所述风管的内腔连通,风在所述内腔内由所述送风端流动至所述背风端的过程中经所述出风孔吹入所述容置腔,以烘干所述硅片,所述内腔的横截面积由所述送风端指向所述背风端的方向逐渐减小。
[0008]在风管内腔流动的风,其流速与流量之间存在一个反比关系,即流量=流速
×
横截面积,也就是说,当流量一定时,如果的内腔的横截面积减小,风的流速会相应地增大。因此,本申请实施例中,风管可以采用内腔的横截面积送风端指向背风端的方向逐渐减小的方式,来提高风在内腔的靠近背风端时的流速,从而提高靠近背风端的硅片的烘干效率。
[0009]可选地,所述风管包括:
[0010]第一半管体,所述出风孔设置于所述第一半管体;以及
[0011]第二半管体,所述第二半管体与所述第一半管体配合形成所述风管,所述第二半管体的管壁厚度由所述送风端向所述背风端逐渐增大,以使所述风管的横截面积由所述送风端向所述背风端逐渐减小。
[0012]将出风孔设置于第一半管体,由于第一半管体的管壁厚度可以保持不变,使得设置于第一半管体的多个出风孔的规格可以保持一致,从而使得经每个出风孔流动至容置腔的风向均大致相同,从而保证每个硅片都能与一个或多个出风孔对应。第二半管体的管壁
厚度由送风端向背风端的方向逐渐增大,也就是说,第二半管体的管壁内表面的内径由送风端向背风端的方向逐渐减小,使得第一半管体与第二半管体合成的风管的内腔的横截面积由送风端向背风端逐渐减小,从而提高风在靠近背风端时在内腔的流速。
[0013]可选地,所述机身具有位于所述容置腔的底壁,所述出风孔朝向所述底壁。
[0014]由于硅片放置于位于容置腔的底壁,因此可以沿送风端指向背风端的方向调整风管的角度,从而调整出风孔的朝向,使得出风孔的朝向正对位于容置腔的底壁。当硅片放置于位于容置腔的底壁时,风经出风孔直接朝位于容置腔的底壁流动,使得风可以直接吹向硅片的表面,从而保持风吹向硅片的表面时风的流速处于较大的水平。
[0015]可选地,还包括花篮,所述花篮设置于所述底壁,以放置所述硅片。
[0016]当需要对带液的硅片进行烘干工序时,将花篮与位于容置腔的底壁分离,并由容置腔内拿出,将带液硅片放置于花篮中,再重新将花篮放置于位于容置腔的底壁。此外,由于硅片在烘干前带液,将硅片放置于花篮中时,液体会粘在花篮,由于液体成分复杂,即使液体中的水被烘干蒸发后,液体中的其他物质会遗留于花篮,一段时间后需要对花篮进行清理,可以降低清理所需的时间以及成本,从而提高烘干效率。
[0017]可选地,还包括底座,所述底座设置于所述底壁,所述花篮设置于所述底座。
[0018]在位于容置腔的底壁设置底座,可以将花篮固定于底壁,避免在对硅片烘干的过程中,由于风的流动可能导致花篮与底壁之间的相对位置发生改变,从而导致硅片与出风孔之间的相对位置发生变化,避免降低硅片的烘干效率。
[0019]可选地,所述花篮的数量为多个;所述烘干设备还包括挡杆,所述挡杆设置于所述底座,以隔开位于不同所述花篮的所述硅片。
[0020]在位于容置腔的底座上设置多个花篮,多个花篮均用于放置硅片,从而提高烘干效率。但需要注意的是,需要防止不同花篮的硅片之间出现错齿的情况,也就是说,需要防止不同花篮的硅片之间出现接触,从而避免影响后续蚀刻等工序。
[0021]可选地,所述风管的数量至少为两个。
[0022]风管设置的数量越多,容置腔内流动的风速越大,从而可以提高烘干效率。
[0023]可选地,所述机身具有位于所述容置腔的第一侧壁与第二侧壁,所述第一侧壁与所述第二侧壁相对设置;至少两个所述风管分别设置于所述第一侧壁与所述第二侧壁。
[0024]将至少两个风管分别设置于第一侧壁与第二侧壁,也就是说,在第一侧壁与第二侧壁均设置风管,使得硅片的两侧均有风吹向硅片的表面,从而使得风可以尽可能覆盖硅片的各个位置,从而提高烘干效率。
[0025]可选地,还包括多个管卡,多个所述管卡分别设置于所述第一侧壁以及所述第二侧壁,所述管卡连接所述风管的外表面,以使所述风管固定于所述第一侧壁以及所述第二侧壁。
[0026]在第一侧壁与第二侧壁设置多个管卡,可以起到固定设置于第一侧壁以及第二侧壁的风管的作用。
[0027]可选地,所述风管沿水平方向设置于所述容置腔内。
[0028]风管沿水平方向设置于容置腔,使得出风孔与对应的硅片之间的间距大致相同,从而使得每个硅片的烘干时间不会出现较大的时间差。
[0029]与现有技术相比,本申请的有益效果在于:
[0030]本申请提供的烘干设备,采用风管内墙的横截面积送风端指向背风端的方向逐渐减小的方式,来提高风在内腔的靠近背风端时的流速,使得烘干设备的不同位置均保持较大的风速,从而提高靠近背风端的硅片的烘干效率,避免因风速较小而使得部分硅片出现带液的情况。
附图说明
[0031]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0032]图1是本申请实施例提供的烘干设备的俯视图;
[0033]图2是本申请实施例提供的风管的剖视图;
[0034]图3是本申请实施例提供的烘干设备在另一角度的剖视图;
[0035]图4是图3中A处的放大图;
[0036]图5是本申请实施例提供的花篮的结构示意图;
[0037]图6是图3中B处的放大图。
[本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烘干设备,其特征在于,包括:机身,所述机身具有容置腔,所述容置腔用于容纳硅片;以及风管,所述风管设置于所述容置腔内,所述风管具有送风端与背风端,所述风管沿所述送风端指向所述背风端的方向开设有多个出风孔,多个所述出风孔均与所述风管的内腔连通,风在所述内腔内由所述送风端流动至所述背风端的过程中经所述出风孔吹入所述容置腔,以烘干所述硅片,所述内腔的横截面积由所述送风端指向所述背风端的方向逐渐减小。2.根据权利要求1所述的烘干设备,其特征在于,所述风管包括:第一半管体,所述出风孔设置于所述第一半管体;以及第二半管体,所述第二半管体与所述第一半管体配合形成所述风管,所述第二半管体的管壁厚度由所述送风端向所述背风端逐渐增大,以使所述风管的横截面积由所述送风端向所述背风端逐渐减小。3.根据权利要求1所述的烘干设备,其特征在于,所述机身具有位于所述容置腔的底壁,所述出风孔朝向所述底壁。4.根据权利要求3所述的烘干设备,其特征在于,还包括花篮,所述花篮设置于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:付国强苟小康李戍
申请(专利权)人:通威太阳能眉山有限公司
类型:新型
国别省市:

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