晶圆湿法浸液式去胶机制造技术

本实用新型专利技术提供一种晶圆湿法浸液式去胶机，它包括密封的机壳，机壳内设计有浸泡池，所述浸泡池上方装配有抽气模块，所述浸泡池上部装配有可以前后移动打开的密封盖；所述浸泡池的左右分别装配有在同一水平面的收料台、放料台，所述浸泡池的底部装配有可以上下移动的升降台，所述晶圆箱、浸泡池、放料台的上部装配有推料模块，所述推料模块的推块从右到左移动，将升降台上的晶圆箱推动到所述收料台位置，将放料台上的晶圆箱推动到升降台上。本机器通过机壳、密封盖双层密封，密封效果好。该机器通过推料模块对晶圆在浸泡池的收放料同时进行，大大提高的换料效率，降低了气体在机壳中逸散，提高浸泡池中药液的使用效果。提高浸泡池中药液的使用效果。提高浸泡池中药液的使用效果。

【技术实现步骤摘要】
晶圆湿法浸液式去胶机


[0001]本技术涉及晶圆片加工
，具体涉及晶圆湿法浸液式去胶机。

技术介绍

[0002]晶圆片加工过程中，蚀刻后在晶圆上常常存留残余的胶体，这时常常通过浸泡的方式将晶圆片上胶体去除。在湿法浸泡去胶的过程中，经常会产生大量有害气体，因此需要对浸泡晶圆片的浸泡池进行密封，同时需要在浸泡设备中添加抽气结构。如专利号为202111487556.4的一种浸泡式去胶剥离机，虽然设备密封同时具有抽气结构，但是浸泡池并没有单独密封，因此在对晶圆片进行取料时，仍然会有有害气体逸散到工厂中。同时传统的晶圆片浸泡设备在通过晶圆箱向浸泡池放置晶圆片以及将浸泡好的晶圆片取出时，需要分步进行，整个的生产流程时间更长，拉低了生产效率，同时不得不将浸泡池敞开，使得浸泡池中药液长时间暴露在空气中，影响药液使用效果，同时也使得有害气体更加容易逸散在生产车间中。

技术实现思路

[0003]针对以上问题，本技术提供一种结构简单，具有双层密封结构，可以快速取换晶圆片的晶圆湿法浸液式去胶机。
[0004]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：该晶圆湿法浸液式去胶机包括密封的机壳，所述机壳内设计有装有浸泡溶液的浸泡池，所述浸泡池上方装配有抽气模块，所述浸泡池上部装配有可以前后移动打开的密封盖；所述浸泡池的左右分别装配有在同一水平面的收料台、放料台，所述浸泡池的底部装配有可以上下移动的升降台，所述升降台移动到上部时，升降台与所述收料台、放料台齐平，所述升降台上部放置有装有晶圆的镂空的晶圆箱，所述放料台上放置有盛放待浸泡晶圆的所述晶圆箱、浸泡池、放料台的上部装配有推料模块，所述推料模块包括有两组可以左右移动的推块，所述推块的下部伸入到两个晶圆箱的侧边，当所述推块从右到左移动时，升降台上的晶圆箱被推动到所述收料台位置，放料台上的晶圆箱被推动到升降台上。
[0005]作为优选，所述推料模块包括有两个水平的横向轨道，所述横向轨道与两组所述推块贯穿横向滑动装配，所述横向轨道的左侧装配有横向电机，所述横向电机上装配有与横向轨道平行的穿过两组所述推块的水平螺杆，所述水平螺杆与两组所述推块螺纹装配。
[0006]作为优选，所述密封盖后部装配有前后电机，所述前后电机上装配有水平的前后螺杆，所述前后螺杆与所述密封盖后端螺纹装配。
[0007]作为优选，所述浸泡池底部装配有上下电机所述上下电机的上部装配有竖直的上下螺杆，所述上下螺杆通过丝杆传动结构连接有两个竖直的升降柱，所述升降柱上端贯穿所述浸泡池底部与所述升降台底部固定连接，所述升降柱与所述浸泡池底部滑动密封装配。
[0008]作为优选，所述升降台采用镂空设计。
[0009]作为优选，所述浸泡池为四方形状，所述浸泡池内前后的壁面上设计有竖直的导向轨道，所述升降台的前后面设计有与所述导向轨道配合的凹口。
[0010]作为优选，所述收料台采用镂空设计，所述收料台下部装配有沥液池。
[0011]作为优选，所述收料台靠近所述浸泡池的一侧上部加工有倾斜边。
[0012]作为优选，所述放料台的上部加工有俯视方向为L型的凸出挡块。
[0013]本技术的有益效果在于：本晶圆湿法浸液式去胶机使用时，通过晶圆箱放置晶圆，晶圆箱随着晶圆在浸泡池中同时进行浸泡。在本专利中浸泡池上部具有密封盖，这样盖机器就具有机壳以及密封盖双层密封结构，密封效果更好，同时在晶圆浸泡时密封盖关闭，抽气模块开启，可以将机壳内残留的危害气体抽出，然后再打开机壳进行取料，这样整个的浸泡过程就不会有有害气体逸散到车间中。在该专利中先将待浸泡的晶圆通过晶圆箱放置在所述放料台上，当晶圆浸泡去胶完成时，通过升降台将去胶完成的晶圆箱连同晶圆提升到上部位置，这时两个晶圆箱在同一平面，这时，推料模块开始工作通过丝杆结构带动两个推块同时从右向左运动，左侧的推块将浸泡完成的晶圆连同晶圆箱从升降台推动到收料台上，右侧的推块将待浸泡的晶圆连同晶圆箱从放料台推动到升降台上，然后升降台下降将晶圆箱连同晶圆浸泡在药液中，进行浸泡。这样该机器通过推料模块的两个推块对晶圆在浸泡池的收放料同时进行，大大提高的换料效率，使得浸泡池上方密封盖打开时间极短，这样可以进一步减少气体逸散到机壳中，提高浸泡池中药液的使用效果。而且在对浸泡池中晶圆进行收放料时，机壳保持密封状态保证了气体的不会逸散。
附图说明
[0014]图1是晶圆湿法浸液式去胶机浸泡过程中正面的结构示意图。
[0015]图2是晶圆湿法浸液式去胶机浸泡完成换料前的结构示意图。
[0016]图3是晶圆湿法浸液式去胶机浸泡完成换料后的结构示意图。
[0017]图4是图1中A
‑
A向的示意图。
[0018]图5是图1中B
‑
B向浸泡池的结构示意图。
具体实施方式
[0019]下面结合实施例对本技术进一步说明：
[0020]在本专利中，所使用的方向性词语，其关系均为基于附图1所示图形的方位或位置关系，仅是为了简化描述本申请，而不是指示装置或元件必须具有的特定方位，因此不能理解为对本申请的限制。
[0021]在本实施例中，如图1、图2和图3所示，该晶圆湿法浸液式去胶机包括密封的机壳1，所述机壳1内设计有装有浸泡溶液的浸泡池2，所述浸泡池2与传统结构类似，其内部侧边具有加热等结构，在此不做详细叙述。所述浸泡池2上方装配有抽气模块3，同时该设备设计有向所述机壳1通入洁净气体的进气模块。在本实时例中，所述浸泡池2上部装配有可以前后移动打开的密封盖21；所述浸泡池2的左右分别装配有在同一水平面的收料台4、放料台5，所述浸泡池2的底部装配有可以上下移动的升降台22。当所述升降台22移动到上部时，如图2所示，所述升降台22与所述收料台4、放料台5上部齐平。所述升降台22上部放置有装有晶圆的镂空的晶圆箱6，所述放料台上放置有盛放待浸泡晶圆的所述晶圆箱6、浸泡池2、放
料台5的上部装配有推料模块7，所述推料模块7包括有两组可以左右移动的推块71，所述推块71的下部伸入到两个晶圆箱6的侧边，当所述推块71从右到左移动时，升降台22上的晶圆箱6被推动到所述收料台4位置，放料台5上的晶圆箱6被推动到升降台22上。
[0022]本晶圆湿法浸液式去胶机使用时，晶圆装在镂空的晶圆箱中，浸泡池2中装有浸泡晶圆的溶液。当刚开始使用设备时，先打开机壳1前门，将装有待浸泡晶圆的晶圆箱6先放置在放料台上，然后关闭机壳1前门，打开抽气模块3。机壳1前部的门框打开，密封盖21打开,所述升降台22上升到上部位置，将通过推料模块7的推块71将晶圆箱6推动到升降台22上。然后升降台22带动晶圆箱6沉入浸泡池2的药液内，密封盖21关闭。晶圆箱6随着晶圆在浸泡池2中同时进行浸泡。在本专利中浸泡池2上部具有密封盖21，这样盖机器就具有机壳1以及密封盖21双层密封结构，密封效果更好，同时在晶圆浸泡时密封盖21关闭，抽气模块3开启，可以将机壳1内残留的危害气体抽出，然后再打开机壳1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆湿法浸液式去胶机，它包括密封的机壳(1)，所述机壳(1)内设计有装有浸泡溶液的浸泡池(2)，所述浸泡池(2)上方装配有抽气模块(3)，所述浸泡池(2)上部装配有可以前后移动打开的密封盖(21)；其特征在于：所述浸泡池(2)的左右分别装配有在同一水平面的收料台(4)、放料台(5)，所述浸泡池(2)的底部装配有可以上下移动的升降台(22)，所述升降台(22)移动到上部时，升降台(22)与所述收料台(4)、放料台(5)齐平，所述升降台(22)上部放置有装有晶圆的镂空的晶圆箱(6)，所述放料台(5)上放置有盛放待浸泡晶圆的所述晶圆箱(6)、浸泡池(2)、放料台(5)的上部装配有推料模块(7)，所述推料模块(7)包括有两组可以左右移动的推块(71)，所述推块(71)的下部伸入到两个晶圆箱(6)的侧边，当所述推块(71)从右到左移动时，升降台(22)上的晶圆箱(6)被推动到所述收料台(4)位置，放料台(5)上的晶圆箱(6)被推动到升降台(22)上。2.根据权利要求1所述的晶圆湿法浸液式去胶机，其特征在于：所述推料模块(7)包括有两个水平的横向轨道(72)，所述横向轨道(72)与两组所述推块(71)贯穿横向滑动装配，所述横向轨道(72)的左侧装配有横向电机(73)，所述横向电机(73)上装配有与横向轨道平行的穿过两组所述推块的水平螺杆(74)，所述水平螺杆(74)与两组所述推块(71)螺纹装配。3.根据权利要求1所述的晶圆湿法浸液式去胶机，其特征在于：所述密封盖(21)...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾麒文，洪成都，
申请(专利权)人：苏州桔云科技有限公司，
类型：新型
国别省市：