一种多功能预处理结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种多功能预处理结构，属于电子扫描技术领域，能够在扫描电子显微镜的预抽室中对样品进行多种预处理，能够去除杂质、清洗去污、中和电子及镀膜等功能，并且避免了日常预处理后转移过程造成的样品二次污染；该预处理结构包括样品仓、两预处理室、安装控制机台、镀膜系统、等离子体清洗系统、正负离子吹扫系统、气氛系统、抽气系统；两预处理室设于安装控制机台上；样品仓设于预处理一室的一侧；镀膜系统设于预处理一室内且与安装控制机台连接；等离子体清洗系统和正负离子吹扫系统均设于预处理二室处并均与安装控制机台连接；气氛系统与预处理一室连接且与安装控制机台连接；抽气系统与两预处理室连接并与安装控制机台连接。机台连接。机台连接。

【技术实现步骤摘要】
一种多功能预处理结构


[0001]本技术涉及电镜扫描
，尤其涉及一种多功能预处理结构。

技术介绍

[0002]扫描电镜是一种具有多项用途，应用最为广泛的新型电子光学仪器。数十年来，随着科学技术的发展，扫描电镜已成为检测物质性能的重要手段，其已广泛地应用在金属、陶瓷、半导体等材料的显微形貌观察、相组织与晶体结构分析及其他项目的研究中，是不可替代的设备。扫描电镜具有制样简单、放大倍数可调范围宽、图像的分辨率高、景深大等特点。在进行扫描电镜观察前，要对样品作相应的处理。扫描电镜样品制备的主要要求是：尽可能保存好样品的表面结构，使之没有变形和污染，样品干燥并且有良好导电性能。
[0003]目前的样品预处理，都需要单独处理完成后，再密封封存好后转移放置到样品仓里进行检测。在封存和转移后打开放置到样品仓里过程中避免不了被污染，涉及到一些对清洁度、导电性有较高要求，以及需要重复使用的样品，这样最终会导致检测结果出现误差。例如清洁度是要求待测样品尽可能保证初始状态，避免沾染油污。特别是不要直接用手直接接触试样，以免沾染油脂，包括要求比较高的半导体晶圆等；导电性是针对一些导电性不好的样品，例如一些合金、陶瓷材料；重复使用是针对一些质检中抽检的样品，检测完还需要继续使用，或一些特殊不易得的需要多次采集数据的样品。
[0004]目前实验室的预处理方法主要包括以下三种：
[0005]1)超声清洗：对于一些特定冻干或需干燥物体不适用，并且在扫描电镜样品仓中的样品必须是干燥的，或经过干燥处理后的样品，禁止使用潮湿或湿润样品；
[0006]2)酒精冲洗：对于一些特定冻干或需干燥物体不适用，并且不能彻底清洗干净；
[0007]3)洗耳球吹扫样品表面的灰尘：只能吹扫干净肉眼可见颗粒以及部分肉眼不可见的颗粒粉尘，无法对表面的有机物以及无机物进行处理。
[0008]在中国专利CN114388384A中公开一种具有晶圆清洁功能的预抽真空室及晶圆清洁方法，解决了现有技术中晶圆背面存在颗粒物质导致低良率、工艺转换对齐错误的问题。该专利的预抽真空室包括腔室、喷嘴、支架和真空吸盘；支架设置在腔室的中心，真空吸盘固定在支架顶端，喷嘴设置在以真空吸盘为圆心的圆的半径方向上；真空吸盘用于固定晶圆并带动晶圆旋转，喷嘴设置在晶圆下方。该专利适用于对晶圆背面进行清洁。缺点在于：不适用于扫描电镜的预抽室，样品台不具备传送功能。
[0009]因此，有必要研究一种多功能预处理结构来应对现有技术的不足，以解决或减轻上述一个或多个问题。

技术实现思路

[0010]有鉴于此，本技术提供了一种多功能预处理结构，能够在扫描电子显微镜的预抽室中对样品进行多种预处理，能够去除杂质、清洗去污、中和电子及镀膜等功能，并且避免了日常预处理后转移过程造成的样品二次污染。
[0011]本技术提供一种多功能预处理结构，用于电镜扫描样品预处理，所述预处理结构包括样品仓、预处理一室、预处理二室、安装控制机台、真空传送模组、抽气系统、镀膜系统、等离子体清洗系统、正负离子吹扫系统和气氛系统；
[0012]所述预处理一室和所述预处理二室设于所述安装控制机台上；所述样品仓设于所述预处理一室的一侧；
[0013]所述真空传送模组包括第一真空传送组件和第二真空传送组件，所述第一真空传送组件的两端分别与所述样品仓和所述预处理一室连接；所述第二真空传送组件设于所述预处理一室和所述预处理二室之间；
[0014]所述抽气系统分别与所述预处理一室和所述预处理二室连接，且与所述安装控制机台连接；
[0015]所述镀膜系统设于所述预处理一室内，且与所述安装控制机台连接；
[0016]所述等离子体清洗系统和所述正负离子吹扫系统均设于所述预处理二室处，并均与所述安装控制机台连接；
[0017]所述气氛系统与所述预处理一室连接，且与所述安装控制机台连接。
[0018]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述等离子体清洗系统包括等离子发生器，所述等离子发生器设置在所述预处理二室的顶部，并通过开设在预处理二室上壁的过孔将产生的等离子体传输到所述预处理二室内部。
[0019]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述正负离子吹扫系统包括正负离子发生器、吹扫设备和送风模块；
[0020]所述正负离子发生器固设在所述预处理二室的侧壁上，所述送风模块和所述吹扫设备均设于所述预处理二室内部；
[0021]所述送风模块和所述吹扫设备连接，所述正负离子发生器与所述吹扫设备连接。
[0022]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述吹扫设备为帘状吹扫结构。
[0023]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述第一真空传送组件包括真空传送管道和设于所述真空传送管道内的第一样品传送机构；所述第一样品传送机构包括第一传送轨道、第一样品移动台和第一动力设备，所述第一传送轨道设置在所述真空传送管道底部，所述第一样品移动台滑动连接在所述第一传送轨道上，所述第一样品移动台与所述第一动力设备连接；
[0024]所述第一动力设备与所述安装控制机台连接。
[0025]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述预处理一室和所述预处理二室紧邻设置且具有共用壁，所述共用壁上设有样品传送孔；
[0026]所述第二真空传送组件包括第二传送轨道、第二样品移动台和第二动力设备；所述第二传送轨道穿过所述样品传送孔且位于所述预处理一室和所述预处理二室底部，所述第二样品移动台滑动连接在所述第二传送轨道上，所述第二样品移动台与所述第二动力设备连接；
[0027]所述第二动力设备与所述安装控制机台连接。
[0028]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述真空传送管道的两端分别设有第一自动封闭门，所述第一自动封闭门与所述安装控制机台连接。
[0029]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述样品传送孔处设置有第二自动封闭门，所述第二自动封闭门与所述安装控制机台连接。
[0030]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述预处理二室的前壁上设有放样仓门，所述放样仓门上设有观察窗。
[0031]如上所述的方面和任一可能的实现方式，进一步提供一种实现方式，所述样品仓设于减震台上，所述样品仓前壁设有仓门，所述样品仓内设有扫描电镜系统。
[0032]与现有技术相比，上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果：本技术三种预处理(镀膜、等离子体清洗以及正负离子吹扫)的结合，可以使得样品表面在检测时达到最佳检测状态，且避免了日常操作导致的转移过程中带来的二次污染；
[0033]上述技术方案中的另一个技术方案具有如下优点或有益效果：本技术的两种清洁方式(等离子体清洗以及正负离子吹扫)可以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多功能预处理结构，用于电镜扫描样品预处理，其特征在于，所述预处理结构包括样品仓、预处理一室、预处理二室、安装控制机台、真空传送模组、抽气系统、镀膜系统、等离子体清洗系统、正负离子吹扫系统和气氛系统；所述预处理一室和所述预处理二室设于所述安装控制机台上；所述样品仓设于所述预处理一室的一侧；所述真空传送模组包括第一真空传送组件和第二真空传送组件，所述第一真空传送组件的两端分别与所述样品仓和所述预处理一室连接；所述第二真空传送组件设于所述预处理一室和所述预处理二室之间；所述抽气系统分别与所述预处理一室和所述预处理二室连接，且与所述安装控制机台连接；所述等离子体清洗系统和所述正负离子吹扫系统均设于所述预处理二室上，并均与所述安装控制机台连接；所述镀膜系统设于所述预处理一室内，且与所述安装控制机台连接；所述气氛系统与所述预处理一室连接，且与所述安装控制机台连接。2.根据权利要求1所述的多功能预处理结构，其特征在于，所述等离子体清洗系统包括等离子发生器，所述等离子发生器设置在所述预处理二室的顶部，并通过开设在预处理二室上壁的过孔将产生的等离子体传输到所述预处理二室内部。3.根据权利要求1所述的多功能预处理结构，其特征在于，所述正负离子吹扫系统包括正负离子发生器、吹扫设备和送风模块；所述正负离子发生器固设在所述预处理二室的侧壁上，所述送风模块和所述吹扫设备均设于所述预处理二室内部；所述送风模块和所述吹扫设备连接，所述正负离子发生器与所述吹扫设备连接。4.根据权利要求3所述的多功能预处理结构，其特征在于，所述吹扫设备为帘状吹扫结...

【专利技术属性】
技术研发人员：何伟，陈志明，卢毓华，尚卷卷，牛辉，李宏飞，范旭龙，张月新，
申请(专利权)人：纳克微束北京有限公司，
类型：新型
国别省市：