基板支撑装置及基板清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术揭示了一种基板支撑装置及基板清洗装置。基板支撑装置包括：两个支撑机构，围绕一预定中轴线对称分布；每个支撑机构配置一个驱动机构，其中，驱动机构包括：驱动器，用于推动两个支撑机构相互远离以释放基板；复位弹簧，用于拉动两个支撑机构相互靠近以夹持基板，并使基板的中心位于预定中轴线上。由于基板在稳定夹持状态下，两个复位弹簧作用在基板上的力相互平衡，两个复位弹簧的形变量相同，使得两个支撑机构相对预定中轴线的距离变化相同，即基板稳定夹持时，两个支撑机构的中心轴线仍位于预定中轴线上，相应地，基板的中心将会位于预定中轴线上，即便基板尺寸加工时存在偏差，该装置也能保证基板中心位于预定中轴线上，实现自动对中。实现自动对中。实现自动对中。

【技术实现步骤摘要】
基板支撑装置及基板清洗装置


[0001]本专利技术涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种基板支撑装置及基板清洗装置。

技术介绍

[0002]基板的清洗是半导体制备工艺中的一个重要步骤。基板清洗装置通常配置有基板支撑装置，用以保持待清洗的基板。图5示出了一种传统的基板支撑装置，该基板支撑装置具有相对设置的两个支撑机构501，每个支撑机构501配置有一组滚轮502和一个气缸503，气缸503用于驱动两个支撑机构501相互靠近，通过两组滚轮502夹持基板W并带动基板W旋转，或者驱动两个支撑机构501相互远离释放基板W。
[0003]现有的基板支撑装置不具有自动对中的功能，在夹持基板时，基板的中心是否偏离预定的中轴线取决于气缸的运动精度。如果基板的中心偏离预定的中轴线，也即基板出现偏心夹持时，清洗刷根据预设的扫描路径摆动，将无法经过基板的中心，可能会使基板的中心区域得不到有效清洗，这将会影响基板的清洗效果，另外还会影响片与片之间的一致性。

技术实现思路

[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种基板支撑装置，用于解决现有技术中基板支撑装置夹持基板时，基板容易出现偏心影响清洗效果的问题。
[0005]本专利技术的另一目的在于提供一种基板清洗装置，用于解决清洗装置中，基板夹持容易出现偏心影响清洗效果及片与片之间一致性的问题。
[0006]为实现上述目的及其它相关目的，本专利技术提供的基板支撑装置，包括：
[0007]两个支撑机构，围绕一预定中轴线对称分布，用于夹持基板；
[0008]每个支撑机构配置一个驱动机构，其中，
[0009]驱动机构包括：
[0010]驱动器，用于推动两个支撑机构相互远离以释放基板；
[0011]复位弹簧，用于拉动两个支撑机构相互靠近以夹持基板，并使基板的中心位于预定中轴线上。
[0012]作为本专利技术的一种可选方案，所述驱动机构还包括：
[0013]固定板，设置在支撑机构的一侧，用于固定驱动器；
[0014]调节板，活动安装在固定板上；
[0015]其中，复位弹簧的一端与支撑机构相连，另一端与调节板相连。
[0016]作为本专利技术的一种可选方案，每个所述支撑机构配置一组滚轮，当两个支撑机构相互靠近时，两组滚轮夹紧基板，并带动基板旋转。
[0017]作为本专利技术的一种可选方案，每个所述支撑机构还配置有滚轮驱动机构，用于驱动一组滚轮同步旋转。
[0018]作为本专利技术的一种可选方案，每个所述滚轮沿圆周方向开设有载片槽，每个载片槽的下侧壁为倾斜向下的锥面。
[0019]作为本专利技术的一种可选方案，所述驱动机构还包括位置传感器，用于检测两个支撑机构的夹持位置。
[0020]在本专利技术中，还提出了一种基板清洗装置，采用上述任意一项的基板支撑装置夹持待清洗的基板。
[0021]作为本专利技术的一种可选方案，还包括清洗机构，所述清洗机构包括：
[0022]清洗刷，所述清洗刷包括分别用于清洗基板上下表面的上清洗刷和下清洗刷；
[0023]摆臂，用于带动清洗刷沿过基板中心的弧线往复运动。
[0024]如上所述，在本专利技术提供一种基板支撑装置中，两个对称设置的支撑机构通过各自配置的复位弹簧相互靠近以夹持基板，由于基板在稳定夹持状态下，两个复位弹簧作用在基板上的力相互平衡，两个复位弹簧的形变量相同，使得两个支撑机构相对预定中轴线的距离变化相同，即两个支撑机构的中心轴线仍位于预定中轴线上，进而基板稳定支撑在两个支撑机构中间时，基板的中心将会位于预定中轴线上，即便基板尺寸加工时存在偏差，该装置也能保证基板的中心位于预定中轴线上，实现自动对中。
[0025]在本专利技术中还提供了一种基板清洗装置，采用具有自动对中功能的基板支撑装置，能够确保每片基板清洗时，清洗刷的扫描路径均经过基板的中心，从而有利于获得良好的清洗效果以及片与片之间的一致性。
附图说明
[0026]图1显示为本专利技术实施例中提供的基板清洗装置的结构图；
[0027]图2显示为本专利技术实施例中提供的基板支撑装置的结构图；
[0028]图3显示为本专利技术实施例中提供的基板支撑装置的主视图；
[0029]图4显示为本专利技术实施例中提供的基板支撑装置的部分组件结构图；以及
[0030]图5显示为现有技术中提供的基板支撑装置示意图。
具体实施方式
[0031]以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其它优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。
[0032]图1示出了本专利技术一实施例中基板清洗装置。基板清洗装置包括基板支撑装置10和清洗机构202。基板支撑装置10包括两个支撑机构101，用于夹持待清洗的基板W，并能够带动基板W旋转。基板支撑装置10的具体结构将在后文进行介绍。清洗机构202包括清洗刷和摆臂2022。清洗刷包括上下相对设置的上清洗刷2021a和下清洗刷2021b，上清洗刷2021a和下清洗刷2021b分别用于清洗基板W的上表面和下表面。清洗刷在摆臂2022带动下沿过基板W中心的弧线往复运动，同时基板W围绕自身中心旋转，从而清洗刷能够对基板W的上下两个表面进行清洗，获得良好的清洗效果。
[0033]下面将结合图2至图4详细介绍基板支撑装置10的结构。
[0034]基板支撑装置10包括两个支撑机构101，两个支撑机构101围绕一预定中轴线oo
’
对称设置。如图3所示，该预定中轴线oo
’
为装置预先确定的基准线，在基板W由基板支撑装置10夹持时，基板W的中心需要位于预定中轴线oo
’
上。
[0035]每个支撑机构101配置有一组滚轮1011，当两个支撑机构101相互靠近时，两组滚轮1011夹紧基板W，并带动基板W旋转。如图2所示，在一实施例中，支撑机构101包括支撑柱1012以及设置在支撑柱1012顶部的支撑板1013，支撑板1013上安装有一组滚轮1011，一组滚轮1011可以包括两个、三个以及三个以上滚轮1011a，较佳的，一组滚轮1011包含两个滚轮1011a。支撑板1013上还配置有滚轮驱动机构1014，用于驱动一组滚轮1011同步旋转。在一实施例中，滚轮驱动机构1014包括电机，该电机通过皮带传动的方式驱动一组滚轮1011同步旋转，由此带动夹持在两组滚轮1011之间的基板W旋转。
[0036]参见图3，每个滚轮1011a沿圆周方向开设有载片槽1011b，每个载片槽1011b的下侧壁1011c为倾斜向下的锥面。载片槽1011b的下侧壁1011c倾斜设置不仅有利于基板W沿斜面进入载片槽1011b，还有利于基板W的中心与多个滚轮1011a限定的圆心重合。
[0037]参见图2和图3，每个支撑机构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板支撑装置，其特征在于，包括：两个支撑机构，围绕一预定中轴线对称分布，用于夹持基板；每个支撑机构配置一个驱动机构，其中，驱动机构包括：驱动器，用于推动两个支撑机构相互远离以释放基板；复位弹簧，用于拉动两个支撑机构相互靠近以夹持基板，并使基板的中心位于预定中轴线上。2.根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述驱动机构还包括：固定板，设置在支撑机构的一侧，用于固定驱动器；调节板，活动安装在固定板上；其中，复位弹簧的一端与支撑机构相连，另一端与调节板相连。3.根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，每个所述支撑机构配置一组滚轮，当两个支撑机构相互靠近时，两组滚轮夹紧基板，并带动基板旋转。4.根据权利要求3所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱国辉，于少月，秦真江，王双五，孙建，范庆深，卢杨，王珺霜，王晖，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海股份有限公司，
类型：发明
国别省市：