【技术实现步骤摘要】
量子芯片版图的图形间距检查方法、存储介质及电子设备
[0001]本专利技术涉及芯片版图设计领域,特别是涉及一种量子芯片版图的图形间距检查方法、存储介质及电子设备。
技术介绍
[0002]量子芯片是由很多超导层和介质层按照一定设计规则堆叠而成的芯片,例如作为量子芯片关键器件的约瑟夫森结,就是由两层超导层中间夹设一层介质层构成。因此,量子芯片版图中需要绘制很多表示器件的图形。在量子芯片版图设计完成之后,需要进行DRC(Design rules checking,设计规则检查),而间距检查是DRC的重点工作。
[0003]现有的量子芯片设计规则检查过程中,设计人员主要采用人工检查,然后将错误位置逐一标记。然而,量子芯片中存在成千上万个图形,人工检查效率慢,精度低,错误率高,不能满足设计需要。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是提供一种量子芯片版图的图形间距检查方法、存储介质及电子设备,以解决现有技术中人工检查不能满足设计需要的问题,能够自动完成间距检查,提高检查效率和精度。
[0005]为解决上述技术问题,本专利技术提供一种量子芯片版图的图形间距检查方法,包括:
[0006]获取量子芯片版图中所有图形的边线;
[0007]查找至少部分处于预设距离范围内的两条边线作为邻近边线对;
[0008]筛选出第一条边线相对其所属图形的预设一侧与第二条边线相对其所属图形的预设一侧互为相对的邻近线段对作为目标线段对;
[0009]在所述目标线段对的两条边线各自的预设 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种量子芯片版图的图形间距检查方法,其特征在于,包括:获取量子芯片版图中所有图形的边线;查找至少部分处于预设距离范围内的两条边线作为邻近边线对;筛选出第一条边线相对其所属图形的预设一侧与第二条边线相对其所属图形的预设一侧互为相对的邻近线段对作为目标线段对;在所述目标线段对的两条边线各自的预设一侧的重叠区域进行错误标记。2.根据权利要求1所述的图形间距检查方法,其特征在于,所述查找至少部分处于预设距离范围内的两条边线作为邻近边线对,包括:在每一边线上选取包括起点和终点在内的路径点作为检测点;查找处于预设距离范围内且属于不同边线的两个检测点作为邻近点对;将每一所述邻近点对中两个检测点所属的边线作为邻近边线对。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述每一边线上的路径点从起点开始按照预设步长选取。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述查找处于预设距离范围内且属于不同边线的两个检测点作为邻近点对,包括:根据所有所述检测点的坐标构建KD树;基于所述KD树查找处于预设距离范围内且属于不同边线的两个检测点作为邻近点对。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线远离其所属图形的一侧,所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线远离其所属图形的一侧;或者所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线朝向其所属图形的一侧,所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线朝向其所属图形的一侧;或者所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线远离其所属图形的一侧,所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线朝向其所属图形的一侧。6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述在所述目标线段对的两条边线各自的预设一侧的重叠区域进行错误标记,包括:以所述目标线段对的第一条边线为底在所述第一条边线的预设一侧按照所述预设距离构建第一欧几里得区域,以及以所述第二条边线为底在所述第二条边线的预设一侧按照所述预设距离构建第二欧几里得区域;确定所述第一条边线位于所述第二欧几里得区域内的重合交点,以及确定所述第二条边线位于所述第一欧几里得区域内的重合交点;生成包围所述两条边线的重合交点的包围区域,并进行错误标记。7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述以所述目标线段对的第一条边线为底在所述第一条边线的预设一侧按照所述预设距离构建第一欧几里得区域的步骤具体为:在所述目标线段对的第一条边线的预设一侧构建间距所述预设距离的第一镜像线以及构建分别连接所述第一条边线的延长线和所述第一镜像线、且半径为所述预设距离的第一圆弧线,得到第一欧几里得区域;所述以所述第二条边线为底在所述第二条边线的预设一侧按照所述预设距离构建第二欧几里得区域的步骤具体为:
在所述第二条...
【专利技术属性】
技术研发人员:李舒啸,
申请(专利权)人:本源科仪成都科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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