在集成电路版图中生成共面波导图形的方法、介质及设备技术

本发明专利技术公开了一种在集成电路版图中生成共面波导图形的方法、介质及设备。该方法包括：确定集成电路版图中用于生成共面波导图形的辅助线；以辅助线为中心线生成共面波导图形；在共面波导图形生成后删除对应的辅助线。以辅助线为中心线生成共面波导图形的步骤包括：以辅助线为中心线分别生成宽度为第一距离的第一导体图形和宽度为第二距离的第二导体图形，第一距离大于所述第二距离；删除第一导体图形和第二导体图形重叠的部分得到共面波导图形。通过上述方式，本发明专利技术能够自动生成共面波导图形，提高版图绘制的效率和精确度。提高版图绘制的效率和精确度。提高版图绘制的效率和精确度。

【技术实现步骤摘要】
在集成电路版图中生成共面波导图形的方法、介质及设备


[0001]本专利技术涉及集成电路领域，特别是涉及一种在集成电路版图中生成共面波导图形的方法、介质及设备。

技术介绍

[0002]共面波导主要用于传输微波频率信号，它由两条平行的传输线构成，经常应用于集成电路中。目前，在集成电路版图设计中，共面波导图形基本上是由人工绘制。但是，在共面波导图形数量较多且分布较密集的情况下，绘制共面波导图形的工作量巨大且极容易出现失误，几乎难以完成。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种在集成电路版图中生成共面波导图形的方法、介质及设备，以解决现有技术中共面波导图形绘制困难的问题，能够自动生成共面波导图形，提高版图绘制的效率和精确度。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种在集成电路版图中生成共面波导图形的方法，包括：
[0005]确定集成电路版图中用于生成共面波导图形的辅助线；
[0006]以所述辅助线为中心线生成共面波导图形。
[0007]优选的，所述以所述辅助线为中心线生成共面波导图形的步骤包括：
[0008]以所述辅助线为中心线分别生成宽度为第一距离的第一导体图形和宽度为第二距离的第二导体图形，所述第一距离大于所述第二距离；
[0009]删除所述第一导体图形和所述第二导体图形重叠的部分得到共面波导图形。
[0010]优选的，所述删除所述第一导体图形和所述第二导体图形重叠的部分得到共面波导图形的步骤具体为：
[0011]对所述第一导体图形和所述第二导体图形进行图形的布尔运算的非运算得到共面波导图形。
[0012]优选的，所述辅助线为折线。
[0013]优选的，在所述以所述辅助线为中心线生成共面波导图形的步骤之前，所述方法包括：
[0014]在所述辅助线的折点处进行倒角处理。
[0015]优选的，所述在所述辅助线的折点处进行倒角处理的步骤具体包括：
[0016]生成与所述辅助线的折点所在的两条线段平滑连接的弯曲过渡线，并删除所述两条线段上折点与弯曲过渡线之间的部分。
[0017]优选的，所述弯曲过渡线为半径为预设长度的圆弧线。
[0018]优选的，所述方法还包括：
[0019]在所述共面波导图形生成后删除对应的辅助线。
[0020]为解决上述技术问题，本专利技术还提供一种存储介质，所述存储介质中存储有计算机程序，所述计算机程序被设置为运行时执行前述任一项所述的在集成电路版图中生成共面波导图形的方法。
[0021]为解决上述技术问题，本专利技术还提供一种电子设备，包括存储器和处理器，所述存储器中存储有计算机程序，所述处理器被设置为运行所述计算机程序以执行前述任一项所述的在集成电路版图中生成共面波导图形的方法。
[0022]区别于现有技术的情况，本专利技术提供的在集成电路版图中生成共面波导图形的方法只需要在集成电路版图中提供用于生成共面波导图形的辅助线，在确定辅助线后，以辅助线为中心线生成共面波导图形，从而能够自动生成共面波导图形，提高版图绘制的效率和精确度。
[0023]本专利技术提供的存储介质及电子设备，与在集成电路版图中生成共面波导图形的方法属于同一专利技术构思，因此具有相同的有益效果，在此不再赘述。
附图说明
[0024]图1为本专利技术第一实施例提供的在集成电路版图中生成共面波导图形的方法的流程示意图。
[0025]图2为图1所示的方法中步骤S2的具体流程示意图。
[0026]图3为本专利技术第三实施例提供的在集成电路版图中生成共面波导图形的方法的流程示意图。
[0027]图4为在一个具体应用中共面波导图形生成过程的示意图。
具体实施方式
[0028]下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。
[0029]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0030]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0031]请参考图1，本专利技术第一实施例提供了一种在集成电路版图中生成共面波导图形的方法，该方法包括以下步骤：
[0032]S1：确定集成电路版图中用于生成共面波导图形的辅助线。
[0033]其中，在集成电路版图中，辅助线可以采用特定标识来区别于其他走线，例如辅助线以高亮显示、特定颜色显示或者将辅助线两端端点加入特定坐标集。通过特定标识可以确定每条走线是否为用于生成共面波导图形的辅助线。
[0034]S2：以辅助线为中心线生成共面波导图形。
[0035]其中，共面波导图形是由两条线宽相等的导体传输线组成，且两条导体传输线的线距固定。将辅助线作为共面波导图形的中心线，可以根据辅助线的位置、导体传输线的线宽、线距生成共面波导图形。
[0036]由于辅助线只用于生成共面波导图形，共面波导图形生成之后，辅助线需要删除，为了简化设计人员的操作，在本实施例中，该方法还包括：
[0037]S3：在共面波导图形生成后删除对应的辅助线。
[0038]通过上述方式，本实施例的在集成电路版图中生成共面波导图形的方法由于不需要版图设计人员直接绘制共面波导图形，只需要绘制辅助线即可，辅助线的绘制方便、简单，不容易出错，从而能够自动生成共面波导图形，提高版图绘制的效率和精确度。
[0039]本专利技术第二实施例提供了一种在集成电路版图中生成共面波导图形的方法，本实施例的方法包括第一实施例的方法的所有步骤，不同之处在于，请参考图2，以辅助线为中心线生成共面波导图形的步骤，即步骤S2包括：
[0040]S21：以辅助线为中心线分别生成宽度为第一距离的第一导体图形和宽度为第二距离的第二导体图形，第一距离大于第二距离。
[0041]其中，根据辅助线的位置以及第一距离生成第一导体图形以及根据辅助线的位置以及第二距离生成第二导体图形后，第一导体图形与第二导体图形部分重叠。
[0042]S22：删除第一导体图形和第二导体图形重叠的部分得到共面波导图形。
[0043]其中，删除第一导体图形和第二导体图形重叠的部分，形成两条导体传输线，两条导体传输线的间距为第二距离，两条导体传输线的线宽为第一距离与第二距离的差值。
[0044]进一步的，在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种在集成电路版图中生成共面波导图形的方法，其特征在于，包括：确定集成电路版图中用于生成共面波导图形的辅助线；以所述辅助线为中心线生成共面波导图形。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述以所述辅助线为中心线生成共面波导图形的步骤包括：以所述辅助线为中心线分别生成宽度为第一距离的第一导体图形和宽度为第二距离的第二导体图形，所述第一距离大于所述第二距离；删除所述第一导体图形和所述第二导体图形重叠的部分得到共面波导图形。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述删除所述第一导体图形和所述第二导体图形重叠的部分得到共面波导图形的步骤具体为：对所述第一导体图形和所述第二导体图形进行图形的布尔运算的非运算得到共面波导图形。4.根据权利要求1至3任一项所述的方法，其特征在于，所述辅助线为折线。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在所述以所述辅助线为中心线生成共面波导图形的步骤之前，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊秋锋，李舒啸，宋金峰，李孜怡，张宇，郑世杰，
申请(专利权)人：本源科仪成都科技有限公司，
类型：发明
国别省市：