量子芯片版图的图形间距标记方法、存储介质及电子设备技术

本发明专利技术公开了一种量子芯片版图的图形间距标记方法、存储介质及电子设备。该方法包括：获取量子芯片版图所有图形中至少部分处于预设距离范围内的两条边线；以第一条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照预设距离构建第一欧几里得区域，以及以第二条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照预设距离构建第二欧几里得区域，两条边线各自的预设一侧互为相对；确定第一条边线位于第二欧几里得区域内的重合交点，以及确定第二条边线位于第一欧几里得区域内的重合交点；生成包围两条边线的重合交点的包围区域，并进行错误标记。本发明专利技术能够自动完成间距错误标记，提高标记效率。提高标记效率。提高标记效率。

【技术实现步骤摘要】
量子芯片版图的图形间距标记方法、存储介质及电子设备


[0001]本专利技术涉及芯片版图设计领域，特别是涉及一种量子芯片版图的图形间距标记方法、存储介质及电子设备。

技术介绍

[0002]量子芯片是由很多超导层和介质层按照一定设计规则堆叠而成的芯片，例如作为量子芯片关键器件的约瑟夫森结，就是由两层超导层中间夹设一层介质层构成。因此，量子芯片版图中需要绘制很多表示器件的图形。在量子芯片版图设计完成之后，需要进行DRC(Design rules checking，设计规则检查)，而间距检查是DRC的重点工作。
[0003]现有的量子芯片设计规则检查过程中，设计人员需要对间距不符合设计规则的图形进行标记。然而，量子芯片版图中的图形通常数量很多且很密集，人工标记错误费时费力，效率很低，不能满足设计需要。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种量子芯片版图的图形间距标记方法、存储介质及电子设备，以解决现有技术中人工标记错误不能满足设计需要的问题，能够自动完成间距错误标记，提高标记效率。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种量子芯片版图的图形间距标记方法，包括：
[0006]获取量子芯片版图所有图形中至少部分处于预设距离范围内的两条边线；
[0007]以第一条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照所述预设距离构建第一欧几里得区域，以及以第二条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照所述预设距离构建第二欧几里得区域，所述两条边线各自的预设一侧互为相对；
>[0008]确定所述第一条边线位于所述第二欧几里得区域内的重合交点，以及确定所述第二条边线位于所述第一欧几里得区域内的重合交点；
[0009]生成包围所述两条边线的重合交点的包围区域，并进行错误标记。
[0010]优选的，所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线远离其所属图形的一侧，所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线远离其所属图形的一侧。
[0011]优选的，所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线朝向其所属图形的一侧，所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线朝向其所属图形的一侧。
[0012]优选的，所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线远离其所属图形的一侧，所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线朝向其所属图形的一侧。
[0013]优选的，所述以第一条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照所述预设距离构建第一欧几里得区域的步骤具体为：
[0014]在第一条边线相对其所属图形的预设一侧构建间距所述预设距离的第一镜像线以及构建分别连接所述第一条边线的延长线和所述第一镜像线、且半径为所述预设距离的第一圆弧线，得到第一欧几里得区域；
[0015]所述以第二条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照所述预设距离构建第二欧几里得区域的步骤具体为：
[0016]在第二条边线相对其所属图形的预设一侧构建间距所述预设距离的第二镜像线以及构建分别连接所述第二条边线的延长线和所述第二镜像线、且半径为所述预设距离的第二圆弧线，得到第二欧几里得区域。
[0017]优选的，所述第一条边线的重合交点为所述第一条边线位于所述第二欧几里得区域内的线段的两端点，所述第二条边线的重合交点为所述第二条边线位于所述第一欧几里得区域内的线段的两端点。
[0018]优选的，所述包围区域为所述两条边线的重合交点的凸包。
[0019]优选的，所述两条边线形成的角度在预设角度区间之外，或者所述两条边线不相交，或者所述两条边线属于不同的图形。
[0020]为解决上述技术问题，本专利技术还提供一种存储介质，所述存储介质中存储有计算机程序，所述计算机程序被设置为运行时执行前述任一项所述的量子芯片版图的图形间距标记方法。
[0021]为解决上述技术问题，本专利技术还提供一种电子设备，包括存储器和处理器，所述存储器中存储有计算机程序，所述处理器被设置为运行所述计算机程序以执行前述任一项所述的量子芯片版图的图形间距标记方法。
[0022]区别于现有技术的情况，本专利技术提供的量子芯片版图的图形间距标记方法通过获取量子芯片版图所有图形中不满足间距规则的两条边线，分别以两条边线为底在相对各自所属图形的预设一侧构建欧几里得区域，分别确定两条边线位于两个欧几里得区域内的重合交点，最后生成包围两条边线的重合交点的包围区域，并进行错误标记，从而能够自动完成间距错误标记，提高标记效率。
[0023]本专利技术提供的存储介质及电子设备，与量子芯片版图的图形间距标记方法属于同一专利技术构思，因此具有相同的有益效果，在此不再赘述。
附图说明
[0024]图1为本专利技术实施例的量子芯片版图的图形间距标记方法的流程示意图。
[0025]图2为本专利技术实施例中量子芯片版图的两个图形的示意图。
[0026]图3为以两条边线为底分别构建的欧几里得区域的示意图。
[0027]图4为在两条边线的欧几里得区域内生成的包围区域的示意图。
[0028]图5为对欧几里得区域内的包围区域进行错误标记的示意图。
具体实施方式
[0029]下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。
[0030]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，
因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0031]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0032]请参考图1，本专利技术实施例提供了一种量子芯片版图的图形间距标记方法。该图形间距标记方法包括以下步骤：
[0033]S1：获取量子芯片版图所有图形中至少部分处于预设距离范围内的两条边线。
[0034]其中，量子芯片版图的图形是二维平面的多边形，每个多边形至少包括三条边线。两条边线至少部分处于预设距离范围内，则表示这两条边线所属图形之间的间距不满足DRC要求。预设距离范围可以是一个半径为预设距离的圆形，如果预设距离范围内存在两条边线的部分，则说明这两条边线至少部分处于预设距离范围内。例如，一条边线的一个端点到另一条边线的最短距离小于预设距离，那么说明这条边线至少部分处于另一条边线的预设距离范围内。两条边线的位置关系可以是任意关系，例如平行或者不平行。如图2所示，图形A的边线A1的端点与图形B的边线B1的间距至少部分处于预本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种量子芯片版图的图形间距标记方法，其特征在于，包括：获取量子芯片版图所有图形中至少部分处于预设距离范围内的两条边线；以第一条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照所述预设距离构建第一欧几里得区域，以及以第二条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照所述预设距离构建第二欧几里得区域，所述两条边线各自的预设一侧互为相对；确定所述第一条边线位于所述第二欧几里得区域内的重合交点，以及确定所述第二条边线位于所述第一欧几里得区域内的重合交点；生成包围所述两条边线的重合交点的包围区域，并进行错误标记。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线远离其所属图形的一侧，所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线远离其所属图形的一侧。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线朝向其所属图形的一侧，所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线朝向其所属图形的一侧。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一条边线的预设一侧为所述第一条边线远离其所属图形的一侧，所述第二条边线的预设一侧为所述第二条边线朝向其所属图形的一侧。5.根据权利要求1至4任一项所述的方法，其特征在于，所述以第一条边线为底在相对其所属图形的预设一侧按照所述预设距离构建第一欧几里得区域的步骤具体为：在第一条边线相对其所属图形的预设一侧构建间距所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李舒啸，
申请(专利权)人：本源科仪成都科技有限公司，
类型：发明
国别省市：