本实用新型专利技术提供了一种瓷砖施釉输送线清理装置，涉及清理装置技术领域，包括釉线输送带、左支架和右支架，所述釉线输送带的左侧设有左支架，所述釉线输送带的右侧设有右支架，所述釉线输送带右侧的下方设有导流板，所述导流板的底部设有支撑脚，所述导流板的左侧设有储料箱，所述釉线输送带的左侧设有水箱，所述釉线输送带的左侧设有喷水机构，所述导流板右侧的上方设刮料机构；本实用新型专利技术通过沾染上釉料的会经过喷水机构的区域，喷水机构将水喷向釉料降低其粘性，接着釉线输送带会经过导流板右侧的上方，刮料机构将釉料自动刮除，并引导其自动流动进储料箱的内部，使釉料被再次回收利用。利用。利用。
【技术实现步骤摘要】
一种瓷砖施釉输送线清理装置
[0001]本技术涉及清理装置
，尤其涉及一种瓷砖施釉输送线清理装置。
技术介绍
[0002]瓷砖，是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物，经由研磨、混合、压制、施釉、烧结之过程，而形成的一种耐酸碱的瓷质或石质等，建筑或装饰材料，称之为瓷砖，瓷砖施釉一般是采用淋釉的方法，瓷砖位于底部罩体内，通过喷淋方式将釉淋于瓷砖上表面；
[0003]为保障生产的稳定性，淋釉器为连续工作不间断地流下釉料，而瓷砖坯体则是间断式通过淋釉器，因此在没有砖坯经过淋釉器的时间里，从淋釉器流下来的釉料就会经过釉线皮带掉到釉料回收容器中，在此过程中无法避免地会有一部分釉料流到釉线皮带上，造成皮带污染，这样釉线皮带上的釉料就会粘在瓷砖底部，影响瓷砖产生的品质，因此，本技术提出一种瓷砖施釉输送线清理装置用来解决上述问题。
技术实现思路
[0004]针对上述问题，本技术提出一种瓷砖施釉输送线清理装置，已解决现有技术中釉料粘附在釉线皮带上影响瓷砖产生的品质的问题。
[0005]为实现本技术的目的，本技术通过以下技术方案实现：一种瓷砖施釉输送线清理装置，包括釉线输送带、左支架和右支架，所述釉线输送带的左侧设有左支架，所述釉线输送带的右侧设有右支架，所述釉线输送带右侧的下方设有导流板，所述导流板的底部设有支撑脚，所述导流板的左侧设有储料箱，所述釉线输送带的左侧设有水箱，所述釉线输送带的左侧设有喷水机构，所述导流板右侧的上方设刮料机构；
[0006]所述喷水机构包括水泵、集料罐、水管、喷淋管和喷头，所述水箱的左侧设有注水管，所述水箱的外侧安装有水泵，所述左支架的底部设有集料罐，所述集料罐的右侧设有喷淋管，所述喷淋管的外侧设有喷头，所述水泵的输入端与水箱的内部连通，所述水泵的输出端通过水管与集料罐顶端连通，所述集料罐底端通过水管与喷淋管连通，所述喷淋管的外侧设有喷头。
[0007]进一步改进在于：所述釉线输送带的左侧连接有转盘，所述集料罐的顶部设有加压机构，所述加压机构与转盘联动。
[0008]进一步改进在于：所述加压机构包括活动杆和活塞，所述左支架的顶部滑动安装有滑块，所述滑块的外侧铰接有连接杆，所述连接杆的顶端与转盘的外侧铰接，所述滑块的底部连接有活动杆，所述活动杆的底端插入集料罐的内部并连接有活塞。
[0009]进一步改进在于：所述导流板的结构设为自右向左倾斜，所述储料箱右侧的上方与导流板的左侧贴合连接，所述导流板右侧的上方设有刮料机构。
[0010]进一步改进在于：所述刮料机构包括刮料轮、带轮、皮带和刮板，所述导流板右侧的上方转动安装有刮料轮，所述刮料轮的一端与釉线输送带的右侧均连接有带轮，两个所述带轮通过皮带连接，所述导流板的右侧设有刮板，所述刮板的顶部与釉线输送带的底部
贴合连接，所述刮板的顶部设有向左侧倾斜的倒角。
[0011]进一步改进在于：所述刮料轮的内部设有落料槽，所述落料槽的数量为多个，所述落料槽在刮料轮上呈等距环形分布状态，所述刮料轮的一侧还与刮板的左侧贴合连接。
[0012]本技术的有益效果为：之后沾染上釉料的会经过喷水机构的区域，喷水机构，中的水泵将水箱内部的水通过水管输送到集料罐的内部，集料罐的顶部通过转盘、连接杆与滑块构成的曲柄滑块机构，带动活动杆和活塞在集料罐的内部上下往复滑动，从而不断的给集料罐的内部施加压力，将水喷向釉料降低其粘性，接着釉线输送带会经过导流板右侧的上方，釉线输送带的右侧通过带传动带动刮料机构中刮料轮转动，可使旋转的刮料轮不断的刮取釉线输送带底部的釉料，釉线输送带底部未刮干净的釉料还可通过刮板进行二次刮取，并引导其自动流动进储料箱的内部，使釉料被再次回收利用，解决了现有技术中釉料粘附在釉线皮带上影响瓷砖产生的品质的问题。
附图说明
[0013]图1为本技术的主视图；
[0014]图2为本技术图1的A处局部放大图；
[0015]图3为本技术的导流板俯视图。
[0016]其中：1、釉线输送带；2、左支架；3、右支架；4、导流板；5、支撑脚；6、储料箱；7、水箱；8、注水管；9、水泵；10、集料罐；11、水管；12、喷淋管；13、喷头；14、转盘；15、连接杆；16、滑块；17、活动杆；18、活塞；19、刮料轮；20、带轮；21、皮带；22、刮板。
具体实施方式
[0017]为了加深对本技术的理解，下面将结合实施例对本技术做进一步详述，本实施例仅用于解释本技术，并不构成对本技术保护范围的限定。
[0018]根据图1、2、3所示，本实施例提出了一种瓷砖施釉输送线清理装置，包括釉线输送带1、左支架2和右支架3，所述釉线输送带1的左侧设有左支架2，所述釉线输送带1的右侧设有右支架3，所述釉线输送带1右侧的下方设有导流板4，所述导流板4的底部设有支撑脚5，所述导流板4的左侧设有储料箱6，所述釉线输送带1的左侧设有水箱7，所述釉线输送带1的左侧设有喷水机构，所述导流板4右侧的上方设刮料机构，釉线输送带1是自右向左运输瓷砖的，当釉线输送带1运输瓷砖经过淋釉装置后，其表面会粘附上一层釉料，其再次运输瓷砖时会对瓷砖的底部造成污染，之后沾染上釉料的会经过喷水机构的区域，喷水机构将水喷向釉料降低其粘性，接着釉线输送带1会经过导流板4右侧的上方，刮料机构将釉料自动刮除，并引导其自动流动进储料箱6的内部，使釉料被再次回收利用。
[0019]所述喷水机构包括水泵9、集料罐10、水管11、喷淋管12和喷头13，所述水箱7的左侧设有注水管8，所述水箱7的外侧安装有水泵9，所述左支架2的底部设有集料罐10，所述集料罐10的右侧设有喷淋管12，所述喷淋管12的外侧设有喷头13，所述水泵9的输入端与水箱7的内部连通，所述水泵9的输出端通过水管11与集料罐10顶端连通，所述集料罐10底端通过水管11与喷淋管12连通，所述喷淋管12的外侧设有喷头13，通过注水管8向水箱7的内部补充水源，水泵9将水箱7内部的水通过水管11输送到集料罐10的内部，再由集料罐10将水转运到喷淋管12的内部，再通过喷头13将水喷射向釉线输送带1的底部，利用水去稀释粘附
在釉线输送带1底部的釉料，使釉料更容易被导流板4右侧上方的刮料机构刮除。
[0020]所述釉线输送带1的左侧连接有转盘14，所述集料罐10的顶部设有加压机构，所述加压机构与转盘14联动，因转盘14与釉线输送带1的右侧连接，所以釉线输送带1可带动转盘14转动，转盘14在转动时可驱动加压机构工作，通过加压机构给集料罐10内部的水施加压力，使喷头13喷出的水压力加强，使粘附在釉线输送带1底部的釉料更容易被水给稀释。
[0021]所述加压机构包括活动杆17和活塞18，所述左支架2的顶部滑动安装有滑块16，所述滑块16的外侧铰接有连接杆15，所述连接杆15的顶端与转盘14的外侧铰接，所述滑块16的底部连接有活动杆17，所述活动杆17的底端插入集料罐10的内部并连接有活塞18，转盘14本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种瓷砖施釉输送线清理装置，包括釉线输送带(1)、左支架(2)和右支架(3)，其特征在于：所述釉线输送带(1)的左侧设有左支架(2)，所述釉线输送带(1)的右侧设有右支架(3)，所述釉线输送带(1)右侧的下方设有导流板(4)，所述导流板(4)的底部设有支撑脚(5)，所述导流板(4)的左侧设有储料箱(6)，所述釉线输送带(1)的左侧设有水箱(7)，所述釉线输送带(1)的左侧设有喷水机构，所述导流板(4)右侧的上方设刮料机构；所述喷水机构包括水泵(9)、集料罐(10)、水管(11)、喷淋管(12)和喷头(13)，所述水箱(7)的左侧设有注水管(8)，所述水箱(7)的外侧安装有水泵(9)，所述左支架(2)的底部设有集料罐(10)，所述集料罐(10)的右侧设有喷淋管(12)，所述喷淋管(12)的外侧设有喷头(13)，所述水泵(9)的输入端与水箱(7)的内部连通，所述水泵(9)的输出端通过水管(11)与集料罐(10)顶端连通，所述集料罐(10)底端通过水管(11)与喷淋管(12)连通，所述喷淋管(12)的外侧设有喷头(13)。2.根据权利要求1所述的一种瓷砖施釉输送线清理装置，其特征在于：所述釉线输送带(1)的左侧连接有转盘(14)，所述集料罐(10)的顶部设有加压机构，所述加压机构与转盘(14)联动。3.根据权利要求2所述的一种瓷砖施釉输送线清理装置，其特征在于：所...
【专利技术属性】
技术研发人员：林远，刘小平，卫学奎，
申请(专利权)人：山西美陶陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：
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