一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器。所述清洁度监测器可包括质谱仪、分子聚集和释放单元、以及分析器。所述分子聚集和释放单元被配置为(a)在聚集时期期间聚集存在于所述真空腔室中的有机分子和(b)在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放。所述质谱仪被配置为：监测所述真空腔室内的环境，和产生指示所述环境的内容物的检测信号；其中所述检测信号的第一子集指示所述有机分子的所述子集的存在。所述分析器被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的清洁度。洁度。洁度。
【技术实现步骤摘要】
用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法
[0001]本申请是申请日为2018年7月13日申请的申请号为201880047913.5，并且专利技术名称为“用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法”的专利技术专利申请的分案申请。
[0002]相关申请的交叉引用
[0003]本申请是于2017年7月18日提交的美国专利申请第15/653，299号的部分继续申请，为了所有目的，通过引用将上述专利申请的整体内容结合在此。
[0004]本公开内容涉及用于监测真空腔室的清洁度的系统和方法。
技术介绍
[0005]分子污染是半导体制造业中的基本问题，具体而言是在包括真空腔室的工具(诸如扫描电子显微镜)中的基本问题。
[0006]有机分子可能起源于真空腔室里面的有机物成分，以及起源于先前安插到真空腔室中的晶片。
[0007]这些有机分子吸附在受检查晶片的表面上，而形成覆盖表面的小部分的岛状物。
[0008]这些岛状物可能造成晶片故障。
[0009]清洁度水平由于维护活动和受检查晶片的释气水平而随时间变化。
[0010]存在着提供用于监测真空腔室的清洁度的设备和方法的增长的需要。
技术实现思路
[0011]可提供一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器，所述清洁度监测器可包括：质谱仪；分子聚集和释放单元，所述分子聚集和释放单元被配置为(a)在聚集时期期间聚集可能存在于所述真空腔室中的有机分子和(b)在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放；其中所述质谱仪可被配置为监测所述真空腔室内的环境并产生可指示所述环境的内容物的检测信号；其中所述检测信号的第一子集可指示所述有机分子的所述子集的存在；和分析器，所述分析器可被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的清洁度。
[0012]所述分子聚集和释放单元可包括加热元件，所述加热元件可热耦接至所述分子聚集和释放单元的分子聚集器。
[0013]所述分子聚集和释放单元可包括分子释放器，所述分子释放器可电耦接至所述分子聚集和释放单元的分子聚集器；且其中所述分子释放器可被配置为将电流驱动通过所述分子聚集器，由此加热所述分子聚集器。
[0014]所述分子聚集和释放单元可包括螺旋形导电体。
[0015]所述分子聚集和释放单元可包括螺旋形电绝缘体。
[0016]所述分子聚集和释放单元可包括不平滑板(non
‑
smooth plate)。
[0017]所述清洁度监测器可包括流量控制单元，所述流量控制单元用于在所述释放时期
期间影响聚集分子的传播。
[0018]所述流量控制单元可包括泵，所述泵用于朝向所述质谱仪引导所述聚集分子。
[0019]所述分子聚集和释放单元可被配置为应用给定释放过程，所述给定释放过程用于朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的所述子集的释放；且其中所述清洁度监测器可进一步包括虚设分子聚集和释放单元，所述虚设分子聚集和释放单元相较于所述分子聚集和释放单元而言对于所述有机分子具有较低程度的暴露且可被配置为应用所述给定释放过程。
[0020]所述清洁度监测器可包括额外质谱仪，所述额外质谱仪可被配置为监测所述真空腔室内包括所述虚设分子聚集和释放单元的空间。
[0021]所述检测信号的第二子集可不指示所述有机分子中的某些部分的存在。所述分析器可被配置为基于所述检测信号的所述第一子集和所述第二子集之间的比较来确定所述真空腔室的清洁度。
[0022]所述检测信号的所述第二子集可以是在所述释放时期之前或在所述释放时期之后的预定时期之后获得的。
[0023]所述聚集时期可比所述释放时期长。
[0024]可提供一种用于监测真空腔室的清洁度的方法，所述方法可包括以下步骤：在聚集时期期间且由可定位在所述真空腔室内的分子聚集和释放单元，聚集可能存在于所述真空腔室中的有机分子；在释放时期期间，由所述分子聚集和释放单元朝向质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放；由所述质谱仪监测所述真空腔室内的环境，和由所述质谱仪产生指示所述环境的内容物的检测信号；其中所述检测信号的第一子集可指示所述有机分子的所述子集的存在；和由分析器且基于所述检测信号，确定所述真空腔室的清洁度。
[0025]所述分子聚集和释放单元可包括加热元件，所述加热元件可热耦接至所述分子聚集和释放单元的分子聚集器。
[0026]所述分子聚集和释放单元可包括分子释放器，所述分子释放器可电耦接至所述分子聚集和释放单元的分子聚集器；且其中所述方法可包括以下步骤：由所述分子释放器将电流驱动通过所述分子聚集器，由此加热所述分子聚集器。
[0027]所述分子聚集和释放单元可包括螺旋形导电体。
[0028]所述分子聚集和释放单元可包括螺旋形电绝缘体。
[0029]所述分子聚集和释放单元可包括不平滑板。
[0030]所述清洁度监测器可包括流量控制单元，且所述方法可包括以下步骤：由所述流量控制单元在所述释放时期期间影响聚集分子的传播。
[0031]所述流量控制单元可包括泵，且所述方法可包括以下步骤：由所述泵朝向所述质谱仪引导所述聚集分子。
[0032]所述方法可包括以下步骤：由所述分子聚集和释放单元应用给定释放过程，所述给定释放过程用于朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的所述子集的释放；和由虚设分子聚集和释放单元应用所述给定释放过程，所述虚设分子聚集和释放单元相较于所述分子聚集和释放单元而言对于所述有机分子具有较低程度的暴露。
[0033]所述清洁度监测器可包括额外质谱仪，且所述方法可包括以下步骤：由所述额外质谱仪监测所述真空腔室内包括所述虚设分子聚集和释放单元的空间。
[0034]所述检测信号的第二子集可不指示所述有机分子中的某些部分的存在。所述方法
可包括以下步骤：由所述分析器基于所述检测信号的所述第一子集和所述第二子集之间的比较来确定所述真空腔室的清洁度。
[0035]所述检测信号的所述第二子集可以是在所述释放时期之前或在所述释放时期之后的预定时期之后获得的。
[0036]所述聚集时期可比所述释放时期长。
附图说明
[0037]在本说明书的总结部分具体指出和明确要求保护被视为本专利技术的主题。然而，本专利技术就组织和操作方法两者及其目标、特征和优点而论，可通过在与附图一同阅读时参照以下详细说明来最佳地理解，在这些附图中：
[0038]图1是真空腔室和清洁度监测器的示例；
[0039]图2是真空腔室和清洁度监测器的示例；
[0040]图3是真空腔室和清洁度监测器的示例；
[0041]图4是真空腔室和清洁度监测器的示例；
[0042]图5是真空腔室和清洁度监测器的示例；
[0043]图6是真空腔室和清洁度监测器的示例；
[0044]图7是真空腔室、晶片60、分子聚集和释放单元、和扫描电子显微镜的柱状物的进入真空腔室的一部分的示例；...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器，所述清洁度监测器包括：质谱仪，所述质谱仪与所述真空腔室处于一条视线上；分子聚集和释放单元，所述分子聚集和释放单元被配置为定位在所述真空腔室内并且被配置为(a)在聚集时期期间聚集存在于所述真空腔室中的有机分子和(b)在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放；其中所述质谱仪被配置为监测所述真空腔室内的环境和产生指示所述环境的内容物的检测信号；其中所述检测信号的第一子集指示所述有机分子的所述子集的存在；和分析器，所述分析器被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的所述清洁度。2.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括加热元件，所述加热元件热耦接至所述分子聚集和释放器的分子聚集器。3.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括分子释放器，所述分子释放器电耦接至所述分子聚集和释放器的分子聚集器；且其中所述分子释放器被配置为将电流驱动通过所述分子聚集器，由此加热所述分子聚集器。4.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括螺旋形导电体。5.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括螺旋形电绝缘体。6.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述分子聚集和释放单元包括不平滑板。7.根据权利要求1所述的清洁度监测器，包括流量控制单元，所述流量控制单元用于在所述释放时期期间影响聚集分子的传播。8.根据权利要求7所述的清洁度监测器，其中所述流量控制单元包括泵，所述泵用于朝向所述质谱仪引导所述聚集分子。9.根据权利要求1所述的清洁度监测器，其中所述聚集时期比所述释放时期长。10.一种用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器，所述清洁度监测器包括：质谱仪；分子聚集和释放单元，所述分子聚集和释放单元被配置为(a)在聚集时期期间聚集存在于所述真空腔室中的有机分子和(b)在释放时期期间朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的子集的释放；其中所述质谱仪被配置为监测所述真空腔室内的环境和产生指示所述环境的内容物的检测信号；其中所述检测信号的第一子集指示所述有机分子的所述子集的存在；和分析器，所述分析器被配置为基于所述检测信号来确定所述真空腔室的所述清洁度；其中所述分子聚集和释放单元被配置为应用给定释放过程，所述给定释放过程用于朝向所述质谱仪诱导所述有机分子的所述子集的所述释放；并且其中所述清洁度监测器进一步包括虚设分子聚集和释放单元，所述虚设分子聚集和释放单元相较于所述分子聚集和释放单元而言对于所述有机分子具有更低程度的暴露且被配置为应用所述给定释放过程。11.根据权利要求10所述的清洁度监测器，包括额外质谱仪，所述额外质谱仪被配置为监测所述真空腔室内包括所述虚设分子聚集和释放器的空间。12.根据权利要求11所述的清洁度监测器，其中所述检测信号的第二子集不指示所述有机分子中的某些部分的存在；并且其中所述分析器被配置为基于所述检测信号的所述第
一子集和所述第二子集之间的比较来确定所述真空腔室的所述清洁度。13.根据权利要求11所...
【专利技术属性】
技术研发人员：伊里特，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：
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