System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 使用电子束的电阻抗测量制造技术_技高网

使用电子束的电阻抗测量制造技术

技术编号:41304780 阅读:2 留言:0更新日期:2024-05-13 14:50
一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的方法,该方法包括:(i)执行第一照明迭代,该第一照明迭代包括用照明迭代电荷对结构进行充电;(ii)执行第二照明迭代,该第二照明迭代包括对结构进行成像,以提供结构的图像;确定照明迭代电荷的值以及步骤(i)与步骤(ii)之间的时间差的值,以引入结构的阻抗与结构的图像之间的依赖性;其中步骤(i)和(ii)是使用电子束执行的,以及(iii)基于结构的图像来确定结构的阻抗相关值。可存在三个或更多个阻抗相关值的值。

【技术实现步骤摘要】


技术介绍

1、扫描电子显微镜电压对比测试提供了对半导体晶片的结构(该结构是三维的并且具有显微镜尺度)是否对地短路的指示。

2、越来越需要提供关于结构的阻抗的更多信息。


技术实现思路

1、可提供一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的带电粒子系统,该带电粒子系统可包括成像器和阻抗电路。成像器可以被配置为(i)执行第一照明迭代,该第一照明迭代包括使用电子束用照明迭代电荷对结构进行充电;其中所述结构是三维的并且具有显微镜尺度;以及(ii)执行第二照明迭代,该第二照明迭代包括使用电子束对结构进行成像,以提供结构的图像;其中第一照明迭代与第二照明迭代之间存在时间差;其中确定照明迭代电荷的值以及第一照明迭代与第二照明迭代之间的时间差的值,以引入结构的阻抗与结构的图像之间的依赖性。阻抗电路可以被配置为:基于结构的图像来确定结构的阻抗相关值,其中结构的阻抗相关值是从三个或更多个不同的阻抗相关值中选择的。

2、可提供一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的方法,该方法可包括(i)由成像器执行第一照明迭代,该第一照明迭代包括使用电子束用照明迭代电荷对结构进行充电;其中所述结构是三维的并且具有显微镜尺度;(ii)由成像器执行第二照明迭代,该第二照明迭代包括使用电子束对结构进行成像,以提供结构的图像;其中第一照明迭代与第二照明迭代之间存在时间差;其中确定照明迭代电荷的值以及第一照明迭代与第二照明迭代之间的时间差的值,以引入结构的阻抗与结构的图像之间的依赖性;以及(iii)由阻抗电路基于结构的图像来确定结构的阻抗相关值,其中结构的阻抗相关值是从三个或更多个不同的阻抗相关值中选择的。

3、可提供一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的非暂态计算机可读介质,该非暂态计算机可读介质存储指令,该指令一旦由带电粒子系统执行就使该带电粒子系统(i)由带电粒子系统的成像器执行第一照明迭代,该第一照明迭代包括使用电子束用照明迭代电荷对结构进行充电;其中所述结构是三维的并且具有显微镜尺度;(ii)由成像器执行第二照明迭代,该第二照明迭代包括使用电子束对结构进行成像,以提供结构的图像;其中第一照明迭代与第二照明迭代之间存在时间差;其中确定照明迭代电荷的值以及第一照明迭代与第二照明迭代之间的时间差的值,以引入结构的阻抗与结构的图像之间的依赖性;以及(iii)由带电粒子系统的阻抗电路基于结构的图像来确定结构的阻抗相关值,其中结构的阻抗相关值是从三个或更多个不同的阻抗相关值中选择的。

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【技术保护点】

1.一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的带电粒子系统,所述带电粒子系统包括:

2.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,确定所述照明迭代电荷的值和所述时间差的值,以将所述结构的充电状态与所述结构的所述阻抗相关联。

3.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,确定所述照明迭代电荷的值和所述时间差的值,以(i)当所述结构的所述阻抗具有第一值时,将所述照明迭代电荷完全放电,以及(ii)当所述结构的所述阻抗具有与所述第一值不同的第二值时,将所述照明迭代电荷部分放电。

4.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,所述阻抗电路被配置为基于所述结构的所述图像中的结构像素的强度来确定所述结构的所述阻抗相关值。

5.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,所述阻抗电路被配置为基于所述结构的所述图像中的结构像素的强度的平均值来确定所述结构的所述阻抗相关值。

6.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,所述成像器被配置为执行多次照明迭代,并且至少在所述多次照明迭代中的最后一次照明迭代期间生成所述样本的所述图像。

<p>7.如权利要求6所述的带电粒子系统,其特征在于,所述成像器被配置为在所述多次照明迭代中的至少两次照明迭代期间生成所述样本的至少两个图像。

8.如权利要求7所述的带电粒子系统,其特征在于,所述阻抗电路被配置为基于所述至少两个图像之间的关系来确定所述结构的所述阻抗相关值。

9.如权利要求8所述的带电粒子系统,其特征在于,所述阻抗电路被配置为当所述至少两个图像基本上彼此相等时确定所述结构是功能性的。

10.如权利要求8所述的带电粒子系统,其特征在于,所述阻抗电路被配置为在所述至少两个图像内的结构像素强度的平均值随时间显著增加时确定所述结构有缺陷。

11.如权利要求6所述的带电粒子系统,其特征在于,所述多次照明迭代中的第一对照明迭代之间的时间差与所述多次照明迭代中的第二对照明迭代之间的时间差不同。

12.如权利要求6所述的带电粒子系统,其特征在于,所述多次照明迭代中的一者的照明迭代电荷的值与所述多次照明迭代中的另一者的照明迭代电荷的值不同。

13.如权利要求1至12中任一项所述的带电粒子系统,其特征在于,所述带电粒子系统被配置为确定所述照明迭代电荷的值并且确定所述第一照明迭代与所述第二照明迭代之间的所述时间差的所述值。

14.一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的方法,所述方法包括:

15.一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的非暂态计算机可读介质,所述非暂态计算机可读介质存储指令,所述指令一旦由带电粒子系统执行就使所述带电粒子系统:

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【技术特征摘要】

1.一种用于评估样本的结构的阻抗相关值的带电粒子系统,所述带电粒子系统包括:

2.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,确定所述照明迭代电荷的值和所述时间差的值,以将所述结构的充电状态与所述结构的所述阻抗相关联。

3.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,确定所述照明迭代电荷的值和所述时间差的值,以(i)当所述结构的所述阻抗具有第一值时,将所述照明迭代电荷完全放电,以及(ii)当所述结构的所述阻抗具有与所述第一值不同的第二值时,将所述照明迭代电荷部分放电。

4.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,所述阻抗电路被配置为基于所述结构的所述图像中的结构像素的强度来确定所述结构的所述阻抗相关值。

5.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,所述阻抗电路被配置为基于所述结构的所述图像中的结构像素的强度的平均值来确定所述结构的所述阻抗相关值。

6.如权利要求1所述的带电粒子系统,其特征在于,所述成像器被配置为执行多次照明迭代,并且至少在所述多次照明迭代中的最后一次照明迭代期间生成所述样本的所述图像。

7.如权利要求6所述的带电粒子系统,其特征在于,所述成像器被配置为在所述多次照明迭代中的至少两次照明迭代期间生成所述样本的至少两个图像。

8.如权利要求7所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:A·戈尔登斯坦D·T·富克斯
申请(专利权)人:应用材料以色列公司
类型:发明
国别省市:

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