光学系统和校准光学系统的方法技术方案

本公开涉及一种校准光学系统的方法，所述光学系统包括：物镜布置，用于接收来自对象的至少一部分的反射光，以及成像透镜，用于投射从物镜布置接收的光以在目标平面上形成对象的至少部分的图像，所述方法包括：基于要在目标平面上形成的对象的至少部分的图像的预定尺寸来在目标平面上限定目标区；将成像透镜沿其光轴移动到多个成像透镜位置，该多个成像透镜位置相对于目标平面的距离而变化，以使目标平面上的图像的放大率变化；当对象的至少部分的图像在目标平面上的目标区内配合时，从多个成像透镜位置确定第一成像透镜位置；以及基于第一成像透镜位置来将成像透镜定位在操作位置处，使得对象的至少部分的图像被约束在目标平面上的目标区内。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学系统(诸如显微镜中使用的光学布置)和校准这种系统的方法。本技术进一步涉及例如用于检查试样或对象(诸如但不限于半导体晶片和/或掩模的检查)的光学检查系统，该光学检查系统包括本文公开的光学显微镜系统。

技术介绍

1、存在用于试样检查的多种系统。这些系统可包括光学系统，诸如各种显微镜(常规和数字)和显微镜布置，并且试样可包括一系列对象，诸如半导体晶片和掩模、食品以及有机试样。美国专利号6,407,373(以引用方式并入本文)公开了例如一种用于检查对象上的缺陷的系统，所述系统包括光学显微镜和扫描电子显微镜(sem)。

2、常规的光学检查系统通常包括用于收集来自被检查试样的光的物镜。物镜可形成物镜布置的一部分，该物镜布置进一步包括一个或多个附加透镜。试样可由光源照射，所述光源反射、透射和/或散射来自光源的光。对从试样收集的光进行成像使得可以分析试样的表面结构。试样可被接收并固定在静止平台上或在工作台机构上移动，根据需要，该工作台机构允许试样在一维(例如，改变试样与物镜之间的距离或沿z轴的物镜布置)、二维(例如，沿z轴和与z轴正交的扫描方向(本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种校准光学显微镜系统的方法，所述光学显微镜系统包括：物镜布置(120)，所述物镜布置用于接收来自对象(200)的至少一部分的光，以及成像透镜(140)，所述成像透镜用于投射从所述物镜布置接收的光以在目标平面(150)上形成所述对象的至少所述部分的图像，所述方法包括：

2.如权利要求1所述的方法，其中所述光学显微镜系统包括光检测器设备，所述光检测器设备被配置为检测所述对象的至少所述部分的所述图像，所述方法进一步包括使用所述光检测器设备在基本上位于所述目标平面上的位置处检测所述对象的至少所述部分的所述图像。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述光检测器设备包括由...

【技术特征摘要】

1.一种校准光学显微镜系统的方法，所述光学显微镜系统包括：物镜布置(120)，所述物镜布置用于接收来自对象(200)的至少一部分的光，以及成像透镜(140)，所述成像透镜用于投射从所述物镜布置接收的光以在目标平面(150)上形成所述对象的至少所述部分的图像，所述方法包括：

2.如权利要求1所述的方法，其中所述光学显微镜系统包括光检测器设备，所述光检测器设备被配置为检测所述对象的至少所述部分的所述图像，所述方法进一步包括使用所述光检测器设备在基本上位于所述目标平面上的位置处检测所述对象的至少所述部分的所述图像。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述光检测器设备包括由多个成像区(301、302、303、……)形成的成像区域，并且所述目标区(160)由所述光检测器设备上的预定数量的成像区限定。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述对象是已知尺寸的校准对象，使得基于要在所述目标平面上形成的所述对象的至少所述部分的所述图像的预定尺寸来在所述目标平面上限定目标区(160)限定所述对象的放大率。

5.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

6.如权利要求1所述的方法，进一步包括：当所述图像(i”)延伸超过所述目标平面上的所述目标区时，从所述多个成像透镜位置确定第二成像透镜位置(z3)，并且将所述操...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·拉皮德，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：