导流板、导流板自动清洗系统以及槽式湿法清洗设备技术方案

本申请提供一种导流板，包括本体、排水口以及多个进水口。本体包括底板以及两个斜板。两个斜板相对于底板倾斜设置并位于底板的相对两侧。排水口设置于底板。多个进水口设置于两个斜板的边缘，其中多个进水口的每一个的位置高于排水口的位置。透过前述配置，使流体容易在导流板上流动，从而强化导流板的清洗效果并有效地去除残留的化学液。并有效地去除残留的化学液。并有效地去除残留的化学液。

【技术实现步骤摘要】
导流板、导流板自动清洗系统以及槽式湿法清洗设备


[0001]本申请关于半导体湿法工艺
，特别是一种导流板、导流板自动清洗系统以及槽式湿法清洗设备。

技术介绍

[0002]在槽式湿法清洗设备中，藉由例如机械手臂的晶圆传输机构将单片晶圆或批量式晶圆在不同的化学清洗槽之间移动，以去除晶圆表面的杂质以及氧化层。单片晶圆或批量式晶圆经过不同的化学清洗槽后，进入晶圆干燥的程序，以去除晶圆的水分。
[0003]每一个化学清洗槽会配置一个快排冲洗槽(QuickDumpRinser，QDR)，以去除晶圆表面微粒杂质和残留化学药液，使晶圆表面洁净。机械手臂将单片晶圆或批量式晶圆从化学清洗槽移动至QDR时，有残余的化学液滴落在导流板上，使导流板上出现结晶。虽然可以通过定期的设备维护进行清洁，但费时费力。

技术实现思路

[0004]根据前述，本申请的目的为提供一种导流板、导流板自动清洗系统以及槽式湿法清洗设备，解决化学液在导流板上所产生的结晶问题。
[0005]基于上述目的，本申请提供一种导流板，包括本体、排水口以及多个进水口。本体包括底板以及两个斜板。两个斜板相对于底板倾斜设置并位于底板的相对两侧。排水口设置于底板。多个进水口设置于两个斜板的边缘，其中多个进水口的每一个的位置高于排水口的位置。
[0006]在本申请的实施例中，两个板的每一个包括第一斜板以及第二斜板，第一斜板从底板的一侧斜向往上延伸，第二斜板从第一斜板斜向往上延伸，多个进水口设置于两个斜板的第二斜板的边缘，其中第二斜板的倾斜度小于第一斜板的倾斜度。
[0007]在本申请的实施例中，本体更包括两个侧板以及两个卡槽，两个侧板设置于两个斜板的相对两侧并接触底板，两个卡槽设置于两个侧板。
[0008]在本申请的实施例中，两个斜板以底板的中心线为基准而互相对称。
[0009]基于上述目的，本申请提供一种导流板自动清洗系统，包括供应装置、连接管以及导流板和导出管。供应装置提供流体。连接管具有第一端及多个第二端，第一端连接供应装置，以传输流体。导流板包括本体、排水口以及多个进水口。本体包括底板以及二斜板。二斜板相对于底板倾斜设置并位于底板的相对两侧。排水口设置于底板。多个进水口设置于二斜板的边缘并连接连接管的多个第二端，以透过流体去除本体的残留物质，其中多个进水口的每一个的位置高于排水口的位置。导出管连接排水口，以排出含有残留物质的流体。
[0010]在本申请的实施例中，两个斜板的每一个包括第一斜板以及第二斜板，第一斜板从底板的一侧斜向往上延伸，第二斜板从第一斜板斜向往上延伸，多个进水口设置于两个斜板的第二斜板的边缘，第二斜板的倾斜度小于第一斜板的倾斜度。
[0011]在本申请的实施例中，本体更包括两个侧板以及两个卡槽，两个侧板设置于两个
斜板的相对两侧并接触底板，两个卡槽设置于两个侧板。
[0012]在本申请的实施例中，两个斜板以底板的中心线为基准而互相对称。
[0013]在本申请的实施例中，本申请的导流板自动清洗系统更包括控制器与电动调节阀，电动调节阀设置供应装置和连接管之间，控制器电性连接电动调节阀并控制电动调节阀的开启与关闭，以允许或禁止流体流入连接管。
[0014]基于上述目的，本申请提供一种槽式湿法清洗设备，包括前述导流板自动清洗系统。
[0015]综上所述，本申请的导流板，透过增加进水口的数量且配置每个进水口的位置高于排水口的位置，使流体容易在导流板上流动，从而强化导流板的清洗效果并有效地去除残留的化学液。
[0016]综上所述，本申请的导流板自动清洗系统及槽式湿法清洗设备，搭配本申请的导流板和提供流体的供应装置，使导流板的清洗过程流畅，改善导流板的洁净程度，从而降低槽式湿法清洗设备的维护频率及提高槽式湿法清洗设备的效能。
[0017]上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本申请较佳的实施例并配合附图对本申请进行详细说明。
附图说明
[0018]图1为根据本申请一实施例绘示导流板的配置图。
[0019]图2为根据本申请另一实施例绘示导流板的配置图。
[0020]图3为根据本申请一实施例绘示导流板自动清洗系统的配置图。
[0021]图4为根据本申请另一实施例绘示导流板自动清洗系统的配置图。
[0022]附图标记说明：
[0023]1A、1B：导流板
[0024]2：供应装置
[0025]3：连接管
[0026]4：导出管
[0027]5：控制器
[0028]6：电动调节阀
[0029]7：水阀
[0030]10：本体
[0031]11：底板
[0032]12：斜板
[0033]13：侧板
[0034]14：卡槽
[0035]20：排水口
[0036]30：进水口
[0037]121：第一斜板
[0038]122：第二斜板
[0039]FD1：流体
[0040]T1：第一端
[0041]T2：第二端
具体实施方式
[0042]以下由特定的具体实施例说明本申请的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所公开的内容轻易地了解本申请的其他优点及功效。
[0043]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以互相组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
[0044]需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于包覆不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。
[0045]请参阅图1，其为根据本申请一实施例绘示导流板的配置图。如图1所示，本申请的导流板1A包括本体10、排水口20以及多个进水口30。本体10包括底板11以及两个斜板12。两个斜板12相对于底板11倾斜设置并位于底板11的相对两侧。排水口20设置于底板11。多个进水口30设置于两个斜板12的边缘，其中多个进水口30的每一个的位置高于排水口20的位置。
[0046]具体而言，排水口20设置于底板11的几何中心，两个斜板12位于底板11的左右两侧，两个斜板12之其中一个从底板11的右侧倾斜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种导流板，其特征在于，包括：本体(10)，包括底板(11)以及二斜板(12)，所述二斜板(12)相对于所述底板(11)倾斜设置并位于所述底板(11)的相对两侧；排水口(20)，设置于所述底板(11)；以及多个进水口(30)，设置于所述二斜板(12)的边缘，其中所述多个进水口(30)的每一个的位置高于所述排水口(20)的位置。2.如权利要求1所述的导流板，其特征在于，所述二斜板(12)的每一个包括第一斜板(121)以及第二斜板(122)，所述第一斜板(121)从所述底板(11)的一侧斜向往上延伸，所述第二斜板(122)从所述第一斜板(121)斜向往上延伸，所述多个进水口(30)设置于所述二斜板(12)的所述第二斜板(122)的边缘，其中所述第二斜板(122)的倾斜度小于所述第一斜板(121)的倾斜度。3.如权利要求1所述的导流板，其特征在于，所述本体(10)更包括二侧板(13)以及二卡槽(14)，所述二侧板(13)设置于所述二斜板(12)的相对两侧并接触所述底板(11)，所述二卡槽(14)设置于所述二侧板(13)。4.如权利要求1所述的导流板，其特征在于，所述二斜板(12)以所述底板(11)的中心线为基准而互相对称。5.一种导流板自动清洗系统，其特征在于，包括：供应装置(2)，提供流体(FD1)；连接管(3)，具有第一端(T1)及多个第二端(T2)，所述第一端(T1)连接所述供应装置(2)，以传输所述流体(FD1)；导流板(1A、1B)，包括：本体(10)，包括底板(11)以及二斜板(12)，所述二斜板(12)相对于所述底板(11)倾斜设置并位于所述底板(11)的相对两侧；排水口(20)，设置于所述底板(11)；以及多...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟盛辉，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：