一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统技术方案

本实用新型专利技术属于氢氧化钠溶液稀释技术领域，具体涉及一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统，包括盐酸合成炉、氢氧化钠存储罐和水储罐，所述氢氧化钠存储罐和水储罐分别与混合器连接，所述混合器与盐酸合成炉连接，所述氢氧化钠存储罐与混合器之间设置有第一调节阀，所述水储罐和混合器之间设置有第二调节阀，所述混合器和盐酸合成炉之间设置有第三调节阀和检测计，所述检测计控制第一调节阀、第二调节阀和第三调节阀的开合。通过在氢氧化钠存储罐和水储罐上分别设置与检测计相关联的调节阀，可以自动调节混合液的PH值，使混合液的PH值始终稳定的保持PH值在8

【技术实现步骤摘要】
一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统


[0001]本技术属于氢氧化钠溶液稀释
，具体涉及一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统。

技术介绍

[0002]四合一盐酸合成炉副产蒸汽需要用到PH值为7
‑
9.5的混合水溶液，目前工业中的操作通常为向混合容器中通入大量纯水，然后人工向混合容器中加入32％质量分数的氢氧化钠水溶液进行PH调节，然后将混合水溶液通入四合一盐酸合成炉中。
[0003]实际操作过程中由于混合容器中的混合水溶液不断通入四合一盐酸合成炉中，后续的纯水不断流入混合容器中，导致混合容器的中混合液PH值不断降低，当PH值接近7时，再次向混合容器中加入32％质量分数的氢氧化钠水溶液进行PH调节，如此反复导致混合水溶液存在初期PH值较高、中后期PH值逐渐下降的问题，混合水溶液的PH值不稳定，PH过高会腐蚀石墨块，过低则腐蚀炉体外壳，在长期使用过程中存在安全隐患。

技术实现思路

[0004]为了解决上述现有技术中存在的问题，本技术提供了一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统，通过在氢氧化钠存储罐和水储罐上分别设置与检测计相关联的调节阀，可以自动调节混合液的PH值，使混合液的PH值始终稳定的保持PH值在8
±
0.2范围内，避免了混合液PH值过高或过低造成设备腐蚀的问题。
[0005]本技术采用的具体技术方案是：
[0006]一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统，包括盐酸合成炉、氢氧化钠存储罐和水储罐，所述氢氧化钠存储罐和水储罐分别与混合器连接，所述混合器与盐酸合成炉连接，所述氢氧化钠存储罐与混合器之间设置有第一调节阀，所述水储罐和混合器之间设置有第二调节阀，所述混合器和盐酸合成炉之间设置有第三调节阀和检测计，所述检测计控制第一调节阀、第二调节阀和第三调节阀的开合。
[0007]所述混合器包括主管道和分管道，所述氢氧化钠存储罐与分管道连接，所述水储罐与主管道连接，所述分管道穿过主管道的一侧侧壁并固定于主管道的另一侧侧壁，所述分管道位于主管道管内的侧壁处设置有出料孔，所述出料孔位于分管道背向主管道的入料口一侧。
[0008]所述分管道与主管道呈30
‑
45
°
倾斜设置。
[0009]所述分管道与主管道呈40
°
倾斜设置。
[0010]所述氢氧化钠存储罐与混合器之间设置有第一供液泵，所述水储罐和混合器之间设置有第二供液泵。
[0011]所述检测计和盐酸合成炉之间设置有混合液存储罐，所述混合液存储罐与盐酸合成炉之间设置有第三供液泵。
[0012]本技术的有益效果是：
[0013]1、本技术通过在氢氧化钠存储罐和水储罐上分别设置与检测计相关联的调节阀，可以自动调节混合液的PH值，使混合液的PH值始终稳定的保持PH值在8
±
0.2范围内，避免了混合液PH值过高或过低造成设备腐蚀的问题，且无需人工操作。
[0014]2、本技术基于卡门涡街现象，使纯水前进过程中位于分管道处出现涡街，涡街会分批次带走经出料孔缓慢流出的氢氧化钠溶液，缩短氢氧化钠溶液和纯水混合均匀所需时间，有利于PH值的稳定性。
附图说明
[0015]图1为本技术的结构示意图；
[0016]图2为混合器的结构示意图；
[0017]图3为图2中A部分的放大示意图；
[0018]附图中，1、盐酸合成炉，2、氢氧化钠存储罐，3、水储罐，4、混合器，5、第一调节阀，6、第二调节阀，7、第三调节阀，8、检测计，9、主管道，10、分管道，11、出料孔，12、第一供液泵，13、第二供液泵，14、混合液存储罐，15、第三供液泵。
具体实施方式
[0019]下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步说明：
[0020]一种盐酸合成炉1用的氢氧化钠溶液稀释控制系统，包括盐酸合成炉1、氢氧化钠存储罐2和水储罐3，所述氢氧化钠存储罐2和水储罐3分别与混合器4连接，所述混合器4与盐酸合成炉1连接，所述氢氧化钠存储罐2与混合器4之间设置有第一调节阀5，所述水储罐3和混合器4之间设置有第二调节阀6，所述混合器4和盐酸合成炉1之间设置有第三调节阀7和检测计8，所述检测计8控制第一调节阀5、第二调节阀6和第三调节阀7的开合。
[0021]具体实施例，如图1
‑
3所示，其中氢氧化钠存储罐2中装有质量分数为32％的氢氧化钠溶液，水储罐3中装有纯水，检测计8为MS
‑
SH
‑
500型在线液碱浓度检测仪，本技术通过设置与检测计8相关联的第一调节阀5、第二调节阀6和第三调节阀7，可以自动调节混合器4中的混合液的PH值，使混合液的PH值始终稳定的保持PH值在8
±
0.2范围内，避免了混合液PH值过高或过低造成设备腐蚀的问题。
[0022]工作时，第一调节阀5和第二调节阀6开启，第三调节阀7关闭，氢氧化钠溶液和纯水共同流入混合器4中，混合液经过检测计8进行浓度检测，当混合液的PH值处于8
±
0.2之间时，混合液流入盐酸合成炉1中；当混合液的PH值大于8.2时，第一调节阀5关闭，第二调节阀6开启，纯水不断流入混合器4中对混合液稀释至PH为8
±
0.2之间时，第三调节阀7开启，混合液流入盐酸合成炉1中；当混合液PH值小于7.8时，第一调节阀5开启，第二调节阀6关闭，氢氧化钠溶液不断流入混合器4提高混合液的PH值至8
±
0.2之间时，第三调节阀7开启，混合液流入盐酸合成炉1中。
[0023]如图2
‑
3所示，所述混合器4包括主管道9和分管道10，所述氢氧化钠存储罐2与分管道10连接，所述水储罐3与主管道9连接，所述分管道10穿过主管道9的一侧侧壁并固定于主管道9的另一侧侧壁，所述分管道10位于主管道9管内的侧壁处设置有出料孔11，所述出料孔11位于分管道10背向主管道9的入料口一侧，由于氢氧化钠溶液和纯水在涌入混合器4时会产生碰撞，对氢氧化钠溶液和纯水的混合产生了一定影响，需要一定时间才能够混合
均匀，因此本技术基于卡门涡街现象，使分管道10由主管道9侧壁插入主管道9中，使纯水绕过分管道10前进，此时纯水位于分管道10处出现涡街，涡街会分批次带走经出料孔11缓慢流出的氢氧化钠溶液，缩短氢氧化钠溶液和纯水混合均匀所需时间，另外，该混合器4结构简单，企业可自行制作，无需向商家购买，降低了生产成本。
[0024]如图2所示，所述分管道10与主管道9呈30
‑
45
°
倾斜设置，当分管道10与主管道9呈30
‑
45
°
倾斜夹角时，所形成的涡街较为适合使氢氧化钠溶液和纯水混合，所需混合时间较短。
[0025]如图2所示，所述分管道10与主管道9呈40
°
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统，包括盐酸合成炉(1)、氢氧化钠存储罐(2)和水储罐(3)，其特征在于，所述氢氧化钠存储罐(2)和水储罐(3)分别与混合器(4)连接，所述混合器(4)与盐酸合成炉(1)连接，所述氢氧化钠存储罐(2)与混合器(4)之间设置有第一调节阀(5)，所述水储罐(3)和混合器(4)之间设置有第二调节阀(6)，所述混合器(4)和盐酸合成炉(1)之间设置有第三调节阀(7)和检测计(8)，所述检测计(8)控制第一调节阀(5)、第二调节阀(6)和第三调节阀(7)的开合。2.根据权利要求1所述的一种盐酸合成炉用的氢氧化钠溶液稀释控制系统，其特征在于，所述混合器(4)包括主管道(9)和分管道(10)，所述氢氧化钠存储罐(2)与分管道(10)连接，所述水储罐(3)与主管道(9)连接，所述分管道(10)穿过主管道(9)的一侧侧壁并固定于主管道(9)的另一侧侧壁，所述分管道(10)位于主管道(9)管内的侧壁处设置有出料孔(11)...

【专利技术属性】
技术研发人员：许伟杰，张青海，柳中磊，杨立通，白云霄，张志芳，
申请(专利权)人：河北八维化工有限公司，
类型：新型
国别省市：