本申请提供一种液晶基板清洗装置，包括用于移送液晶基板的传输机构，沿液晶基板的移送方向依次设置：冲洗机构，用于对液晶基板进行表面冲洗；除尘机构，用于对表面冲洗后的液晶基板进行气流干燥；冲洗机构与除尘机构之间还包括成膜机构，用于对表面冲洗后的液晶基板进行液体喷淋，以在液晶基板表面形成连续液膜。本申请通过改进现有平板清洗机，通过控制成膜机构对液晶基板表面的喷淋参数，使液晶基板表面形成一层连续致密的液膜，将液晶基板上残留的杂质颗粒完全吸附至液膜内部，确保液晶基板表面无残留死角，经过除尘机构的高压气流将液膜连同其裹挟的颗粒同步除去，确保了液晶基板的产品质量。的产品质量。的产品质量。
【技术实现步骤摘要】
液晶基板清洗装置
[0001]本申请属于平板清洗
，特别是涉及一种液晶基板清洗装置。
技术介绍
[0002]薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称TFT)通常使用透明的玻璃作为基板材料，这是因为玻璃具有优异的光学和物理性质，可以提供较好的光学透过率、高度平坦度及机械强度来支撑层刻和终端封装。薄膜晶体管液晶显示器(Thin film transistor liquid crystal display，简称TFT
‑
LCD)是液晶显示器的一种，其使用薄膜晶体管技术改善影像品质，被广泛应用于被电视、平面显示器及投影机上。
[0003]TFT
‑
LCD液晶玻璃基板是液晶面板的重要上游材料，由于对其物理、化学性质有很高要求，故对其生产条件和生产工艺要求也非常苛刻，TFT
‑
LCD液晶玻璃基板需经过严格的清洗和除尘工艺，以确保终端产品质量。目前常规的清洗工艺是使用平板清洗机对其进行喷淋清洗、使用风刀(Air Knife)对清洗后的基板进行高压气流除尘。
[0004]然而，现有的清洗系统中，液晶玻璃基板经过喷淋后，表面液膜呈不规则分布，无法完全吸附杂质颗粒，经过风刀吹除工序后，基板表面仍会残留部分微粒(particle)，且基板产品表面存在形成水印(Water Mark)的风险，无法满足终端产品的质量要求。
[0005]因此，需要提供一种针对上述现有技术中的不足的改进技术方案。
技术实现思路
[0006]鉴于以上所述现有技术的缺点，本申请的目的在于提供一种液晶基板清洗装置，通过增设成膜机构使液晶基板表面形成连续液膜，将液晶基板表面的残留微粒全部吸附至液膜内，经过风刀吹除达到彻底去除杂质的要求。
[0007]为实现上述目的及其他相关目的，本申请提供一种液晶基板清洗装置，包括用于移送液晶基板的传输机构，沿所述液晶基板的移送方向依次设置：
[0008]冲洗机构，用于对所述液晶基板进行表面冲洗；
[0009]除尘机构，用于对表面冲洗后的所述液晶基板进行气流干燥；
[0010]所述冲洗机构与所述除尘机构之间还包括成膜机构，用于对表面冲洗后的所述液晶基板进行液体喷淋，以在所述液晶基板表面形成连续液膜。
[0011]在一个实施方式中，所述成膜机构包括：
[0012]主管路，垂直于所述移送方向设置于所述液晶基板上方；
[0013]出液孔，沿所述主管路的长度方向均布于所述主管路上。
[0014]在一个实施方式中，所述成膜机构的喷淋方向与所述液晶基板表面垂直。
[0015]在一个实施方式中，所述出液孔在高度空间喷淋形成帘状形态；
[0016]所述出液孔与所述液晶基板的距离介于5cm～10cm之间；
[0017]所述出液孔的孔径范围介于1mm～3mm之间。
[0018]在一个实施方式中，所述出液孔在高度空间喷淋形成雾状形态。
[0019]在一个实施方式中，所述出液孔的喷淋方向与所述液晶基板的表面形成喷淋角度α，其中，0
°
＜α＜90
°
。
[0020]在一个实施方式中，所述液晶基板清洗装置还包括：
[0021]第一驱动机构，与所述成膜机构连接，用于调节所述成膜机构的水平位置。
[0022]在一个实施方式中，所述液晶基板清洗装置还包括：
[0023]第二驱动机构，与所述第一驱动机构连接，用于调节所述成膜机构的高度位置。
[0024]在一个实施方式中，所述除尘机构包括分别位于所述液晶基板上下两侧区域的第一风刀和第二风刀。
[0025]在一个实施方式中，所述第一风刀和所述第二风刀的气流方向均与所述液晶基板的移送方向相对并存在斜度。
[0026]与现有技术相比，本申请提供的技术方案具有以下有益效果：
[0027]1、本申请通过改进现有平板清洗机，在冲洗机构与除尘机构之间增设成膜机构，通过控制成膜机构对液晶基板表面的喷淋参数，使液晶基板表面形成一层连续致密的液膜，将液晶基板上残留的杂质颗粒完全吸附至液膜内部，确保液晶基板表面无残留死角，经过除尘机构的高压气流将液膜连同其裹挟的颗粒同步除去，确保了液晶基板的产品质量。
[0028]2、本申请的成膜机构提供了两种成膜方式：通过水帘直接在液晶基板表面形成液膜或者通过喷雾下落至液晶基板表面，雾状液滴积聚联结形成液膜，适用于多种表面性质不同的液晶基板。
附图说明
[0029]图1为现有技术中TFT清洁设备示意图；
[0030]图2为现有技术中TFT表面冲洗后的液滴聚集状态示意图；
[0031]图3为本申请提供的液晶基板清洗装置的结构示意图；
[0032]图4为本申请提供的液晶基板清洗装置的俯视结构示意图；
[0033]图5为本申请中成膜机构的结构示意图；
[0034]图6为除尘机构工作过程中液晶基板表面状态变化示意图。
[0035]附图标记说明：
[0036]100、液晶基板；110、非连续液膜；120、连续液膜；
[0037]200、传输机构；
[0038]300、冲洗机构；
[0039]400、除尘机构；410、第一风刀；420、第二风刀；
[0040]500、成膜机构；510、主管路；520、出液孔；
[0041]600、驱动机构；610、第一驱动机构；620、第二驱动机构。
具体实施方式
[0042]以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与原理。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神下进行各种修饰或改变。
[0043]需要说明的是，请参阅图1至图6，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
[0044]图1示出了现有技术中TFT清洁设备的基本结构，TFT由传输机构200在清洁设备的不同清洗段之间运送，TFT经过冲洗机构300时进行表面初步清洁，冲洗机构300能够提供较大的水流和水压，对TFT表面进行全面冲刷，尽可能除去其表面粘附的杂质颗粒和粉尘等。经过冲刷后的TFT基板上会形成非连续液膜110，参见图2，非连续液膜110的存在至少对TFT产品带来以下质量风险：第一、可能存在少量未被液膜裹挟或冲刷除去的杂质颗粒仍然粘附在TFT表面，这些杂质颗粒也难以经风刀高压吹除，该风险将一直延续至影响终端产品良率；第二、非连续液膜110经风刀高压气流除去并干燥后，极易在TFT表面产生与该液膜形状相同的水印，对终端产品质量也会带来一定影响。
[0045]为本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种液晶基板清洗装置，包括用于移送液晶基板(100)的传输机构(200)，沿所述液晶基板(100)的移送方向依次设置：冲洗机构(300)，用于对所述液晶基板(100)进行表面冲洗；除尘机构(400)，用于对表面冲洗后的所述液晶基板(100)进行气流干燥；其特征在于，所述冲洗机构(300)与所述除尘机构(400)之间还包括成膜机构(500)，用于对表面冲洗后的所述液晶基板(100)进行液体喷淋，以在所述液晶基板(100)表面形成连续液膜(120)。2.根据权利要求1所述的液晶基板清洗装置，其特征在于，所述成膜机构(500)包括：主管路(510)，垂直于所述移送方向设置于所述液晶基板(100)上方；出液孔(520)，沿所述主管路(510)的长度方向均布于所述主管路(510)上。3.根据权利要求1所述的液晶基板清洗装置，其特征在于，所述成膜机构(500)的喷淋方向与所述液晶基板(100)表面垂直。4.根据权利要求2所述的液晶基板清洗装置，其特征在于，所述出液孔(520)在高度空间喷淋形成帘状形态；所述出液孔(520)与所述液晶基板(100)的距离介于5cm～10cm之间；所述出液孔(520)的孔径范围介于1mm～...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨飞，
申请(专利权)人：奕瑞影像科技太仓有限公司，
类型：新型
国别省市：
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