一种用于单晶炉副室的可变径清理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，包括，固定机构，所述固定机构包括固定盘；旋转机构，所述旋转机构包括转盘；锁扣机构，所述锁扣机构包括按压部和以十字方式连接的第一连接杆和第二连接杆；伸缩机构包括与副室内壁接触的弧形片，与弧形片内周面固定连接的伸缩杆；所述转盘位于固定盘的上方，第一连接杆的顶端与按压部固定连接，第一连接杆的底端依次穿过转盘和固定盘，伸缩杆位于固定盘的内部，远离弧形片的伸缩杆一端穿过转盘，所述第二连接杆的一端在固定盘进行滑动，另一端使转盘旋转带动伸缩杆进行扩张运动。有效提高副室的干净程度、单晶生长成晶率及单晶品质，降低断线率。降低断线率。降低断线率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于单晶炉副室的可变径清理装置


[0001]本申请涉及太阳能光伏单晶制造
，具体涉及一种用于单晶炉副室的可变径清理装置。

技术介绍

[0002]在光伏单晶制造业里，单晶拉制过程中，副室是单晶硅棒冷却和暂时存放的单晶炉构件。单晶需在惰性气体如氩气环境才能稳定生长，氩气会通过副室流入到主室中，氩气携带着反应的挥发物顺着副室向下运动，挥发物在运动过程中会在副室内壁上产生沉积，而单晶的生长极度依赖高洁净的环境，若不及时清理，沉积的挥发物易在拉晶过程中落入坩埚内的硅料中，致使硅料受到污染，因此定期清理副室，保持单晶炉副室内部环境的清洁是保障晶体成晶质量的关键。
[0003]目前单晶炉副室清理工序，具有以下缺点：现有副室清理杆直径固定，无法适应多规格直径尺寸的副室使用；现有副室清理杆由于清理头与副室大小一致，造成刚进入副室就紧密接触，使用时自下往上伸入副室，导致挥发物全部被带到副室顶部堆积，在拉晶过程中挥发物易掉入熔融硅液里，造成晶棒断线及影响成晶率。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，通过设置固定机构、旋转机构、锁扣机构，驱动伸缩机构进行扩张活动使其与单晶炉副室进行接触开启清理工序，解决了现有技术中无法适应多规格直径尺寸的副室，以及清理时导致挥发物全部带到副室顶部堆积，造成晶棒断线、影响成晶率等问题。。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术采用了以下方案：
[0006]一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，包括，
[0007]固定机构，所述固定机构包括固定盘；
[0008]旋转机构，所述旋转机构包括转盘；
[0009]锁扣机构，所述锁扣机构包括按压部和以十字方式连接的第一连接杆和第二连接杆；
[0010]伸缩机构包括与单晶炉副室内壁接触的弧形片，与弧形片内周面固定连接的伸缩杆；
[0011]所述转盘位于固定盘的上方，第一连接杆的顶端与按压部固定连接，第一连接杆的底端依次穿过转盘和固定盘，伸缩杆位于固定盘的内部，远离弧形片的伸缩杆一端穿过转盘，所述第二连接杆的一端在固定盘进行滑动，另一端使转盘旋转带动伸缩杆进行扩张运动。
[0012]优选地，在所述固定盘的底部设置清洁杆，固定盘为中空的圆环状，在固定盘的板面中均匀设置多个长形槽，所述伸缩杆位于长形槽内，在靠近圆心的固定盘一侧设置用于进行滑动限位的凸台。
[0013]优选地，在所述凸台上部设置弧形槽，在远离弧形槽槽口的一端设有限位孔，第二连接杆的一端贯穿弧形槽并滑动至限位孔中限位。
[0014]优选地，还包括在固定盘板面中设置的第一滑槽，所述第一滑槽的位置与凸台位置相对应，第一连接杆的底端贯穿第一滑槽并进行滑动。
[0015]优选地，所述转盘为中空的圆环状，所述转盘的内径大于固定盘的内径，在转盘板面均匀设置多个弧状的第二滑槽，远离弧形片的伸缩杆的一端穿过第二滑槽。
[0016]优选地，邻近转盘圆心的板面中设置一个通孔，通孔和第一滑槽相对应，第一连接杆的底端依次穿过通孔和第一滑槽。
[0017]优选地，还包括在转盘中设置两个限位板，两个限位板与通孔位置相对应，两个限位板之间具有间隙。
[0018]优选地，在第一连接杆的底部套设弹簧，在第一连接杆的底端设置螺母，弹簧位于通孔的上方，螺母位于固定板的下方，第二连接杆的一端位于两个限位板之间，另一端穿过弧形槽滑动到达限位孔时用于限位。
[0019]优选地，在远离弧形片的伸缩杆的一端设置螺杆，所述伸缩杆位于长形槽的内部通过螺杆穿过第二滑槽。
[0020]优选地，其特征在于，在螺杆顶端螺纹连接螺母，螺杆通过在第二滑槽运动，使伸缩杆在长形槽内远离固定盘的圆心向外扩张运动。
[0021]本专利技术的有益效果为：本专利技术通过设置固定机构、旋转机构、锁扣机构和伸缩机构，使进入副室呈收缩状态，自上而下清理时呈扩张状态，有效提高副室的干净程度，保证拉晶作业的高纯卫生；进而有效提高单晶生长成晶率及单晶品质，降低断线率；设置锁扣机构，保证变径伸缩后保持当前伸缩或扩张状态；本装置结构合理，成本较低，适合推广。
附图说明
[0022]图1为本专利技术收缩状态的结构示意图；
[0023]图2为本专利技术收缩状态的俯视图；
[0024]图3为本专利技术扩张状态的结构示意图；
[0025]图4为本专利技术扩张状态的俯视图；
[0026]图5为本专利技术扩张状态的仰视图；
[0027]图6为本专利技术固定机构的结构示意图；
[0028]图7为本专利技术旋转机构的结构示意图；
[0029]图8为本专利技术锁扣机构的结构示意图；
[0030]图9为本专利技术伸缩机构的结构示意图；
[0031]图10为本专利技术在单晶炉副室中的收缩状态示意图；
[0032]图11为本专利技术在单晶炉副室中的扩张状态示意图。
[0033]附图标记：1
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清理装置，10
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固定机构，101
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固定盘，1011
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长形槽，1012
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第一滑槽，102
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凸台，1021
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弧形槽，10211
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限位孔，103
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清洁杆，11
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旋转机构，111
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转盘，1111
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第二滑槽，112
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限位板，113
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通孔，12
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锁扣机构，121
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按压部，122
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第一连接杆，123
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第二连接杆，124
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弹簧，13
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伸缩机构，131
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弧形片，132
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伸缩杆，133
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螺杆，134
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螺母，2
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副室。
具体实施方式
[0034]下面结合实施例及附图，对本专利技术作进一步的详细说明，但本专利技术的实施方式不限于此。
[0035]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖向”、“纵向”、“侧向”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0036]在本专利技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“开有”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，其特征在于，包括，固定机构(10)，所述固定机构(10)包括固定盘(101)；旋转机构(11)，所述旋转机构(11)包括转盘(111)；锁扣机构(12)，所述锁扣机构(12)包括按压部(121)和以十字方式连接的第一连接杆(122)和第二连接杆(123)；伸缩机构(13)包括与单晶炉副室(2)内壁接触的弧形片(131)，与弧形片(131)内周面固定连接的伸缩杆(132)；所述转盘(111)位于固定盘(101)的上方，第一连接杆(122)的顶端与按压部(121)固定连接，第一连接杆(122)的底端依次穿过转盘(111)和固定盘(101)，伸缩杆(132)位于固定盘(101)的内部，远离弧形片(131)的伸缩杆(132)一端穿过转盘(111)，所述第二连接杆(123)的一端在固定盘(101)内进行滑动，另一端使转盘(111)旋转带动伸缩杆(132)进行扩张运动。2.根据权利要求1所述的一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，其特征在于，在所述固定盘(101)的底部设置清洁杆(103)，固定盘(101)为中空的圆环状，在固定盘(101)的板面中均匀设置多个长形槽(1011)，所述伸缩杆(132)位于长形槽(1011)内，在靠近圆心的固定盘(101)一侧设置用于进行滑动限位的凸台(102)。3.根据权利要求2所述的一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，其特征在于，在所述凸台(102)上部设置弧形槽(1021)，在远离弧形槽(1021)槽口的一端设有限位孔(10211)，第二连接杆(123)的一端贯穿弧形槽(1021)并滑动至限位孔(10211)中限位。4.根据权利要求2所述的一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，其特征在于，还包括在固定盘(101)板面中设置的第一滑槽(1012)，所述第一滑槽(1012)的位置与凸台(102)位置相对应，第一连接杆(122)的底端贯穿第一滑槽(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宇，关树军，洪华，路建华，曾宏强，
申请(专利权)人：乐山市京运通新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：