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本发明公开了一种用于单晶炉副室的可变径清理装置，包括，固定机构，所述固定机构包括固定盘；旋转机构，所述旋转机构包括转盘；锁扣机构，所述锁扣机构包括按压部和以十字方式连接的第一连接杆和第二连接杆；伸缩机构包括与副室内壁接触的弧形片，与弧形片内...
该专利属于乐山市京运通新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过乐山市京运通新材料科技有限公司授权不得商用。

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