电极片生产用清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于电极片生产技术领域，具体公开了电极片生产用清洗装置，包括机架，所述机架内设有内壳架，所述内壳架内设有传输机构；电极片处理系统，所述电极片处理系统包括从前之后依次设置在内壳架内的的多个喷淋机构、多个雾化清洗机构、多个除雾化水机构、回收机构多个烘干机构；盒体清洗机构，所述盒体清洗机构设置在机架上；回收系统，所述系统设置在机架内，所述回收系统包括与回收机构相连的回收罐和与回收罐相连的过滤机构，所述过滤机构与所述喷淋机构和所述雾化清洗机构相连，本发明专利技术用于解决现有技术中电极片与盒体分开清洗造成水资源浪费的问题。水资源浪费的问题。水资源浪费的问题。

【技术实现步骤摘要】
电极片生产用清洗装置


[0001]本专利技术涉及电极片生产
，特别是涉及电极片生产用清洗装置。

技术介绍

[0002]电解槽由槽体、阳极和阴极组成，多数用隔膜将阳极室和阴极室隔开。按电解液的不同分为水溶液电解槽、熔融盐电解槽和非水溶液电解槽三类，当直流电通过电解槽时，在阳极与溶液界面处发生氧化反应，在阴极与溶液界面处发生还原反应，以制取所需产品，而电解槽中的极板是电解制氢的关键。
[0003]电极片的基底材料采用泡沫镍，其具有多项优良的特点，泡沫镍在加工成电极片的过程中，需要放入PP盒体内，再向盒体内添加各种催化剂，经隧道炉高温作用将催化剂沉积到泡沫镍表面，从而实现泡沫镍的各种导电性能，在沉积完成之后，需要对盒体进行清洗，使盒体可重新利用，同时也需要对泡沫镍进行清洗，将其表面多余的催化剂洗掉，而现有技术中，针对泡沫镍的清洗，因泡沫镍的性质无法进行高压冲洗，因此通过人工使用雾化清洗，针对盒体也通过人工使用高压冲洗，从而在分开清洗也造成了清洗效率低的同时也大量消耗水资源造成水资源的浪费，专利技术人有鉴于此，提出电极片生产用清洗装置。

技术实现思路

[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供电极片生产用清洗装置，用于解决现有技术中电极片与盒体分开清洗造成水资源浪费的问题。
[0005]为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供电极片生产用清洗装置，包括：
[0006]机架，所述机架内设有内壳架，所述内壳架内设有传输机构，所述传输机构上设有多个用于固定电极片的夹持机构，所述夹持机构上设有顶料气缸；
[0007]电极片处理系统，所述电极片处理系统包括从前之后依次设置在内壳架内的的多个喷淋机构、多个雾化清洗机构、多个除雾化水机构、回收机构多个烘干机构；
[0008]盒体清洗机构，所述盒体清洗机构设置在机架上，所述盒体清洗机构包括上壳架和设置在上壳架内的传送带，所述上壳架内设有多个与喷淋机构和雾化清洗机构相连的多孔喷头，所述回收机构穿进所述上壳架对上壳架内的液体进行收集；
[0009]回收系统，所述系统设置在壳架内，所述回收系统包括与回收机构相连的回收罐和与回收罐相连的过滤机构，所述过滤机构与所述喷淋机构和所述雾化清洗机构相连。。
[0010]可选地，所述喷淋机构包括：
[0011]固定座，所述固定座对称设置在内壳架内，所述固定座上均设有第一连接头；
[0012]喷淋管，所述喷淋管设置在所述第一连接头之间，所述喷淋管呈门形设置，所述喷淋管的部分穿出所述内壳架位于所述上壳架内，所述多孔喷头设置在喷淋管穿出所述上壳架的部分；
[0013]喷淋头，所述喷淋头设置在喷淋管上，所述喷淋头对准所述电极片以进行喷淋，所述喷淋机构的喷淋头呈阶梯设置以充分喷淋。
[0014]可选地，所述雾化清洗机构包括：
[0015]定位座，所述定位座设置在内壳架内，所述定位座上均设有第二连接头；
[0016]雾化管，所述雾化管设置在所述第二连接头之间，所述雾化管呈门形设置，所述雾化管的部分穿出所述内壳架位于所述上壳架内，所述多孔喷头设置在雾化管穿出所述上壳架的部分；
[0017]雾化头，所述雾化头设置在所述雾化管上，所述雾化管对准所述电极片进行雾化清洗，所述雾化清洗机构的雾化头呈阶梯设置以充分雾化清洗。
[0018]可选地，所述喷淋管和雾化管上均设有增压阀，所述多孔喷头为三孔喷头，所述三孔喷头的相邻喷孔之间呈45
°
设置。
[0019]可选地，所述回收机构包括进水槽、回收管和排液管，所述进水槽与所述内壳架相连，所述回收管安装在所述机架上，所述回收管的上端与上壳架内部连通，所述回收管的下端对准所述进水槽，所述排液管穿出所述进水槽与进水槽内部空间连通。
[0020]可选地，所述回收系统包括过滤箱和储液箱，所述过滤箱与所述排液管相连，所述过滤箱与所述储液箱之间设有抽液泵，所述储液箱上设有第一过滤组件和第二过滤组件，所述第一过滤组件和第二过滤组件分别为喷淋机构和雾化清洗机构供液。
[0021]可选地，所述第一过滤组件包括第一离子过滤罐和第一供液罐，所述第一供液罐上设有第一供液管，所述第一供液管与所述喷淋头相连。
[0022]可选地，所述第二过滤组件包括第二离子过滤罐和第二供液罐，所述第二供液罐上设有第二供液管，所述第二供液管与所述雾化头相连。
[0023]可选地，所述上壳架上设有用于驱动传送带的电机，所述传送带上均匀设置有多个固定块，所述盒体倒扣于固定块上，所述传送带上开有多个与固定块对应的避让槽。
[0024]可选地，所述传输机构包括设置在内壳架的链轮和链条，所述夹持机构还包括设置在链条上的安装块和转动连接在安装块上的卡轮，所述卡轮上设有与电极片适配的环槽，以卡住电极片，所述顶料气缸设置在卡轮之间，所述顶料气缸的伸出端设有顶料块。
[0025]如上所述，本专利技术的电极片生产用清洗装置，具有以下有益效果：
[0026](1)本专利技术中，通过设置的传输机构和夹持机构能够对电极片进行夹持，而顶料气缸便于电极片自动卸料，同时，电极片在移动过程中，通过电极片处理系统，经喷淋、雾化清洗、烘干，能够对提升电极片的清洗效果，使电极片上附着的催化剂液体能够被有效地洗掉，整个过程采用自动化清洗线，无需人工，设置的回收机构对使用的液体进行回收，防止液体的浪费。
[0027](2)本专利技术中，还设有盒体清洗机构，在清洗电极片的同时，对盒体进行清洗，而盒体采用高压喷头进行高压冲洗，且无需额外使用水源，其通过喷淋机构和雾化清洗机构对多孔喷头进行供水，对盒体进行清洗，节约了水源，且能够通过回收机构继续回收，循环使用，节约了大量水资源。
[0028](3)本专利技术中，通过设置的回收系统，对电极片处理系统和盒体清洗机构内的水资源进行回收、过滤、供水，保障了循环水的清洁程度，同时降低了能源的消耗。
附图说明
[0029]图1显示为本专利技术一实施例的结构示意图；
[0030]图2显示为本专利技术一实施例的内部结构示意图；
[0031]图3显示为本专利技术一实施例中电极片处理系统的俯视图；
[0032]图4显示为本专利技术一实施例中喷淋机构的结构示意图；
[0033]图5显示为本专利技术一实施例中雾化清洗机构的结构示意图；
[0034]图6显示为本专利技术一实施例中夹持机构的结构示意图；
[0035]图7显示为本专利技术一实施例中回收系统的结构示意图；
[0036]图8显示为本专利技术一实施例的剖视图。
[0037]附图标记说明
[0038]机架1、观察窗2、内壳架3、进水槽301、上料部302、卸料部303、喷淋机构4、固定座401、连接板402、喷淋管403、第一连接头404、增压阀405、雾化头406、多孔喷头407、雾化清洗机构5、定位座501、定位板502、雾化管503、第二连接头504、雾化头505、除雾化水机构6、回收机构7、烘干机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.电极片生产用清洗装置，其特征在于，包括：机架，所述机架内设有内壳架，所述内壳架内设有传输机构，所述传输机构上设有多个用于固定电极片的夹持机构，所述夹持机构上设有顶料气缸；电极片处理系统，所述电极片处理系统包括从前之后依次设置在内壳架内的的多个喷淋机构、多个雾化清洗机构、多个除雾化水机构、回收机构多个烘干机构；盒体清洗机构，所述盒体清洗机构设置在机架上，所述盒体清洗机构包括上壳架和设置在上壳架内的传送带，所述上壳架内设有多个与喷淋机构和雾化清洗机构相连的多孔喷头，所述回收机构穿进所述上壳架对上壳架内的液体进行收集；回收系统，所述系统设置在机架内，所述回收系统包括与回收机构相连的回收罐和与回收罐相连的过滤机构，所述过滤机构与所述喷淋机构和所述雾化清洗机构相连。2.根据权利要求1所述的电极片生产用清洗装置，其特征在于：所述喷淋机构包括：固定座，所述固定座对称设置在内壳架内，所述固定座上均设有第一连接头；喷淋管，所述喷淋管设置在所述第一连接头之间，所述喷淋管呈门形设置，所述喷淋管的部分穿出所述内壳架位于所述上壳架内，所述多孔喷头设置在喷淋管穿出所述上壳架的部分；喷淋头，所述喷淋头设置在喷淋管上，所述喷淋头对准所述电极片以进行喷淋，所述喷淋机构的喷淋头呈阶梯设置以充分喷淋。3.根据权利要求2所述的电极片生产用清洗装置，其特征在于：所述雾化清洗机构包括：定位座，所述定位座设置在内壳架内，所述固定座上均设有第二连接头；雾化管，所述雾化管设置在所述第二连接头之间，所述雾化管呈门形设置，所述雾化管的部分穿出所述内壳架位于所述上壳架内，所述多孔喷头设置在雾化管穿出所述上壳架的部分；雾化头，所述雾化头设置在所述雾化管上，所述雾化管对准所述电极片进行雾化清洗，所述雾化清洗机构的雾化头呈阶梯设置以充分雾化清洗。4.根据权利要求3所...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩永刚，李嘉杰，董全英，请求不公布姓名，周振声，
申请(专利权)人：成都莒纳新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：