溅射靶制造技术

一种溅射靶包括溅射部，溅射部为上大下小的圆台形的回转体，溅射部的母线与溅射靶的轴线的夹角为17.5

【技术实现步骤摘要】
溅射靶


[0001]本公开涉及溅射镀膜领域，更具体地涉及一种溅射靶。

技术介绍

[0002]真空溅射镀膜主要是利用辉光等离子体轰击靶材产生溅射效应，靶材粒子逸出表面在衬底上沉积出薄膜。随着镀膜需求的变化，很多产品镀膜已经不仅仅是外表面镀膜，有些需要内表面、内表面局部等镀膜，对于特殊位面的镀膜需求，传统的平面靶(例如，于2006年3月8日公开的中国专利技术专利申请公开号CN1743498A采用平面靶)、圆柱靶(例如，于2012年08月08日授权公告的中国技术专利申请授权公告号CN202369634U采用圆柱靶)已很难完成镀膜要求。例如球罩内侧的导电环镀膜需求，使用传统平面或柱面溅射靶无法完成镀膜。此外，使用传统平面或柱面溅射靶对内表面、内表面局部等镀膜，膜层均匀性无法保证。

技术实现思路

[0003]鉴于
技术介绍
中存在的问题，本公开的一目的在于提供一种溅射靶，其能实现对产品的内表面进行镀膜。
[0004]本公开的另一目的在于提供一种溅射靶，其能实现对产品的内表面进行镀膜时能够提高形成的膜层的均匀性。
[0005]由此，一种溅射靶包括溅射部，溅射部为上大下小的圆台形的回转体，溅射部的母线与溅射靶的轴线的夹角为17.5
‑
22.5
°
，溅射部的母线形成的曲面用作溅射面；溅射部用于伸入待镀膜的产品的内腔内以对产品的内表面进行溅射镀膜。
[0006]本公开的有益效果如下：在本公开的溅射靶中，溅射面位于溅射靶的侧面、且是上大下小的圆台形的回转体的斜的周面，这样斜的周面的溅射可以满足对四周的溅射(即环形溅射)；由于溅射部为上大下小的圆台形的回转体，所以回转体可以深入产品的内腔内对产品的内表面进行镀膜。由于前述斜的周面的溅射可以满足对四周的溅射(即环形溅射)，故与传统平面或柱面溅射靶相比能够提高形成的膜层的均匀性。
附图说明
[0007]图1是根据本公开的溅射靶的立体图。
[0008]图2是图1的剖视图。
[0009]图3是溅射靶安装在真空溅射镀膜机上的示意图。
[0010]图4是真空溅射镀膜机溅射镀膜球罩形成导电环的示意图。
[0011]图5是形成导电环的球罩的示意图。
[0012]其中，附图标记说明如下：
[0013]100真空溅射镀膜机θ夹角
[0014]100a真空室400c等直径部
[0015]100b靶材基座400d安装法兰
[0016]200球罩固定工装400e中空腔
[0017]G镀膜间隙400e1第一回转体
[0018]300球罩400e2第二回转体
[0019]300b内球面400e3第三回转体
[0020]400溅射靶400e4第四回转体
[0021]轴向D400e5第五回转体
[0022]400a溅射部400e6第六回转体
[0023]400a1母线400f圆倒角
[0024]400a2溅射面500导电环
[0025]400b轴线
具体实施方式
[0026]附图示出本公开的实施例，且将理解的是，所公开的实施例仅仅是本公开的示例，本公开可以以各种形式实施，因此，本文公开的具体细节不应被解释为限制，而是仅作为权利要求的基础且作为表示性的基础用于教导本领域普通技术人员以各种方式实施本公开。
[0027]参照图1至图5，根据本公开的溅射靶400包括溅射部400a。溅射部400a为上大下小的圆台形的回转体，溅射部400a的母线400a1与溅射靶400的轴线400b的夹角θ为17.5
‑
22.5
°
，溅射部400a的母线400a1形成的曲面用作溅射面400a2；溅射部400a用于伸入待镀膜的产品(未示出)的内腔内以对产品的内表面进行溅射镀膜。
[0028]在本公开的溅射靶400中，溅射面400a2位于溅射靶400的侧面、且是上大下小的圆台形的回转体的斜的周面，这样斜的周面的溅射可以满足对四周的溅射(即环形溅射)；由于溅射部400a为上大下小的圆台形的回转体，所以回转体可以深入产品的内腔内对产品的内表面进行镀膜。由于前述斜的周面的溅射可以满足对四周的溅射(即环形溅射)，故与传统平面或柱面溅射靶相比能够提高形成的膜层的均匀性。
[0029]在一示例中，参照图4和图5，待镀膜的产品为待通过溅射镀膜在内表面形成导电环的球罩300；溅射部400a用于伸入球罩固定工装200的中空空间S中，以对仅露出球罩300的一部分的镀膜间隙G进行镀膜而在球罩300的内球面300b上形成导电环500。通过球罩固定工装200形成的镀膜间隙G与溅射靶400的配合，不仅能够实现对球罩300的内球面300b上形成导电环500，而且实现了对诸如球罩300的产品的内部的局部部位的镀膜。球罩300可以为但不限于硫化锌或硒化锌球罩。镀膜的溅射靶400的材质可以依据实际需要来确定。
[0030]参照图1和图2，溅射靶400还可包括等直径部400c，等直径部400c连接于溅射部400a的轴向D的一侧。等直径部400C一方面用于限定溅射部400a发挥作用的极限位置，另一方面有助于溅射部400a更深地伸入到待镀膜的产品的内腔内。
[0031]为了便于安装，如图1和图2所示，溅射靶400还包括安装法兰400d，安装法兰400d连接于等直径部400c的轴向D的一侧以使等直径部400c位于安装法兰400d和溅射部400a之间，安装法兰400d用于安装在真空溅射镀膜机100的靶材基座100b(溅射靶400位于真空室100a内)。为了进一步增强密封，安装法兰400d与靶材基座100b之间可以设置橡胶密封环，安装法兰400d与靶材基座100b之间可以通过外接的锁扣(未示出)实现二者的锁紧以及橡
胶密封环的压紧。
[0032]如图1和图2所示，溅射靶400具有中空腔400e，中空腔400e用于循环冷却介质以控制溅射靶400的温度，中空腔400e沿轴向D在安装法兰400d处开口且在周向和溅射部400a的底部封闭。通过循环冷却介质经由中空腔400e以及靶材基座100b和冷却介质源(未示出)循环，能够使降低溅射过程中溅射靶400自身的温度。循环冷却介质可以选任何合适的冷却介质，例如水，水的温度、流量、流速等可以依据实际需要来选定。
[0033]基于安装法兰400d的设置，中空腔400e为安装法兰400d处大、溅射部400a的底部处小。进一步地，如图2所示，中空腔400e沿轴向D从安装法兰400d到底部依次具有第一回转体400e1、第二回转体400e2、第三回转体400e3、第四回转体400e4、第五回转体400e5和第六回转体400e6；第一回转体400e1为上大下小的圆台体；第二回转体400e2为圆柱体；第三回转体400e3为上大下小的圆台体；第四回转体400e4为上大下小的圆台体；第五回转体400e5为圆柱体；第六回转体400e6为上大下小的圆台体。第一回转体400e1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射靶，其特征在于，溅射靶(400)包括溅射部(400a)，溅射部(400a)为上大下小的圆台形的回转体，溅射部(400a)的母线(400a1)与溅射靶(400)的轴线(400b)的夹角(θ)为17.5
‑
22.5
°
，溅射部(400a)的母线(400a1)形成的曲面用作溅射面(400a2)；溅射部(400a)用于伸入待镀膜的产品的内腔内以对产品的内表面进行溅射镀膜。2.根据权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，待镀膜的产品为待通过溅射镀膜在内表面形成导电环的球罩(300)；溅射部(400a)用于伸入球罩固定工装(200)的中空空间(S)中，以对镀膜间隙(G)进行镀膜而在球罩(300)的内球面(300b)上形成导电环(500)。3.根据权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，溅射靶(400)还包括等直径部(400c)，等直径部(400c)连接于溅射部(400a)的轴向(D)的一侧。4.根据权利要求3所述的溅射靶，其特征在于，溅射靶(400)还包括安装法兰(400d)，安装法兰(400d)连接于等直径部(400c)的轴向(D)的一侧以使等直径部(400c)位于安装法兰(400d)和溅射部(400a)之间，安装法兰(400d)用于安装在真空溅射镀膜机(100)的靶材基座(100b)。5.根据权利要求4所述的溅射靶，其特征在于，溅射靶(400)具有中空腔(400e)，中空腔(400e)用于循...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴辉，李长东，王奎，王星星，尹士平，
申请(专利权)人：安徽光智科技有限公司，
类型：新型
国别省市：