一种钛铌合金溅射靶材及其制备方法与应用技术

本发明专利技术涉及一种钛铌合金溅射靶材及其制备方法与应用，所述钛铌合金溅射靶材的制备方法包括如下步骤：(1)球磨混合钛粉与铌粉，得到混合粉；(2)步骤(1)所得混合粉依次经夯实处理、真空脱气处理、预热处理、热等静压处理以及机加工处理，得到所述钛铌合金溅射靶材。本发明专利技术通过预先混合钛粉与铌粉，所得混合粉依次进行预热处理与热等静压处理，相较于直接进行热等静压处理，制得的钛铌合金溅射靶材致密度与纯度较高，且内部组织均匀，能够满足作为溅射靶材的高性能要求。靶材的高性能要求。

【技术实现步骤摘要】
一种钛铌合金溅射靶材及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及溅射靶材制备
，具体涉及一种钛铌合金溅射靶材及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]钛铌合金溅射靶材在用于半导体磁控溅射的过程中对靶材的纯度、内部组织结构、力学强度以及外观尺寸的要求极高，同时靶材的成分和制备工艺又对膜层的各项性能起到决定性影响。
[0003]现有技术中的钛铌合金一般是通过熔炼连铸连轧方式生产，但钛铌合金溅射靶材中的铌熔点为2469℃，密度为8.57g/cm3，而活性金属钛的熔点为1670℃，密度为4.50g/cm3，二者熔点和密度存在较大差异，采用真空熔炼生产钛铌合金时容易使得成分不均匀，而粉末冶金烧结法制备靶坯可以提高坯体的致密度与内部均匀性。
[0004]CN 115637412A公开了一种钼合金靶材及其制作工艺，所述钼合金靶材配方各成分的质量百分数为：Mo 55～65％，Ni 15～25％，Ti 15～25％，Re 0.1～5％，W 0.1～2％，Nb 0.1～2％，Mn 0.1～0.2％，Co 0.1～0.2％，采用冷等静压压制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钛铌合金溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：(1)球磨混合钛粉与铌粉，得到混合粉；(2)步骤(1)所得混合粉依次经夯实处理、真空脱气处理、预热处理、热等静压处理以及机加工处理，得到所述钛铌合金溅射靶材。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述钛粉的纯度＞99.98％；优选地，步骤(1)所述钛粉的平均粒径＜75μm。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述铌粉的纯度＞99.95％；优选地，步骤(1)所述铌粉的平均粒径＜10μm。4.根据权利要求1
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3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述球磨混合在氩气气氛中进行；优选地，步骤(1)所述球磨混合的料球比为10:(1
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3)；优选地，步骤(1)所述球磨混合的混粉球包括硬质锆球和/或氧化锆球；优选地，步骤(1)所述球磨混合的时间≥48h，优选为48
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56h。5.根据权利要求1
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4任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述夯实处理在不锈钢包套中进行；优选地，步骤(2)所述真空脱气处理的温度为200
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350℃；优选地，步骤(2)所述真空脱气处理的时间为4
‑
8h；优...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，廖培君，黄东长，张怡忠，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：