本发明专利技术是关于一种身体平衡装置。该身体平衡装置包括主要由缓冲材质所构成的本体，该本体具有第一跖骨部、第四跖骨部以及足跟部。上述本体上设置有一主调节结构，其是位于上述第一跖骨部及第四跖骨部之间，其形成为一种由诸如透孔、凹穴或嵌设柔软材质等构造，以让人类身体于站立或行走时达到平衡的效果，改善久站或步行时骨骼肌肉不舒服的情形。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于一种调整人类身体重心以利久站或步行的装置，尤指一种垫衬于足 底且可作为诸如放置于鞋内的鞋垫或鞋中底的足部用品加以应用的身体平衡装置。
技术介绍
随着经济的发达，现代人的文明病越来越多。在这些文明病中包括一种常见而普 遍的慢性疼痛。此种慢性疼痛发生的主要原因，在于骨骼肌肉失去平衡。在人类演化的过 程中，人类是由爬行演化成直立而行。为了维 持站立和行走的平衡，人类身体产生代替补偿 的作用，并由于这些代替补偿的作用导致了各种不良的动作与姿势，进而造成引起上述慢 性疼痛的各种酸痛。因此相关领域的医学专家与科学家尽一切努力所欲达成者，是令身体 关节肌肉维持在中立平衡的位置，以避免不良的动作与姿势造成酸痛及上述慢性疼痛。请参阅图16，在人类站立或行走时，最理想的状态是让脚掌90的第一跖骨对应于 足底的位置91、第四跖骨对应于足底的位置94、以及足跟位置96形成三点支撑，使骨骼肌 肉系统在站立或行走时自然维持在中立平衡的位置。然而，位于足底第一跖骨位置91与第四跖骨位置94间的第一特定部位于站立或 行走时，将比第一跖骨位置91与第四跖骨位置94更为向下突出并承受更大力量，使足底在 该第一特定部位容易感觉不舒服，进而导致全身重量在站立或行走时可能偏向足底的内侧 或外侧，造成不稳定的状态。而这种足底内侧与足底外侧无法平均受力的不稳定状态会造 成不舒服感，使得全身配重倾向脚跟，且不但有上述不舒服的情况，行走时脚掌90也容易 摇晃，对骨骼肌肉带来负面影响。为改善该情况，需降低上述第一特定部位所承受的力量。将所承受的力量分配给 足底第一跖骨位置91与第四跖骨位置94，使其与足跟位置96形成三点支撑。另一方面，足底外侧98于上述第四跖骨位置94及足跟位置96间对应于外侧足弓 的第二特定部位，则可能因为与鞋底的接触力量过大，而导致站立或行走时容易外八字的 情况。为了更进一步改善该情况，可降低上述对应于外侧足弓的第二特定部位所承受的力 量。由上述可知，市场对于能够降低第一特定部位所承受力量的身体平衡装置，或者 对于能够同时降低第一特定部位与第二特定部位所承受力量的身体平衡装置有需求，但目 前市场上并无能够满足此需求的产品。因此如何提供能满足此需求的产品是一亟待解决的 问题。
技术实现思路
有鉴于上述足底第一特定部位与第二特定部位承受过大力量的问题，本专利技术的主 要目的是为了提供一种身体平衡装置，以降低第一特定部位所承受力量。本专利技术的另一目 的是为了提供一种身体平衡装置，以降低第一特定部位所承受力量，并降低第二特定部位 所承受力量。因此，可将上述身体平衡装置应用为足部用品以让脚掌的第一跖骨对应于足底的位置、第四跖骨对应于足底的位置、以及足跟位置形成三点支撑，使骨骼肌肉系统在站 立或行走时自然维持在中立平衡的位置，达到最理想的状态，从而让身体结构能顺利地自 我调整身体重心，进而改变身体姿势来维持平衡。通过本专利技术持续地让身体骨骼肌肉系统 维持在理想的平衡状态，可减少因骨骼肌肉不平衡可能造成的伤害，改善人们酸痛及慢性 疼痛的困扰，使人们全身感觉舒服又不受伤害。为达到上述专利技术目的，本专利技术所采用的主要技术手段是令上述身体平衡装置，包 括一本体10，用于垫衬于足底，其是主要由一缓冲材质所构成且具有一顶面、一底 面、一对应于人类足底第一跖骨位置的第一跖骨部11、一对应于人类足底第四跖骨位置的 第四跖骨部14以及一对应于人类足跟的足跟部16 ；至少一设置于上述本体10上的主调节结构20，是位于上述第一跖骨部11及第四 跖骨部14之间，其形成为一种从由透孔构造、嵌设柔软材质构造、顶面凹穴构造、底面凹穴 构造、顶面嵌设柔软材质构造、底面嵌设柔软材质构造、薄片状结构构造、顶底双面嵌设柔 软材质构造、中空构造、内部填充柔软材质构造所组成群组选出的构造，其中上述柔软材质 是较上述本体的缓冲材质柔软的材质。由于上述主调节结构具有空洞或较柔软的结构，因此可有效降低上述足底第一特 定部位所承受的力量，将所承受的力量分配给足底第一跖骨位置与第四跖骨位置，使其与 足跟位置形成三点支撑，以让身体骨骼肌肉系统维持在理想 的平衡状态，而避免或改善酸 痛与慢性疼痛的困扰所造成的问题。此外，本专利技术另可配合不对称鞋面的设计与黄金比例 的鞋跟高度等，让站立或行走时骨骼肌肉系统，自然维持在中立平衡的位置。附图说明图1是本专利技术第一实施例的平面图；图2是本专利技术第一实施例的仰视图；图3是本专利技术第一实施例的使用示意图；图4是本专利技术第一实施例的另一使用示意图；图5至图11是本专利技术的主调节结构的其他实施形态的局部侧剖面图；图12是本专利技术第二实施例的平面图；图13是本专利技术第二实施例的使用示意图；图14是本专利技术第三实施例的平面图；图15是本专利技术第三实施例的使用示意图；图16是人类脚掌的示意图。附图标号10本体10'本体10〃本体IOB本体IOC本体IOD本体IOE本体11第一跖骨部11'第一跖骨部11〃第一跖骨部14第四跖骨部14'第四跖骨部14〃第四跖骨部16足跟部16'足跟部16"足跟部20主调节结构20'主调节结构20〃主调节结构20A主调节结构20B主调节结构20C主调节结构20D主调节结构20E主调节结构20F主调节结构20G主调节结构30副调节结构90脚掌91第一跖骨位置94第四跖骨位置96足跟位置98足底外侧具体实施例方式请参阅图1和图2，本专利技术第一实施例是一种身体平衡装置，其包括一本体10及一 设置于上述本体10上的主调节结构20。上述本体10是用于垫衬于足底，其是主要由一缓冲材质所构成且具有一顶面、一 底面、一对应于人类足底第一跖骨位置的第一跖骨部11、一对应于人类足底第四跖骨位置 的第四跖骨部14以及一对应于人类足跟的足跟部16。在本实施例中，上述本体10是形成 为一鞋垫。在本实施例的其他可行实施形态中，上述本体10是可形成为一鞋中底。当上述 本体10是形成为鞋中底时，是将其设置于一鞋类制品的鞋大底上；当上述本体10是形成为 鞋垫时，则可视使用者使用上的调配随意设置于鞋类制品的内部底面，以让上述本体10垫 衬于足底。上述主调节结构20是位于上述第一跖骨部11及第四跖骨部14之间，其可形成为 一种顶面凹穴构造。请参阅图3和图4，使用时，是将上述本体10垫衬于足底。由于上述主调节结构 20在本实施例中是形成为顶面凹穴构造，因此足底第一跖骨位置及第四跖骨位置虽然能够 与本体上的第一跖骨部11及第四跖骨部14接触而承受力量，但足底第一跖骨位置与第四 跖骨位置间的第一特定部位与上述主调节结构20之间将无法有效地相互接触，从而能够 降低上述第一特定部位所承受的力量。因此，在站立或行走时的力量将分配给足底第一跖 骨位置及第四跖骨位置，进而在上述本体10上于上述第一跖骨部11、第四跖骨部14与足跟 位置96形成三点支撑。由上述可知，在上述主调节结构20形成为顶面凹穴的实施形态中， 是令上述主调节结构20形成于低于上述本体10顶面的位置，并通过其构造以达到本专利技术 的目的。上述主调节结构20除了如上所形成为顶面凹穴以外，如图5所示，在一可行实施形态中，也可采用一种柔软材质，该柔软材质是较上述本体的缓冲材质柔软的材质，并令该 柔软材质嵌合于上述本体顶面而形成一种顶面嵌设柔软材质构本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种身体平衡装置，其特征在于，所述身体平衡装置包括：一本体，用于垫衬于足底，所述本体主要由一缓冲材质所构成且具有一顶面、一底面、一对应于人类足底第一跖骨位置的第一跖骨部、一对应于人类足底第四跖骨位置的第四跖骨部以及一对应于人类足跟的足跟部；一设置于所述本体上的主调节结构，是位于所述第一跖骨部及所述第四跖骨部之间，所述主调节机构形成为一种从由透孔构造、嵌设柔软材质构造、顶面凹穴构造、底面凹穴构造、顶面嵌设柔软材质构造、底面嵌设柔软材质构造、薄片状构造、顶底双面嵌设柔软材质构造、中空构造、内部填充柔软材质构造所组成群组选出的构造，其中所述柔软材质是较所述本体的缓冲材质柔软的材质。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：曾赞育，
申请(专利权)人：曾赞育，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。