一种气体供给装置及镀膜设备制造方法及图纸

本发明专利技术涉及镀膜领域，其公开一种气体供给装置及镀膜设备，气体供给装置包括二分流管路，二分流管路的输送路径连成二分流线条，二分流线条的展开图设置在xy平面上，二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，二分流线条位于xy平面的第四象限，二分流线条在xy平面中的最左端的线段与y轴共线，二分流线条的输入端位于x轴上，二分流线条及其所在的第四象限面以x轴为中心进行螺旋状的弯折，使得二分流线条所在的平面弯折成柱体，柱体状的二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，柱体以y轴或与y轴的平行轴为中心进行弯折，盘状或环状的二分流线条形成了二分流管路的输送路径所连成的二分流线条。的二分流线条。的二分流线条。

【技术实现步骤摘要】
一种气体供给装置及镀膜设备


[0001]本专利技术涉及镀膜领域，特别是一种气体供给装置及镀膜设备。

技术介绍

[0002]利用PVD(物理气相沉积)、CVD(化学气相沉积)、干式刻蚀等工艺可以在基板上沉积或部分去除各种薄膜膜层，基板的面积越大，所载器件数就可以越多，这样单个器件的成本就可以大幅降低。在半导体行业中晶圆的尺寸在不断做大；在显示器制造中，基板面积的增大还可以使单个显示屏器件的尺寸增大。
[0003]当前，基板进行气体供给时，一般可采用二分流管路，有一条管道经过多级二分流管，分成多个出气口。但是，基板面积的增大导致二分流管路所需要分出的出气口就越多，即二分流需要进行越多级的分流，这将导致二分流管路需要更大的体积，使得二分流管路所占用的空间较大，影响镀膜真空腔室的空间利用率；二分流需要进行越多级的分流，这也将导致二分流管路的裸露表面积增大，表面被污染的面积增大，污染表面发生尘埃的概率增大，影响镀膜膜质，维护困难。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是：解决上述所提出的至少一个技术问题。
[0005]本专利技术解决其技术问题的解决方案是：
[0006]一种气体供给装置，包括供气设备和二分流管路，所述二分流管路的输入口与所述供气设备通过气管相连，所述二分流管路的输送路径连成二分流线条，所述二分流线条的展开图设置在xy平面上，使得展开后的二分流线条的输入端的开口朝向y轴的正方向，二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，所述二分流线条位于xy平面的第四象限，所述二分流线条在xy平面中的最左端的线段与y轴共线，所述二分流线条的输入端位于x轴上，二分流线条及其所在的第四象限面以x轴为中心进行螺旋状的弯折，使得所述二分流线条所在的平面弯折成柱体，柱体状的二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，所述柱体以y轴为中心进行螺旋弯折，使得所述柱体弯折一个盘状或环状；当所述柱体弯折成盘状时，所述二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，所述二分流线条形成了所述二分流管路的输送路径所连成的二分流线条。
[0007]作为上述技术方案的进一步改进，所述柱体以y轴为中心或y轴的平行轴进行螺旋弯折，使得所述柱体弯折一个盘状或环状；当所述柱体弯折成盘状时，所述二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，当所述柱体弯折成环状时，所述二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向或朝向环状的内侧；盘状的所述二分流线条形成了所述二分流管路的输送路径所连成的二分流线条。
[0008]作为上述技术方案的进一步改进，所述二分流管路的输入口的截面积为S，第N级二分流管道的出气端的管径为0.5
N
S。
[0009]作为上述技术方案的进一步改进，所述柱体外形呈棱柱状或圆柱状。
[0010]作为上述技术方案的进一步改进，弯折成盘状的所述柱体设置呈棱柱状或圆柱状。
[0011]作为上述技术方案的进一步改进，所述二分流线条及其所在的第四象限面以x轴为中心进行沿阿基米德螺线进行弯折。
[0012]作为上述技术方案的进一步改进，所述阿基米德螺线的极坐标方式为r＝bθ，b表示螺线的半径增量，二分流管道的外径≤2πb。
[0013]作为上述技术方案的进一步改进，所述柱体在xz平面中以y轴为中心沿阿基米德螺线进行弯折。
[0014]作为上述技术方案的进一步改进，所述二分流管路由三维打印而成。
[0015]作为上述技术方案的进一步改进，最后一级的所述二分流管道中的出气端的内径为0.1至10毫米。
[0016]作为上述技术方案的进一步改进，所述柱体弯折成多个首尾相连的U型而形成所述盘状。
[0017]作为上述技术方案的进一步改进，相邻的二分流管道共用管壁。
[0018]作为上述技术方案的进一步改进，所述二分流管路设置多个，所有的二分流管路的输入口通过气管与所述供气设备相连。
[0019]本专利技术还提供了一种镀膜设备，包括上述任意技术方案中的气体供给装置。
[0020]本专利技术的有益效果是：通过对二分流线条先进行绕x轴的弯折成柱体，然后再使柱体绕y轴完成呈盘状或环状，最终有该二分流线条形成了相应的二分流管路的输送路径，以该二分流管路的输送路径形成二分流管路，该二分流管路占用的空间小、而且能够是实现均匀出气的功能。
附图说明
[0021]图1是本专利技术中的二分流管路中的二分流线条进行一次弯折成柱状的轴测示意图。
[0022]图2是本专利技术中的二分流管路的展开图。
[0023]图3是本专利技术中的镀膜设备对基板进行均匀吹气的示意图。
[0024]图4是本专利技术中的二分流线条展开在xy平面上的示意图。
[0025]图5是本专利技术中的一个二分流管道的示意图。
[0026]图6是本专利技术中的柱体弯折成圆形环状的示意图。
[0027]图7是本专利技术中的柱体弯折成矩形环状的示意图。
[0028]图8是本专利技术中的二分流管路设置成柱体状的侧面示意图。
[0029]图9是本专利技术中二分流管路设置成柱体状的轴测示意图。
[0030]图10是本专利技术中采用两个二分流管路对PVD用阴极进行吹气的示意图。
[0031]图11是本专利技术中的二分流管路中的二分流线条进行两次弯折成盘状的轴测示意图。
[0032]图12是本专利技术中的二分流管路设置成环状的输出口分布的轴测图，图中二分流管路以带有厚度的曲面来简化表示。
[0033]附图中：1
‑
输入口，2
‑
输出口，3
‑
输入端，4
‑
输出端，5
‑
进气端，6
‑
出气端，7
‑
管壁，
8
‑
供气设备，9
‑
支撑台，10
‑
掩膜板，11
‑
基板，12
‑
晶圆，13
‑
出气管，14
‑
外壳，15
‑
进气管，16
‑
PVD用阴极，17
‑
二分流管路。
具体实施方式
[0034]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，以上对实施例描述中所需要使用的附图作了简单说明。显然，所描述的附图只是本专利技术的一部分实施例，而不是全部实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他设计方案和附图。
[0035]以下将结合实施例和附图对本专利技术的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本专利技术的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本专利技术的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本专利技术的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本专利技术保护的范围。另外，文中所提到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气体供给装置，包括供气设备，其特征在于，所述气体供给装置还包括二分流管路，所述二分流管路的输入口与所述供气设备通过气管相连，所述二分流管路的输送路径连成二分流线条，所述二分流线条的展开图设置在xy平面上，使得展开后的二分流线条的输入端的开口朝向y轴的正方向，二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，所述二分流线条位于xy平面的第四象限，所述二分流线条在xy平面中的最左端的线段与y轴共线，所述二分流线条的输入端位于x轴上，二分流线条及其所在的第四象限面以x轴为中心进行螺旋状的弯折，使得所述二分流线条所在的平面弯折成柱体，柱体状的二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，所述二分流线条形成了所述二分流管路的输送路径所连成的二分流线条。2.根据权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，所述柱体以y轴或y轴的平行轴为中心进行弯折，使得所述柱体弯折一个盘状或环状。3.根据权利要求2所述的气体供给装置，其特征在于，当所述柱体弯折成盘状时，所述二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向，当所述柱体弯折成环状时，所述二分流线条的所有输出端朝向y轴的负方向或朝向环状的内侧；盘状的所述二分流线条形成了所述二分流管路的输送路径所连成的二分流线条。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨一新，
申请(专利权)人：季华实验室，
类型：发明
国别省市：