基站以及清洁系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种基站以及清洁系统，基站包括基站本体以及喷液件，基站本体设有清洁槽，喷液件被配置为能够被驱动，以相对基站本体沿预设轨道运动，喷液件在沿预设轨道运动时能够朝清洁槽内喷射清洁液。如此设置，在需要清洗清洁槽时，驱动喷液件沿预设轨道运动，喷液件一并朝清洁槽内喷射清洁液，便能对清洁槽进行清洗，进而能够解决用户因需手动清洗清洁槽而导致的用户体验较差的问题。槽而导致的用户体验较差的问题。槽而导致的用户体验较差的问题。

【技术实现步骤摘要】
基站以及清洁系统


[0001]本技术属于基站
，具体涉及一种基站以及清洁系统。

技术介绍

[0002]基站与清洁设备配套使用，在清洗清洁设备的清洁件时，污水先落入基站的清洁槽内，再经清洁槽的排液口排出。在清洁设备的清洁件完成清洗后，清洁槽内容易残留有污渍，需要用户手动清洗，导致用户体验较差，故亟需改进。

技术实现思路

[0003]因此，本技术所要解决的技术问题是用户需手动清洗清洁槽而导致的用户体验较差的问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术提供一种基站，所述基站包括：
[0005]基站本体，所述基站本体设有清洁槽；
[0006]喷液件，所述喷液件被配置为能够被驱动，以相对所述基站本体沿预设轨道运动，所述喷液件在沿所述预设轨道运动时能够朝所述清洁槽内喷射清洁液。
[0007]可选地，上述的基站，所述基站包括安装支架，所述安装支架活动安装于所述基站本体并能够沿所述预设轨道的走向滑动，所述喷液件安装于所述安装支架，所述安装支架被配置为能够被驱动相对所述基站本体运动，以带动所述喷液件沿所述预设轨道运动。
[0008]可选地，上述的基站，所述基站本体具有侧向敞口的容纳腔，所述容纳腔具有顶壁、与所述顶壁呈相对设置的底壁以及连接所述顶壁的和所述底壁的侧壁，所述清洁槽设于所述底壁；
[0009]所述预设轨道位于所述清洁槽的侧壁、所述顶壁以及所述侧壁中的至少一个位置。
[0010]可选地，上述的基站，所述基站本体设有导向部，所述导向部沿所述预设轨道的走向延伸设置，所述安装支架设有配合部，所述配合部与所述导向部配合并能够沿所述导向部移动。
[0011]可选地，上述的基站，所述安装支架与所述喷液件可拆卸连接。
[0012]可选地，上述的基站，所述安装支架设有卡槽，所述喷液件设有与所述卡槽配合的卡块。
[0013]可选地，上述的基站，所述喷液件活动安装于所述安装支架，所述喷液件被配置为能够被驱动沿所述安装支架的延伸方向运动。
[0014]可选地，上述的基站，所述预设轨道位于所述清洁槽侧壁，所述基站本体的底部设有安装腔，所述基站本体还设有连通所述安装腔和所述清洁槽的侧壁的让位开口，所述让位开口沿所述预设轨道的走向延伸设置，所述喷液件收容于所述安装腔内，所述喷液件的喷液口朝向所述让位开口。
[0015]可选地，上述的基站，所述喷液件设有喷液接头，所述喷液接头位于所述让位开口
内。
[0016]可选地，上述的基站，所述安装腔内设有限位部，所述限位部沿所述让位开口的延伸方向延伸设置，所述限位部与所述安装腔邻接所述让位开口的腔壁围设形成滑槽，所述喷液件至少部分与所述滑槽滑动配合。
[0017]可选地，上述的基站，所述安装支架能够沿横向、纵向和竖向中的至少一个方向运动。
[0018]可选地，上述的基站，所述清洁槽的槽底倾斜设置，所述槽底的最低位置设有排液口。
[0019]可选地，上述的基站，所述基站还包括驱动机构，所述喷液件能够被所述驱动机构驱动，以相对所述基站本体沿所述预设轨道运动。
[0020]可选地，上述的基站，所述喷液件为扇形喷嘴或者直线喷嘴。
[0021]本技术还提供一种清洁系统，所述清洁系统包括如上所述的基站以及清洁设备。
[0022]本技术提供的技术方案，具有以下优点：
[0023]上述的基站通过基站本体和喷液件的设定，在需要清洗清洁槽时，驱动喷液件沿预设轨道运动，喷液件一并朝清洁槽内喷射清洁液，便能对清洁槽进行清洗，进而能够解决用户因需手动清洗清洁槽而导致的用户体验较差的问题。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1为本技术提供的基站的第一种实施方式的结构示意图。
[0026]图2为图1中局部A的放大结构示意图。
[0027]图3为图1的另一视角的结构示意图。
[0028]图4为图3中局部B的放大结构示意图。
[0029]图5为本技术提供的基站的第二种实施方式的结构示意图。
[0030]图6为图5中C
‑
C面的剖视结构示意图。
[0031]图7为图6中局部D的放大结构示意图。
[0032]图8为本技术提供的基站的第三种实施方式的结构示意图。
[0033]图9为本技术提供的基站的第四种实施方式的结构示意图。
[0034]附图标记说明：
[0035]1000
‑
基站；
[0036]100
‑
基站本体；100a
‑
清洁槽；100b
‑
承载面；100c
‑
排液口；100d
‑
安装腔；100e
‑
让位开口；100f
‑
滑槽；100g
‑
容纳腔；110g
‑
顶壁；120g
‑
底壁；130g
‑
侧壁；110
‑
导向杆；120
‑
限位部；
[0037]200
‑
喷液件；210
‑
卡块；220
‑
喷液接头；
[0038]300
‑
安装支架；300a
‑
导向孔；300b
‑
卡槽。
具体实施方式
[0039]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。下文中将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0040]需要说明的是，本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。
[0041]在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本技术。
[0042]本技术提出一种基站，其通过在基站本体设有清洁槽的基础上增设能够移动的喷液件，喷液件相对基站本体沿预设轨道运动，一并朝清洁槽内喷射清洁液，便能对清洁槽进行清洗，进而能够解决用户因需手动清洗清洁槽而导致的用户体验较差的问题。
[0043]基站主要用于与清本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基站，其特征在于，所述基站包括：基站本体，所述基站本体设有清洁槽；喷液件，所述喷液件被配置为能够被驱动，以相对所述基站本体沿预设轨道运动，所述喷液件在沿所述预设轨道运动时能够朝所述清洁槽内喷射清洁液。2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，所述基站包括安装支架，所述安装支架活动安装于所述基站本体并能够沿所述预设轨道的走向滑动，所述喷液件安装于所述安装支架，所述安装支架被配置为能够被驱动相对所述基站本体运动，以带动所述喷液件沿所述预设轨道运动。3.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述基站本体具有侧向敞口的容纳腔，所述容纳腔具有顶壁、与所述顶壁呈相对设置的底壁以及连接所述顶壁的和所述底壁的侧壁，所述清洁槽设于所述底壁；所述预设轨道位于所述清洁槽的侧壁、所述顶壁以及所述侧壁中的至少一个位置。4.根据权利要求3所述的基站，其特征在于，所述基站本体设有导向部，所述导向部沿所述预设轨道的走向延伸设置，所述安装支架设有配合部，所述配合部与所述导向部配合并能够沿所述导向部移动。5.根据权利要求3所述的基站，其特征在于，所述安装支架与所述喷液件可拆卸连接。6.根据权利要求5所述的基站，其特征在于，所述安装支架设有卡槽，所述喷液件设有与所述卡槽配合的卡块。7.根据权利要求3所述的基站，其特征在于，所述喷液件活动安装于所述安装支架，所述喷液件被...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏媛丽，李达，
申请(专利权)人：追觅创新科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：