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本实用新型公开一种基站以及清洁系统，基站包括基站本体以及喷液件，基站本体设有清洁槽，喷液件被配置为能够被驱动，以相对基站本体沿预设轨道运动，喷液件在沿预设轨道运动时能够朝清洁槽内喷射清洁液。如此设置，在需要清洗清洁槽时，驱动喷液件沿预设轨道...
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