基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法技术

一种基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法，属于微纳制备技术领域。解决了现有技术中制备量子点色转换层的方法存在量子点边缘形貌难以控制，最小像素单元的尺寸有限制，易造成量子点浪费、损伤，且量子点阵列像素的均匀性和光转换效率有待提升的技术问题。本发明专利技术的制备方法，包括多个像素单元的制备，每个像素单元的制备为：利用飞秒激光在黑色光刻胶表面加工第一阵列凹槽并填充量子点胶液，并以此类推，直到在黑色光刻胶表面加工第N阵列凹槽并填充量子点胶液，且当N≥2时，第一阵列凹槽至第N阵列凹槽中，至少有一个填充量子点胶液，可以有一个或多个不填充量子点胶液。该方法对量子点无浪费和损伤，阵列稳定性高、光转换效率高、对比度高。对比度高。对比度高。

【技术实现步骤摘要】
基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法


[0001]本专利技术属于微纳制备
，具体涉及一种基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法。

技术介绍

[0002]Micro
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LED显示因为具有高发光效率、高亮度、响应时间短和可靠性高等优良性能，被誉为继LCD和OLED之后的下一代显示技术。一般认为像素尺寸在50～200微米的LED被称为Mini
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LED，Micro
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LED的阵列像素尺寸在1～50微米，随着芯片尺寸的减小，通过外延生长技术很难将Micro
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LED阵列与驱动器件集成起来。为了实现大面积全彩的显示，人们使用巨量转移技术来转移数百万数量的芯片，但是高昂的转移成本和维护成本以及转移过程中的许多技术难点，影响了转移的良率、拾取、放置的速率和精度，这些都是限制巨量转移技术进一步应用的瓶颈。采用蓝光Micro
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LED作为激发光源及量子点色转换层实现全彩色显示，可以大大降低工艺成本和技术难度，是一种有效的技术路线。
[0003]目前，制备高密度、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法，其特征在于，包括多个像素单元的制备，每个像素单元的制备步骤如下：S1、在基底的上表面旋涂或喷涂黑色光刻胶，固化；S2、用飞秒激光在固化后的黑色光刻胶的上表面加工第一阵列凹槽，清洁后，使用量子点胶液填充清洁后的第一阵列凹槽，将黑色光刻胶上表面抛光，除去黑色光刻胶上表面的量子点胶液，固化第一阵列凹槽内的量子点胶液；S3、以此类推，直到用飞秒激光在固化后的黑色光刻胶的上表面加工第N阵列凹槽，清洁后，使用量子点胶液填充清洁后的第N阵列凹槽，将黑色光刻胶上表面抛光，除去黑色光刻胶上表面的量子点胶液，固化第N阵列凹槽内的量子点胶液，得到基于飞秒激光的多色量子点阵列；所述N≥1。2.根据权利要求1所述的基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法，其特征在于，所述N≥2，第一阵列凹槽至第N阵列凹槽中，至少有一个填充量子点胶液，有一个或多个不填充量子点胶液。3.根据权利要求1所述的基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法，其特征在于，所述N为1～5。4.根据权利要求1所述的基于飞秒激光的多色量子点阵列制备方法，其特征在于，所述N为3，每个像素单元的制备步骤如下：S1、在基底的上表面旋涂黑色光刻胶，固化；S2、用飞秒激光在固化后的黑色光刻胶的上表面加工第一阵列凹槽，清洁后，使用第一量子点胶液填充清洁后的第一阵列凹槽，将黑色光刻胶的上表面抛光，除去黑色光刻胶上表面的第一量子点胶液，固化第一阵列凹槽内的第一量子点胶液；S3、用飞秒激光在固化后的...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶金，孟德佳，马青，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：