本实用新型专利技术涉及真空磁控溅射绕卷镀膜装置技术领域，且公开了一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，包括真空机构，所述真空机构的内部分别安装有靶向机构和收卷机构，所述真空机构包括真空室，所述真空室的两侧分别安装有抽真空装置和氮气设备，所述靶向机构包括银质靶材和传动辊，所述传动辊之间传动连接有传动带。该真空磁控溅射绕卷镀膜装置，通过在真空室的内部设置银质靶材对收卷辊上下的空间进行隔离，然后在银质靶材的外侧设置传动辊来带动传动带，从而使传动带表面安装的磁性材料快速移动，以产生磁极的快速交换，通过磁极的交换来对离子施加动力，使离子能够快速的向被镀膜材料靠拢形成镀膜，达到了提升镀膜效率的效果。达到了提升镀膜效率的效果。达到了提升镀膜效率的效果。
【技术实现步骤摘要】
一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置
[0001]本技术涉及真空磁控溅射绕卷镀膜装置
，具体为一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置。
技术介绍
[0002]镀膜装置主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
[0003]现有的真空磁控溅射绕卷镀膜装置会在靶向材料上规则的安装磁性物，通过磁性物对电离子进行轰击，从而产生更多电离子，并使器镀膜在材料上，而固定的磁性材料其所带来的电磁动力是一定的和规则的，从而导致离子的镀膜效率不高。
[0004]可见，亟需一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，用于提升镀膜的效果。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为了解决上述技术问题，本技术提供如下技术方案：一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，包括真空机构，所述真空机构的内部分别安装有靶向机构和收卷机构，所述真空机构包括真空室，所述真空室的两侧分别安装有抽真空装置和氮气设备；
[0007]所述靶向机构包括银质靶材和传动辊，所述传动辊之间传动连接有传动带，所述传动带的外表面固定连接有磁性材料，所述传动带的内壁开设有传动槽；
[0008]所述收卷机构包括收卷辊和导向辊，所述导向辊位于收卷辊之间，所述导向辊的外表面套接有活动套筒。
[0009]通过在真空室的内部设置银质靶材对收卷辊上下的空间进行隔离，然后在银质靶材的外侧设置传动辊来带动传动带，从而使传动带表面安装的磁性材料快速移动，以产生磁极的快速交换，通过磁极的交换来对离子施加动力，使离子能够快速的向被镀膜材料靠拢形成镀膜，达到了提升镀膜效率的效果；
[0010]通过在收卷辊之间活动连接导向辊，并在导向辊的表面套接活动套筒，通过活动套筒的底部与被镀膜材料的顶部搭接，从而对被镀膜材料的高度进行限位，使被展开的被镀膜材料与两侧的银质靶材间距相近，从而在被镀膜的时候，被镀膜两侧的镀膜度相近，达到了两侧镀膜厚度均匀的效果。
[0011]优选的，所述银质靶材的数量为两个，两个所述银质靶材分别位于收卷辊的上下两侧，所述银质靶材的四边与真空室内壁的四边固定连接。
[0012]设置两个银质靶材分别位于收卷辊的上下两侧，从而对两组传动辊进行隔离，实现两侧同时与离子作用实现双面同时镀膜的效果。
[0013]优选的，所述传动辊外表面开设有限位槽，所述传动辊表面的限位槽的内部开设有齿槽。
[0014]在传动辊的表面开设限位槽，从而通过限位槽传动带进行限位，以避免传动带在传动的时候发生偏移，而在传动辊限位槽的内部设置齿槽，用于提升传动辊对传动带的传动能力。
[0015]优选的，所述银质靶材的前后两端均与真空室的内壁活动连接，且两个所述银质靶材其中的一个被电机带动，两个所述银质靶材之间的间距大于收卷辊之间的间距。
[0016]设置银质靶材的连接方式，从而通过银质靶材对真空室的内部空间形成分割，使氮气只能充斥在收卷辊的周围对被镀膜材料进行镀膜。
[0017]优选的，所述传动带表面的磁性材料等距分布，等距分布的磁性材料磁性的正负极相互交错。
[0018]将磁性材料等距分布在传动带的外表面，从而使磁性材料的磁力等距分布，并在运动的时候磁场能够规则的移动，从而使离子被规则的带动并加速。
[0019]优选的，所述传动带的宽度与传动辊之间的限位槽宽度相等，所述磁性材料与银质靶材向靠近。
[0020]设置传动带的宽度，从而使传动带能够被传动辊稳定的传动，而磁性材料靠近银质靶材，从而使磁性材料的磁力能够最大程度的贯穿银质靶材。
[0021]优选的，所述收卷辊的外表面缠绕有被镀膜材料，所述活动套筒的底部与收卷辊的轴心水平，且活动套筒的底部与被镀膜材料的顶部搭接。
[0022]设置收卷辊用于对被镀膜材料进行放料后收卷，用于收卷的收卷辊被电机带动，而通过活动套筒来使被镀膜材料的中间延长位置处于两片银质靶材之间的近中心点，从而在镀膜的时候能够保持两侧镀膜均匀。
[0023]与现有技术相比，本技术所达到的有益效果是：
[0024]第一、本技术通过在真空室的内部设置银质靶材对收卷辊上下的空间进行隔离，然后在银质靶材的外侧设置传动辊来带动传动带，从而使传动带表面安装的磁性材料快速移动，以产生磁极的快速交换，通过磁极的交换来对离子施加动力，使离子能够快速的向被镀膜材料靠拢形成镀膜，达到了提升镀膜效率的效果。
[0025]第二、本技术通过在收卷辊之间活动连接导向辊，并在导向辊的表面套接活动套筒，通过活动套筒的底部与被镀膜材料的顶部搭接，从而对被镀膜材料的高度进行限位，使被展开的被镀膜材料与两侧的银质靶材间距相近，从而在被镀膜的时候，被镀膜两侧的镀膜度相近，达到了两侧镀膜厚度均匀的效果。
附图说明
[0026]图1为本技术结构示意图；
[0027]图2为本技术靶向机构示意图；
[0028]图3为本技术传动辊结构示意图；
[0029]图4为本技术收卷机构示意图；
[0030]图5为本技术图4中A处结构放大图。
[0031]其中：1、真空机构；101、真空室；102、抽真空装置；103、氮气设备；2、靶向机构；
201、银质靶材；202、传动辊；203、传动带；204、磁性材料；205、传动槽；3、收卷机构；301、收卷辊；302、导向辊；303、活动套筒。
具体实施方式
[0032]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0033]请参阅图1
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5，一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，包括真空机构1，真空机构1的内部分别安装有靶向机构2和收卷机构3，真空机构1包括真空室101，真空室101的两侧分别安装有抽真空装置102和氮气设备103；
[0034]靶向机构2包括银质靶材201和传动辊202，传动辊202之间传动连接有传动带203，传动带203的外表面固定连接有磁性材料204，传动带203的内壁开设有传动槽205；
[0035]收卷机构3包括收卷辊301和导向辊302，导向辊302位于收卷辊301之间，导向辊302的外表面套接有活动套筒303。
[0036]通过上述技术方案，在真空室101的内部设置银质靶材201对收卷辊301上下的空间进行隔离，然后在银质靶材201的外侧设置传动辊202来带动传动带203，从本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，包括真空机构(1)，所述真空机构(1)的内部分别安装有靶向机构(2)和收卷机构(3)，其特征在于：所述真空机构(1)包括真空室(101)，所述真空室(101)的两侧分别安装有抽真空装置(102)和氮气设备(103)；所述靶向机构(2)包括银质靶材(201)和传动辊(202)，所述传动辊(202)之间传动连接有传动带(203)，所述传动带(203)的外表面固定连接有磁性材料(204)，所述传动带(203)的内壁开设有传动槽(205)；所述收卷机构(3)包括收卷辊(301)和导向辊(302)，所述导向辊(302)位于收卷辊(301)之间，所述导向辊(302)的外表面套接有活动套筒(303)。2.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，其特征在于：所述银质靶材(201)的数量为两个，两个所述银质靶材(201)分别位于收卷辊(301)的上下两侧，所述银质靶材(201)的四边与真空室(101)内壁的四边固定连接。3.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，其特征在于：所...
【专利技术属性】
技术研发人员：高岩，叶东国，付志江，
申请(专利权)人：大连榕树光学有限公司，
类型：新型
国别省市：
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