光源性非接触产品的镀膜方法技术

本发明专利技术光源性非接触产品的镀膜方法，具体过程为：步骤1，对光源板基材进行表面干式清洁处理；步骤2，在步骤1处理后的光源板基材上进行真空镀膜，形成真空镀膜层；步骤3，在步骤2形成的真空镀膜层上形成面涂层。本发明专利技术镀膜方法攻克了传统的PMC生产线不进行底涂喷涂无法满足附着力要求的难点，不仅提高了产品合格率，还降低了生产成本。还降低了生产成本。还降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
光源性非接触产品的镀膜方法


[0001]本专利技术属于表面处理
，具体涉及光源性非接触产品的镀膜方法。

技术介绍

[0002]PMC是Premium Metallized Coating的缩写，中文名称是优质的金属化涂层。PMC技术是集成干式清洗、UV喷涂、PVD真空镀膜等技术于一体，连续沉积出优质金属化涂层的技术。随着大家对环保问题越来越重视，传统高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被新兴环保工艺取代，而真空镀膜没有废水、废气等污染，在环保上拥有很大优势。随着社会的不断进步，真空镀的优势会越来越明显，在越来越多的行业中取代传统的湿法水电镀是大势所趋。目前家电行业各种光源板的生产已逐步使用这一环保工艺。光源板的特点是对附着力要求并不严苛，但是外观缺陷比较容易暴露，容易产生外观不合格，而传统的PMC生产工艺中包含底涂喷涂，增大出现颗粒、桔纹、麻点等不良的可能，降低光源板产品外观合格率，并且增加了生产成本。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供光源性非接触产品的镀膜方法，取消了传统的PMC生产线中的底涂工艺，不仅提高了产品合格率，还降低了生产成本。
[0004]本专利技术所采用的技术方案是，光源性非接触产品的镀膜方法，具体按照以下步骤实施：
[0005]步骤1，干式擦洗：对光源板基材进行表面清洁处理；
[0006]步骤2，真空镀膜：在步骤1处理后的光源板基材上进行真空镀膜，形成真空镀膜层；
[0007]步骤3，面涂喷涂：在步骤2形成的真空镀膜层上形成面涂层。
[0008]本专利技术的特点还在于，
[0009]步骤1的具体过程为：对光源板基材进行IPA擦拭、自然晾干，再将晾干的光源板基材装挂于运输撬体上，对光源板基材、运输撬体进行擦拭布除尘及静电除尘枪除尘。
[0010]在步骤1的干式清洗后，以PVD生产设备为基础，将干式擦洗后的光源板基材在BF1腔使用500W的网状等离子处理，通过200V电压处理2min，去除表面活性污染源，再以PVD生产设备为基础，在PT腔使用离子束等离子处理，通过300V～3000V高电压对光源板基材进行2min表面处理，并使用等离子刻蚀功能使光源板基材表面产生微观凹凸。
[0011]步骤2中，真空镀膜采用PMC生产线中PVD设备的磁控溅射真空镀膜工艺，所述靶材采用铝合金靶材、铜合金靶材、Cu靶材、Al靶材、Ti靶材、Gr靶材中的一种或多种组合，设备的工作环境温度为19℃～25℃，湿度为45％RH～55％RH，靶材的功率为6Kw～17Kw，运输撬体运行速度为0.6m/min～3m/min，腔体内真空度为5
×
10
‑7Torr～5
×
10
‑5Torr，氩气设定值为150Sccm。
[0012]步骤3中，面涂层喷涂所采用的面漆需经过500目双层滤布过滤后进行喷涂。
[0013]步骤3中，面涂喷涂过程中在喷涂机器人的腕臂末端设置有若干把喷枪，通过喷涂机器人的上下往复运动与运输撬体的前进实现整个运输车满撬喷涂。
[0014]每把喷枪的气压为3kgf/cm2～5kgf/cm2，喷枪与光源板基材表面的距离为15cm～20cm，喷房温度为20℃～25℃，喷房湿度为45％RH～55％RH。
[0015]步骤3中，所述面涂喷涂的喷涂膜厚为15μm～25μm，喷涂后的流平时间为3min～5min，流平温度为55℃～65℃，UV能量为700mj/cm2～900mj/cm2。
[0016]本专利技术的有益效果是，本专利技术光源性非接触产品的镀膜方法，取消了传统PMC生产线中的底涂喷涂工序，避免了底涂喷涂带来的颗粒、桔纹、麻点等原因造成的不合格品的产生，节约了底涂喷涂工序带来的成本消耗，经实验验证，完全满足光源性非接触产品的性能要求，保证产品质量的同时，提高产品合格率、降低产品生产成本，本专利技术方法使得PMC环保镀膜方法更加广泛的应用于家电等领域光源性非接触产品，逐步扩大市场占比。
附图说明
[0017]图1为本专利技术光源性非接触产品的镀膜方法的流程图。
具体实施方式
[0018]下面结合附图和具体实施方式对本专利技术进行详细说明。
[0019]本专利技术提供一种光源性非接触产品的镀膜方法，如图1所示，具体按照以下步骤实施：
[0020]步骤1，干式清洗擦洗：对光源板基材进行表面清洁处理；
[0021]对光源板基材进行IPA擦拭、自然晾干，再将晾干的光源板基材装挂于二次制具，再将二次制具装挂于运输撬体上，对光源板基材、二次制具及运输撬体进行擦拭布除尘及静电除尘枪除尘；
[0022]进一步地，在干式清洗擦洗后，以PVD生产设备为基础，具体采用selcos公司PVD生产设备，将干式清洗后的光源板基材在缓冲室BF1(Buffer Chamber)腔使用500W的网状等离子处理，通过200V低电压，进行2min处理，去除表面有机物等活性污染源，再以PVD生产设备为基础，在等离子处理室PT(Plasma Treatment Chamber)腔使用离子束等离子处理，通过300V～3000V高电压对光源板基材进行2min表面处理，并使用等离子刻蚀功能使光源板基材表面产生微观凹凸；
[0023]步骤2，真空镀膜：在步骤1处理后的光源板基材上进行真空镀膜，形成真空镀膜层；
[0024]其中，真空镀膜采用PMC生产线中PVD设备的磁控溅射真空镀膜工艺，靶材采用铝合金靶材、铜合金靶材、Cu靶材、Al靶材、Ti靶材、Gr靶材中的一种或多种组合，在溅射过程中可加入N2以生产出多种满足产品要求的颜色，设备的工作环境温度为19℃～25℃，湿度为45％RH～55％RH，靶材的功率为6Kw～17Kw，运输撬体运行速度为0.6m/min～3m/min，腔体内真空度为5
×
10
‑5Torr～5
×
10
‑7Torr，氩气设定值为150Sccm；
[0025]以PVD生产设备为基础，上述每种靶材都有合适的功率范围，根据其物理原理P＝UI可知，U为电压功率，P与电流I成正比；磁控溅射膜厚与电荷量Q成正比；物理原理Q＝It可知，t为时间，磁控溅射膜厚与靶材功率和溅射时间均成正比。因此，根据调整合适的功率与
速度配比来匹配产品所要求的膜层厚度；
[0026]步骤3，面涂喷涂：在步骤2形成的真空镀膜层上形成面涂层；
[0027]其中，面涂层喷涂所采用的面漆需经过500目双层滤布过滤后进行喷涂；
[0028]面涂喷涂过程中在喷涂机器人的腕臂末端设置有若干把喷枪，通过喷涂机器人的上下往复运动与运输撬体的前进实现整个运输车满撬喷涂，每把喷枪的气压为3kgf/cm2～5kgf/cm2，喷枪与光源板基材表面的距离为15cm～20cm，喷房温度为20℃～25℃，喷房湿度为45％RH～55％RH；
[0029]面涂喷涂的喷涂膜厚为15μm～25μm，喷涂后的流平时间为3min～5m本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.光源性非接触产品的镀膜方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：步骤1，干式擦洗：对光源板基材进行表面清洁处理；步骤2，真空镀膜：在步骤1处理后的光源板基材上进行真空镀膜，形成真空镀膜层；步骤3，面涂喷涂：在步骤2形成的真空镀膜层上形成面涂层。2.根据权利要求1所述的光源性非接触产品的镀膜方法，其特征在于，步骤1的具体过程为：对光源板基材进行IPA擦拭、自然晾干，再将晾干的光源板基材装挂于运输撬体上，对光源板基材、运输撬体进行擦拭布除尘及静电除尘枪除尘。3.根据权利要求1所述的光源性非接触产品的镀膜方法，其特征在于，在步骤1的干式擦洗后，以PVD生产设备为基础，将干式清洗后的光源板基材在BF1腔使用500W的网状等离子处理，通过200V电压处理2min，去除表面活性污染源，再以PVD生产设备为基础，在PT腔使用离子束等离子处理，通过300V～3000V高电压对光源板基材进行2min表面处理，并使用等离子刻蚀功能使光源板基材表面产生微观凹凸。4.根据权利要求1所述的光源性非接触产品的镀膜方法，其特征在于，步骤2中，真空镀膜采用PMC生产线中PVD设备的磁控溅射真空镀膜工艺，所述靶材采用铝合金靶材、铜合金靶材、Cu靶材、Al靶材、Ti靶材、Gr靶材中的一种或多种组合，PVD设...

【专利技术属性】
技术研发人员：王永江，陈猛，李子慕，智柳渊，杨学军，姚兴宝，杨岳红，
申请(专利权)人：鑫泽晟科技有限公司，
类型：发明
国别省市：