本发明专利技术公开了一种准分子紫外激光光刻装置，包括底座，所述底座的顶端居中开设有凹槽，且底座的一侧开设有接通凹槽的通槽，所述凹槽内活动设置有穿过通槽的气压固定组件，且底座顶端的两侧均居中开设有滑槽，两个滑槽内均转动安装有丝杆一，且丝杆一延伸出滑槽的一端连接有固定设置于底座一侧的伺服电机一，两根所述丝杆一的外缘面上共同螺纹配合安装有光刻组件，所述气压固定组件包括承载盘。该准分子紫外激光光刻装置，采用气压吸附的方式完成对于晶圆的固定，可适用于不同直径的晶圆，能够对不同尺寸的晶圆进行固定，适用范围较大，大幅降低了固定时的局限性，并且可单独控制，保障对于晶圆的固定效果，实用性较强。实用性较强。实用性较强。
【技术实现步骤摘要】
一种准分子紫外激光光刻装置
[0001]本专利技术属于半导体
，具体涉及一种准分子紫外激光光刻装置。
技术介绍
[0002]激光光刻是利用光学
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化学反应原理等方法，将电路图形刻印在介质表面，达到想要的图形刻意功能的新型微细加工技术，而在半导体的制作过程中，经常需要通过光刻工艺来进行精密的图形化加工。
[0003]现有的光刻方法是利用紫外灯发出的紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应；再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶，后者称负性光刻胶)，使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上；最后利用刻蚀技术将图形转移到半导体晶圆上。
[0004]可现有技术中的准分子紫外激光光刻装置在使用时，由于需要对晶圆进行固定，可目前的固定结构，多是采用两侧夹持的方式进行，由于夹持方式的原因，其无法对不同尺寸的晶圆进行固定，适用范围较小，局限性较大。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种准分子紫外激光光刻装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种准分子紫外激光光刻装置，包括底座；
[0007]所述底座的顶端居中开设有凹槽，且底座的一侧开设有接通凹槽的通槽，所述凹槽内活动设置有穿过通槽的气压固定组件，且底座顶端的两侧均居中开设有滑槽，两个滑槽内均转动安装有丝杆一，且丝杆一延伸出滑槽的一端连接有固定设置于底座一侧的伺服电机一，两根所述丝杆一的外缘面上共同螺纹配合安装有光刻组件；
[0008]所述气压固定组件包括承载盘，所述承载盘的顶端居中开设有圆孔一，且承载盘顶端的中心呈环形阵列开设有多个圆孔二，所述圆孔一和多个圆孔二内共同固定安装有施压组件；
[0009]所述施压组件包括固定安装于通槽内的排气主管，所述排气主管延伸出通槽的一端连接有固定设置于底座一侧的真空泵，且排气主管另一端的外缘面上呈环形阵列接通有多根排气子管，所述排气主管的一端固定安装于圆孔一内，且排气子管的一端固定安装于圆孔二内，所述排气主管和排气子管远离真空泵的一端均固定安装有感应组件。
[0010]优选的，所述感应组件包括顶端粘接有橡胶密封圈的圆管以及固定设置于圆管内底部的电磁阀，所述圆管内底部固定安装有支架，且支架内固定安装有用于检测遮挡状态的红外传感器。
[0011]优选的，所述支架包括安装座，所述红外传感器固定安装于安装座内，且安装座的外缘面上呈环形阵列构造有多个支撑臂。
[0012]优选的，所述支撑臂远离安装座的一端构造有弧形板，且弧形板的一侧对称开设有两个圆孔，两个所述圆孔内均活动设置有螺纹连接于圆管内的螺丝。
[0013]优选的，所述承载盘的外缘面上构造有固定环，且固定环的顶端呈环形阵列开设有多个沉孔，且多个沉孔内均活动设置有螺纹连接于底座内的螺栓。
[0014]优选的，所述光刻组件包括两个对称设置的滑台，两个所述滑台分别螺纹配合安装于两根丝杆一的外缘面上，且两个滑台的顶端共同焊接固定设置有横梁。
[0015]优选的，所述横梁朝向真空泵的一侧居中开设有矩形槽，且矩形槽内一侧开设有供伺服电机二固定安装的圆槽。
[0016]优选的，所述伺服电机二的电机轴上连接有丝杆二，且丝杆二远离伺服电机二的一端转动连接于矩形槽内一侧，所述丝杆二的外缘面上螺纹配合安装有用于进行光刻的激光光刻主体。
[0017]本专利技术的技术效果和优点：该准分子紫外激光光刻装置，得益于底座内气压固定组件的设置，通过将待加工的晶圆放置于承载盘内的多个感应组件顶部，并启动真空泵，使得真空泵将排气主管和多个排气子管内的空气排出，即可通过多个感应组件完成对于晶圆的吸附，可适用于不同直径的晶圆，可对不同尺寸的晶圆进行固定，适用范围较大，大幅降低了固定时的局限性；
[0018]得益于排气主管和多个排气子管上多个感应组件的设置，通过红外传感器对圆管当前的使用状态进行检测，从而圆管未受到晶圆遮挡时，将会启动指定圆管内的电磁阀，实现对于圆管的封堵，减少气压的泄漏，从而保障对于晶圆的固定效果，实用性较强。
附图说明
[0019]图1为本专利技术的结构示意图；
[0020]图2为本专利技术气压固定组件的结构示意图；
[0021]图3为本专利技术气压固定组件的拆分示意图；
[0022]图4为本专利技术感应组件的拆分示意图；
[0023]图5为本专利技术图1中A处结构的放大示意图。
[0024]图中：1、底座；2、气压固定组件；201、承载盘；202、固定环；3、丝杆一；4、伺服电机一；5、施压组件；501、排气主管；502、真空泵；503、排气子管；6、感应组件；601、圆管；602、红外传感器；603、安装座；604、支撑臂；605、弧形板；7、滑台；8、横梁；9、伺服电机二；10、丝杆二；11、激光光刻主体。
具体实施方式
[0025]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0026]如图1、图2、图3、图4所示，为适用于不同直径的晶圆，以降低固定时的局限性，一种准分子紫外激光光刻装置，包括底座1，所述底座1的顶端居中开设有凹槽，且底座1的一侧开设有接通凹槽的通槽，所述凹槽内活动设置有穿过通槽的气压固定组件2，所述气压固
定组件2包括承载盘201，所述承载盘201的外缘面上构造有固定环202，且固定环202的顶端呈环形阵列开设有多个沉孔，且多个沉孔内均活动设置有螺纹连接于底座1内的螺栓，所述承载盘201的顶端居中开设有圆孔一，且承载盘201顶端的中心呈环形阵列开设有多个圆孔二，所述圆孔一和多个圆孔二内共同固定安装有施压组件5，所述施压组件5包括固定安装于通槽内的排气主管501，所述排气主管501延伸出通槽的一端连接有固定设置于底座1一侧的真空泵502，且排气主管501另一端的外缘面上呈环形阵列接通有多根排气子管503，所述排气主管501的一端固定安装于圆孔一内，且排气子管503的一端固定安装于圆孔二内，所述排气主管501和排气子管503远离真空泵502的一端均固定安装有感应组件6，通过将待加工的晶圆放置于承载盘201内的多个感应组件6顶部，并启动真空泵502，使得真空泵502将排气主管501和多个排气子管503内的空气排出，即可通过多个感应组件6完成对于晶圆的吸附，可适用于不同直径的晶圆，可对不同尺寸的晶圆进行固定，适用范围较大，大幅降低了固定时的局限性。
[0027]如图3、图4所示，为减少气压的泄漏，以保障对于晶圆的固定效果，具体的，所述感应组件6包括顶端粘接有橡胶密封圈的圆管601以及固定设置于圆管601内底部的电磁阀，所述圆管601内底部固定安装有支架，且支架内固本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种准分子紫外激光光刻装置，包括底座(1)；其特征在于：所述底座(1)的顶端居中开设有凹槽，且底座(1)的一侧开设有接通凹槽的通槽，所述凹槽内活动设置有穿过通槽的气压固定组件(2)，且底座(1)顶端的两侧均居中开设有滑槽，两个滑槽内均转动安装有丝杆一(3)，且丝杆一(3)延伸出滑槽的一端连接有固定设置于底座(1)一侧的伺服电机一(4)，两根所述丝杆一(3)的外缘面上共同螺纹配合安装有光刻组件；所述气压固定组件(2)包括承载盘(201)，所述承载盘(201)的顶端居中开设有圆孔一，且承载盘(201)顶端的中心呈环形阵列开设有多个圆孔二，所述圆孔一和多个圆孔二内共同固定安装有施压组件(5)；所述施压组件(5)包括固定安装于通槽内的排气主管(501)，所述排气主管(501)延伸出通槽的一端连接有固定设置于底座(1)一侧的真空泵(502)，且排气主管(501)另一端的外缘面上呈环形阵列接通有多根排气子管(503)，所述排气主管(501)的一端固定安装于圆孔一内，且排气子管(503)的一端固定安装于圆孔二内，所述排气主管(501)和排气子管(503)远离真空泵(502)的一端均固定安装有感应组件(6)。2.根据权利要求1所述的一种准分子紫外激光光刻装置，其特征在于：所述感应组件(6)包括顶端粘接有橡胶密封圈的圆管(601)以及固定设置于圆管(601)内底部的电磁阀，所述圆管(601)内底部固定安装有支架，且支架内固定安装有用于检测遮挡状态的红外传感器(602)。3.根据权利要求2所述的一种准分子...
【专利技术属性】
技术研发人员：高岩，叶东国，付志江，
申请(专利权)人：大连榕树光学有限公司，
类型：发明
国别省市：
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