一种砷化镓晶片单面精抛装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及砷化镓晶片加工技术领域，尤其为一种砷化镓晶片单面精抛装置，包括箱体、控制面板、观察门和转盘，所述转盘的上端面固定连接有抛光盘，所述箱体的内壁固定连接有限位结构，所述限位结构的内侧设置有镜片放置座，所述镜片放置座设置在抛光盘的上侧，所述箱体的内壁固定连接有液桶，所述液桶的内壁固定连接有弹簧，所述弹簧的另一端固定连接有连接板，所述连接板的上端面固定连接有活塞，所述液桶的右端面接通有分流壳，所述分流壳的前端面导孔处固定连接有出液管，所述分流壳的下端面左右两侧均固定连接有连板，通过设置的液桶、活塞、捋平刷、出液管等结构实现了精抛装置可以对抛光盘均匀涂抹抛光液的能力，提高了装置的实用性。置的实用性。置的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种砷化镓晶片单面精抛装置


[0001]本技术涉及砷化镓晶片加工
，具体为一种砷化镓晶片单面精抛装置。

技术介绍

[0002]砷化镓晶片是一种半导体材料,具有高频率、高电子迁移事、高锦出功事、低唾音等优越特性，砷化镓晶片在加工的过程中需要使用精抛装置进行抛光。
[0003]精抛装置在对砷化镓晶片抛光时需要使用抛光液，现有的抛光液普遍是通过滴流设备滴入抛光盘中，通过抛光盘的旋转将抛光液铺开，再对晶片进行打磨，但通过抛光盘的转动铺开的抛光液分布不够均匀，容易因为抛光液的分布不均降低砷化镓晶片抛光后的效果，因此，根据上述问题提出一种砷化镓晶片单面精抛装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种砷化镓晶片单面精抛装置，以解决通过抛光盘的转动铺开的抛光液分布不够均匀，容易因为抛光液的分布不均降低砷化镓晶片抛光后效果的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种砷化镓晶片单面精抛装置，包括箱体、控制面板、观察门和转盘，所述转盘的上端面固定连接有抛光盘，所述箱体的内壁固本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种砷化镓晶片单面精抛装置，包括箱体(1)、控制面板(2)、观察门(3)和转盘(4)，所述转盘(4)的上端面固定连接有抛光盘(5)，所述箱体(1)的内壁固定连接有限位结构(6)，所述限位结构(6)的内侧设置有镜片放置座(7)，所述镜片放置座(7)设置在抛光盘(5)的上侧，其特征在于：所述箱体(1)的内壁固定连接有液桶(8)，所述液桶(8)的内壁固定连接有弹簧(9)，所述弹簧(9)的另一端固定连接有连接板(10)，所述连接板(10)的上端面固定连接有活塞(11)，所述液桶(8)的右端面接通有分流壳(13)，所述分流壳(13)的前端面导孔处固定连接有出液管(14)，所述分流壳(13)的下端面左右两侧均固定连接有连板(15)，所述连板(15)的外端面之间通过转轴转动连接有夹板(16)，所述夹板(16)的下端面固定连接有捋平刷(17)，所述分流壳(13)的下端面与夹板(16)的上端面之间固定连接有弹性绳(18)。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：许子俊，马曾增，兰少东，
申请(专利权)人：江苏中科晶元信息材料有限公司，
类型：新型
国别省市：