匀气结构、风幕生成装置及镀膜设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种匀气结构、风幕生成装置及镀膜设备，属于太阳能电池镀膜技术领域；其中，匀气结构包括：壳体，具有腔体以及与腔体连通的多个出气口，所有出气口沿壳体的延伸方向均匀排列；供气管，设于腔体内，供气管具有多个供气口，所有供气口沿供气管的延伸方向均匀排列，供气管与壳体同向延伸。风幕生成装置包括匀气结构以及能为供气管供气的气源。镀膜设备包括多个并排设置且连通的工艺腔室以及风幕生成装置，任意相邻两个工艺腔室之间的连通处设有壳体。本发明专利技术通过均匀的气幕有效隔绝相邻两个工艺腔室的气流，从而避免相邻两个工艺腔室因气流扩散互通而产生污染问题。室因气流扩散互通而产生污染问题。室因气流扩散互通而产生污染问题。

【技术实现步骤摘要】
匀气结构、风幕生成装置及镀膜设备


[0001]本专利技术属于太阳能电池镀膜
，特别涉及一种匀气结构、风幕生成装置及镀膜设备。

技术介绍

[0002]随着磁控溅射技术在异质结太阳能电池镀膜领域的广泛应用，对电池片镀膜质量要求越来越高。异质结太阳能电池的磁控溅射镀膜工作包括上镀膜和下镀膜，分别在相邻的两个工艺腔内进行，且上镀膜和下镀膜的靶材材质也有差异。磁控溅射镀膜工作是在真空、高温的环境条件下进行的，每个阴极镀膜腔室配备防护衬板(防护衬板的内侧面为喷砂面)，其作用就是为了吸附镀膜过程中多余的镀膜离子、分子，防止污染腔室以及扩散到相邻的腔室而影响镀膜效果。
[0003]在现有的磁控溅射镀膜设备中，所有工艺腔室之间为互通的连接方式，工艺腔室内部处于高温的环境状态，且不断有工艺气体注入(通过分子泵抽气循环)，在此种条件下会加快镀膜离子、分子的运动扩散，具体的，上镀膜腔室内镀膜离子、分子向下镀膜腔室扩散，如此会导致相邻两个工艺腔室的镀膜环境互相污染，严重影响异质结太阳能电池的镀膜效果。
[0004]基于此，急需设计一种用于工艺腔室的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种匀气结构，其特征在于，包括：壳体，具有腔体以及与所述腔体连通的多个出气口，所有的所述出气口沿所述壳体的延伸方向均匀排列；供气管，设于所述腔体内，所述供气管具有多个供气口，所有的所述供气口沿所述供气管的延伸方向均匀排列，所述供气管与所述壳体同向延伸。2.根据权利要求1所述的匀气结构，其特征在于，所述出气口的朝向与所述供气口的朝向不同。3.根据权利要求2所述的匀气结构，其特征在于，所述供气口和所述出气口之间只形成最长的气体流动路径。4.根据权利要求1所述的匀气结构，其特征在于，所述壳体设有多个并依次套接，所述供气管设于最内层的所述壳体的腔体内。5.根据权利要求4所述的匀气结构，其特征在于，对于任意相邻两个所述壳体，所述出气口的朝向不同；对于所述供气管和最内层的所述壳体，所述供气口的朝向与所述出气口的朝向不同。6.根据权利要求5所述的匀气结构，其特征在于，任意相邻两...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：广东利元亨智能装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：