一种用于CVD涂层的铝反应器制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于CVD涂层的铝反应器，包括罐体，罐体的顶部设有若干个上料口，所述罐体上设有搅拌装置、下料装置和加热装置，所述搅拌装置包括伺服电机、支撑板、旋转轴和搅拌叶片，所述支撑板和罐体的顶部通过螺栓连接，所述伺服电机安装在支撑板上，且其输出轴和旋转轴连接，搅拌叶片固定套设在旋转轴外，本实用新型专利技术中通过设置下料装置，在罐体内反应结束后，便于将反应生成的生成物从罐体内移出，通过设置密封机构，提高罐体和挡板之间的密封性，防止反应过程中产生的气体通过罐体和挡板之间的缝隙逸出。挡板之间的缝隙逸出。挡板之间的缝隙逸出。

【技术实现步骤摘要】
一种用于CVD涂层的铝反应器


[0001]本技术涉及反应器
，具体为一种用于CVD涂层的铝反应器。

技术介绍

[0002]CVD是在其它材料(基材)的金属加工用工件例如模具、切削工具、耐磨损、耐腐蚀零件等的表面上成膜的方法，尤其是薄膜形成方法，化学气相沉积的特点是反应气体所含化合物的化学反应的进行，所期望的化学反应主要产物沉积在基材表面上并在那里形成涂层或者说覆膜。
[0003]专利号CN202022223966.5公开了一种用于CVD涂层设备的铝反应器，在本专利中，铝反应器内的铝颗粒物充分反应后，所生成的生成物不易从筒体内取出；另外，铝颗粒物堆积在筒体内时，和通入的气体的接触面较小，反应效率慢，本技术针对以上问题提出了一种新的解决方案。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术中存在的问题，本技术提供了一种用于CVD涂层的铝反应器，以解决
技术介绍
中提到的技术问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于CVD涂层的铝反应器，包括罐体，罐体的顶部设有若干个上料口，所述罐体上设有搅拌装置、下料装置和加热装置，所述搅拌装置包括伺服电机、支撑板、旋转轴和搅拌叶片，所述支撑板和罐体的顶部通过螺栓连接，所述伺服电机安装在支撑板上，且其输出轴和旋转轴连接，搅拌叶片固定套设在旋转轴外，所述下料装置包括挡板、安装板和电动推杆，所述罐体的底部设有下料口，挡板的一侧和下料口铰接，所述电动推杆的两端分别和安装板以及挡板转动连接，所述挡板和下料口之间设有密封机构。
[0008]优选的，所述加热装置包括外壳、进气口和出气口，所述外壳套设在罐体外，且和罐体的外侧固定连接，所述进气口和出气口均设置有多个，且均和所述外壳与罐体之间的空间连通，便于外界加热设备加热后的气体或液体进入到外壳和罐体之间对罐体进行加热。
[0009]在进一步中优选的是，所述密封机构包括密封槽和密封环，所述密封槽开设在下料口的下表面，所述密封环设置在密封槽内，且密封环的下表面和挡板的上表面紧密贴合，便于提高挡板和罐体之间的密封性，防止气体逸出。
[0010]在进一步中优选的是，所述外壳的底部四个角上均设有支撑腿，支撑腿的下表面设有固定板，所述安装板的两端分别和两个所述支撑腿固定连接，便于对外壳和罐体进行支撑，便于安装板的安装固定。
[0011]在进一步中优选的是，所述罐体的顶部设有测温口，所述测温口内设有安装杆，安
装杆上设有测温元件，测温元件设置有多个，且沿安装杆的轴向平行设置在安装杆上，便于对罐体内不同位置的温度进行测量。
[0012]在进一步中优选的是，所述罐体的顶部设有排气口，便于反应生成的气体排出。
[0013]在进一步中优选的是，所述上料口、排气口、测温口、进气口和出气口上均设有第一连接法兰，所述安装杆靠近顶部处套设有第二连接法兰，所述安装杆和测温口通过螺栓连接，提高上料口、排气口、测温口、进气口和出气口处的连接密封性。
[0014](三)有益效果
[0015]与现有技术相比，本技术提供了一种用于CVD涂层的铝反应器，具备以下有益效果：
[0016]1、本技术中通过设置下料装置，在罐体内反应结束后，便于将反应生成的生成物从罐体内移出，通过设置密封机构，提高罐体和挡板之间的密封性，防止反应过程中产生的气体通过罐体和挡板之间的缝隙逸出；
[0017]2、本技术中通过设置加热装置，便于将外界高温气体或者液体通过进气口进入到外壳和罐体之间，对罐体内进行加热，使罐体内的温度达到反应所需要的温度，再从出气口排出，重新进入到外界加热设备中进行循环；
[0018]3、本技术中通过设置搅拌装置，便于对罐体内的反应物进行搅拌，增大铝颗粒物和气体的接触面积，提高反应效率，进而提高生产效率。
附图说明
[0019]图1为本技术中一种用于CVD涂层的铝反应器的整体结构示意图；
[0020]图2为本技术中另一角度的整体结构示意图；
[0021]图3为本技术中图1中外壳和罐体为剖视的结构示意图；
[0022]图4为本技术中罐体和密封环连接的结构示意图；
[0023]图5为本技术中罐体和密封环未连接的结构示意图。
[0024]图中：1、罐体；2、上料口；3、伺服电机；4、支撑板；5、旋转轴；6、搅拌叶片；7、挡板；8、安装板；9、电动推杆；10、下料口；11、外壳；12、进气口；13、出气口；14、密封槽；15、密封环；16、支撑腿；17、固定板；18、测温口；19、安装杆；20、测温元件；21、排气口；22、第一连接法兰；23、第二连接法兰。
具体实施方式
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0026]实施例1：
[0027]请参阅图1
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5，一种用于CVD涂层的铝反应器，包括罐体1，罐体1的顶部设有若干个上料口2，罐体1上设有搅拌装置、下料装置和加热装置，搅拌装置包括伺服电机3、支撑板4、旋转轴5和搅拌叶片6，支撑板4和罐体1的顶部通过螺栓连接，伺服电机3安装在支撑板4上，且其输出轴和旋转轴5连接，搅拌叶片6固定套设在旋转轴5外，下料装置包括挡板7、安装板
8和电动推杆9，罐体1的底部设有下料口10，挡板7的一侧和下料口10铰接，电动推杆9的两端分别和安装板8以及挡板7转动连接，挡板7和下料口10之间设有密封机构，外壳11的底部四个角上均设有支撑腿16，支撑腿16的下表面设有固定板17，安装板8的两端分别和两个支撑腿16固定连接，罐体1的顶部设有测温口18，测温口18内设有安装杆19，安装杆19上设有测温元件20，测温元件20设置有多个，且沿安装杆19的轴向平行设置在安装杆19上。
[0028]请参阅图1
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3，加热装置包括外壳11、进气口12和出气口13，外壳11套设在罐体1外，且和罐体1的外侧固定连接，进气口12和出气口13均设置有多个，且均和外壳11与罐体1之间的空间连通。在使用时，将进气口12以及出气口13均和外界的加热设备连通，加热设备加热后的气体或者液体通过进气口12进入到外壳11和罐体1之间，对罐体1进行加热，使罐体1内的温度达到反应所需要的温度，气体或液体再通过出气口13重新回到加热设备中进行加热，形成循环回路，使罐体1始终维持在一定温度。
[0029]请参阅图1
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5，密封机构包括密封槽14和密封环15，密封槽14开设在下料口10的下表面，密封环15设置在密封槽14内，且密封环15的下表面和挡板7的上表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于CVD涂层的铝反应器，包括罐体(1)，罐体(1)的顶部设有若干个上料口(2)，其特征在于：所述罐体(1)上设有搅拌装置、下料装置和加热装置，所述搅拌装置包括伺服电机(3)、支撑板(4)、旋转轴(5)和搅拌叶片(6)，所述支撑板(4)和罐体(1)的顶部通过螺栓连接，所述伺服电机(3)安装在支撑板(4)上，且其输出轴和旋转轴(5)连接，搅拌叶片(6)固定套设在旋转轴(5)外，所述下料装置包括挡板(7)、安装板(8)和电动推杆(9)，所述罐体(1)的底部设有下料口(10)，挡板(7)的一侧和下料口(10)铰接，所述电动推杆(9)的两端分别和安装板(8)以及挡板(7)转动连接，所述挡板(7)和下料口(10)之间设有密封机构。2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层的铝反应器，其特征在于：所述加热装置包括外壳(11)、进气口(12)和出气口(13)，所述外壳(11)套设在罐体(1)外，且和罐体(1)的外侧固定连接，所述进气口(12)和出气口(13)均设置有多个，且均和所述外壳(11)与罐体(1)之间的空间连通。3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层的铝反应器，其特征在于：所述密封机构包括密封槽(14)和密封环(...

【专利技术属性】
技术研发人员：李跃辉，李伟，林志斌，
申请(专利权)人：上海涓微新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：