本发明专利技术公开了一种搪瓷残次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步骤：将反应釜中放入氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品，通入水蒸汽直接加热，压力达到０．７～０．８ＭＰａ后停止通水蒸汽，间接加热，反应，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液１；坯件经水猝冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将溶液１过滤，滤液用酸中和，得到溶液２；向溶液２中加入硅溶胶母液，得到溶液３；向溶液３中加入盐酸水溶液，得到溶液４；在７０℃～８０℃，反应，调节ｐＨ，陈化，将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化硅。本发明专利技术的方法，提高了搪瓷坯件的回收率，同时对瓷釉中的二氧化硅进行再利用，即达到了节约资源的目的，同时消除了原工艺废碱液的排放问题。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于搪瓷制造领域，特别是涉及。
技术介绍
搪瓷制备工艺包含很多工序，瓷釉层的质量取决于很多因素，即使对每个生产工段严 格控制也不能完全避免瓷釉生产中'出现残次品，也就是有缺陷的搪瓷制品。对于这些产品， 要完全去除搪瓷坯件表面的瓷釉才能重新涂搪。目前主要的瓷釉去除方法有机械方法和化 学方法。实际应用中一般是配合使用，开始用机械法除去一部分瓷釉，然后再用化学方法 进行处理。机械方法主要是用手缍和凿子先进行简单预处理，然后进行喷砂处理。这种方法除瓷 极不均匀，制品壁最薄的部位极易受到损坏，并且容易导致坯件变形，导致坯件报废，无 法回收再利用。在击落瓷釉时，制品往往被油污和铁锈所污染，所以在再次涂搪前需将坯 件进行焙烧而去污。化学方法主要包括酸液处理法和融碱处理法。Si02作为瓷釉的网络形成剂，即基体剂，搪瓷主要成分的含量见下表。搪瓷的主要成分(重量％)Si0230 70Ti020 10B2030 20PbO0 60 .Na20(K20)12 30ZnO0 15F0 15BaO0 15A1A0 12MgO0 3CaO0 10Zr020 10酸液法主要利用酸液中的氢氟酸与瓷釉中的二氧化硅进行剧烈的反应，除瓷时间需6 8小时。操作过程中会产生HF， H2S等有害气体，除瓷不均匀时制品金属也可能溶解在 酸液中。融碱法是较为有效的方法。瓷釉中的Si02可与NaOH反应，氢氧化钠熔融物在50(TC能 够在几分钟内完全去除瓷层。将制品装入盛有熔碱的钢槽中，处理后从熔融物中取出并放 在热水槽中洗涤，然后长时间保持在冷水中除去残余的碱。熔融物要定期的清除沉渣。过程操作简单有效，但成本高，沉渣难于清理，过程产生的低浓度碱液处理困难。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术中的不足，提供一种。 本专利技术的技术方案概述如下，包括如下步骤将反应釜中放入质量比为0. 35 0. 50: 1的质量浓度为40% 60%的氢氧化钠水溶液和 搪瓷残次品，通入水蒸汽直接加热，压力达到0.7 0.8MPa后停止通水蒸汽，间接加热， 在15(TC 16(TC，反应3 5小时，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液1;所述坯件经5°C 2(TC的水猝冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将所述溶液1过滤，滤 液用酸中和至pH为9. 0 10. 5，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2体积的5% 15% 的pH为9. 0 10. 5的硅溶胶母液，得到溶液3，所述硅溶胶母液用模数2. 4的硅酸钠制得， 其中Si02质量浓度为7. 5% 8. 5%;向溶液3中加入质量百分浓度为8% 12%的盐酸水溶液， 使pH为9.0 10. 5得到溶液4;所述溶液4在70°C 80°C，反应1.0 3.0小时，调节pH 为3. 5 4. 5，陈化0. 5 1小时,将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化硅。所述搪瓷的坯件材质为铜v铸铁、不锈钢、金或银。本专利技术的，通过用浓氢氧化钠溶液加压高温处理搪 瓷残次品，使得搪瓷残次品的瓷釉层从坯件表面完全去除，然后将过程中产生的硅酸钠溶 液和剩余的氢氧化钠溶液用盐酸处理生产沉淀出二氧化硅。提高了搪瓷坯件的回收率，同 时对瓷釉中的二氧化硅进行再利用，即达到了节约资源的目的，同时消除了原工艺废碱液 的排放问题。附图说明图l为本专利技术的工艺流程图。 具体实施例方式下面结合附图实施例对本专利技术作进一步的说明 实施例1，包括如下步骤(见图l)将搪瓷次品放入反应釜中，加入50%的氢氧化钠溶液，然后通入水蒸汽加压至0. 7MPa 后停止通气；间接加热，在15(TC反应时间4小时；反应结束后取出搪瓷残次品的坯件， 坯件经5'C水猝冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将反应釜内溶液过 滤打入中和反应釜内，然后加入10%的工业盐酸中和，使pH在9.0 10.5左右；4然后加入硅溶胶母液，硅溶胶母液pH为9. 0 10. 5，用量约为反应釜内溶液体积的10%，再向中和反应釜内加入10%的盐酸，使为pH为9. 0 10. 5;沉淀反应时间为2. 0小时，温 度控制在75。C;反应结束后继续加入10%的盐酸，使pH为3. 5 4. 5，陈化1. 0小时，温 度控制在75。C;将上述过程产生沉淀物通入漂洗池经漂洗，过滤，焙烧千燥，然后用冲击 磨粉碎，旋风分离机分离得到产品二氧化硅；漂洗池母液可重复使用洗涤沉淀物，达到一 定浓度后富集浓縮，生产工业NaCl。实施例2将反应釜中放入质量比为0. 40: 1的质量浓度为50%的氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品， 搪瓷的坯件材质为铜，通入水蒸汽直接加热，压力达到0.8MPa后停止通水蒸汽，间接加热， 在155。C，反应4小时，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液l;所述坯件经5t:的水猝冷，' 打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将所述溶液l过滤，滤液用酸中和至pH 为9. 0，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2体积的10%的pH为9. 0的硅溶胶母液， 得到溶液3，所述硅溶胶母液用模数2.4的硅酸钠制得，其中SiOs质量浓度为7.5%;向溶 液3中加入质量百分浓度为10%的盐酸水溶液，使pH为9. 0得到溶液4;所述溶液4在75 °C，反应2.0小时，调节pH为3.5，陈化0. 6小时，将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化硅。实施例3，包括如下步骤将反应釜中放入质量比为0. 35: 1的质量浓度为60%的氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品， 搪瓷的坯件材质为铸铁，通入水蒸汽直接加热，压力达到0.7MPa后停止通水蒸汽，间接加 热，在15(TC，反应5小时，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液l;所述坯件经8'C的水猝 冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将所述溶液l过滤，滤液用酸中和 至pH为10. 5，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2体积的5%的pH为10. 5的硅溶胶 母液，得到溶液3，所述硅溶胶母液用模数2.4的硅酸钠制得，其中Si02质量浓度为8.5X; 向溶液3中加入质量百分浓度为12%的盐酸水溶液，使pH为10. 5得到溶液4;所述溶液4 在7CTC ，反应3. 0小时，调节pH为4. 5，陈化1小时，将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化硅。实施例4，包括如下步骤将反应釜中放入质量比为0. 50: 1的质量浓度为40%的氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品， 搪瓷的坯件材质为不锈钢，通入水蒸汽直接加热，压力达到0.8MPa后停止通水蒸汽，间接 加热，在16(TC，反应3小时，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液l;所述坯件经1(TC的水 猝冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将所述溶液1过滤，滤液用酸中 和至pH为10. 0，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2体积的15%的pH为10. 0的硅溶5胶母液，得到溶液3，所述硅溶胶母液用模数2. 4的硅酸钠制得，其中SiOz质量浓度为8. 0%; 向溶液3中加入质量百分浓度为8%的盐酸水溶液，使pH为10. 0得到溶液4;所述溶液4 在8(TC,反应1.0小时，调节pH为3.0，陈化0.5小时，将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化 硅。实施例5，包括如下步骤将反应釜中放入质量比为0. 45: 1的质量浓度为45%的氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品， 搪瓷的坯件材质为金(本文档来自技高网...
【技术保护点】
搪瓷残次品的瓷釉去除及回收方法，其特征是包括如下步骤： 将反应釜中放入质量比为０．３５～０．５０∶１的质量浓度为４０％～６０％的氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品，通入水蒸汽直接加热，压力达到０．７～０．８ＭＰａ后停止通水蒸汽，间接加热，在１５０℃～１６０℃，反应３～５小时，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液１；所述坯件经５℃～２０℃的水猝冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将所述溶液１过滤，滤液用酸中和至ｐＨ为９．０～１０．５，得到溶液２；向所述溶液２中加入溶液２体积的５％～１５％的ｐＨ为９．０～１０．５的硅溶胶母液，得到溶液３，所述硅溶胶母液用模数２．４的硅酸钠制得，其中ＳｉＯ↓［２］质量浓度为７．５％～８．５％；向溶液３中加入质量百分浓度为８％～１２％的盐酸水溶液，使ｐＨ为９．０～１０．５得到溶液４；所述溶液４在７０℃～８０℃，反应１．０～３．０小时，调节ｐＨ为３．５～４．５，陈化０．５～１小时，将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化硅。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王富民，郭焕祖，张旭斌，蔡旺峰，辛峰，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]
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