透明基板和其制造方法技术

技术编号:38326942 阅读:13 留言:0更新日期:2023-07-29 09:09
本发明专利技术提供一种通过不加工包含在含有导电性纤维的层的导电性纤维就表现不同导电性,构成低电阻部(导电部)与高电阻部(非导电部),低电阻部(导电部)与高电阻部(非导电部)的非可视性良好的透明基板和其制造方法。透明基板包含透明基材、和层叠在透明基材的至少一侧的主面上的含有导电性纤维的层,该含有导电性纤维的层中包含在俯视下大致均匀分散的导电性纤维和粘结剂树脂,在透明基材与含有导电性纤维的层之间的一部分,具有隔着底涂层而存在的高电阻部、与没隔着底涂层而存在的低电阻部,高电阻部的薄层电阻值R H

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明基板和其制造方法


[0001]本专利技术涉及具有低电阻部与高电阻部的透明基板和其制造方法。更详细而言,涉及于透明的基材上具有在俯视下导电性纤维以大致均匀的分布堆积的低电阻部与高电阻部的透明基板和其制造方法。

技术介绍

[0002]透明导电膜在液晶显示器(LCD)、等离子体显示器面板(PDP)、有机电致发光型显示器、太阳能电池(PV)和触控面板(TP)等的装置的透明电极、抗静电(ESD)薄膜和电磁波遮蔽(EMI)薄膜等的各种领域中使用。作为这些透明导电膜,以往虽已使用采用ITO(氧化铟锡)的,但有铟的供给稳定性低、制造成本高、欠缺柔软性和成膜时需要高温的问题。因此,对于替代ITO的透明导电膜进行了积极地探索。在这些之中,含有金属纳米线的透明导电膜由于导电性、光学特性和柔软性优异、可以湿式制程成膜、制造成本低、成膜时不需要高温等,而适合作为ITO代替透明导电膜。例如,已知有包含银纳米线,具有高导电性、光学特性、柔软性的透明导电膜(参照专利文献1)。
[0003]一般的包含银纳米线等的导电性纤维的透明导电膜,通过具有网络构造而使面内的薄层电阻值表现大致均匀的导电性,该网络构造是在透明的基材上,以多个导电性纤维在随机方向在俯视下大致均匀分散的状态(分布)具有交叉部的方式堆积。使用包含导电性纤维的透明导电膜制作上述装置时,有必要形成具有导电部(低电阻部)与非导电部(高电阻部)的导电图型。作为以往的导电图型形成技术,研究了在绝缘基材上直接形成导电图型的方法(通过导电性墨液的丝网印刷等的有版印刷或喷墨印刷等的无版印刷,描绘图型的方法、使用掩模的导电材料(例如金属)的蒸镀等(加成(Additive)法)),或在绝缘基材上将导电层形成为实心状后,将欲形成非导电部的区域以化学蚀刻、激光蚀刻等图型化的方法(减去法)等。在任一方法中,能够明确区别开导电部(低电阻部)与非导电部(高电阻部)时,可目视图型的所谓图案可视成为课题。
[0004]作为上述的图案可视的消除,也即提升非可视性的方法,在专利文献1中公开了在使用金属纳米线的透明导电层图型化时,通过调整蚀刻液的强度,使相当于非导电部的部分的金属纳米线的浓度降低,缩小导电部和非导电部间的雾度值差的方法。
[0005]此外,在专利文献2,公开了通过在由透明导电膜所构成的导电部内形成成为非导通的孔图型,另外,并在未形成透明导电膜的非导电部内形成由透明导电膜所构成的岛图型,利用在导电部和非导电部的透明导电膜的被覆率的不同,实现区域间的雾度值差的消除的方法。
[0006]专利文献3中通过在导电部与非导电部使用金属纤维,并在非导电部上形成多个在线的虚拟图型,实现非可视性的提升。
[0007]进而,在专利文献4,通过设置底涂层,调整经图型化的导电层与被覆层的折射率,成为满足所期望的分光反射率的设计,实现了非可视性的提升。
[0008]现有技术文献
[0009]专利文献
[0010]专利文献1:日本特表2010

507199号公报
[0011]专利文献2:日本特开2013

12016号公报
[0012]专利文献3:日本特开2016

91627号公报
[0013]专利文献4:日本特开2008

243622号公报

技术实现思路

[0014][专利技术要解决的课题][0015]专利文献1所公开的方法,有根据非导电部的金属纳米线的浓度,即使在非导电部也引起导通的问题。专利文献2所公开的方法,必须算出孔和岛的配置的无规性或填充密度的最适值,有制造设计困难,无法轻易消除雾度值差的问题。专利文献3所公开的方法,虚拟图型的线宽有时在通过金属纤维的平均径或平均长度而个别特定的阈值以下的范围内,考虑非导电部所设置的虚拟图型的张数,和非导电部与导电部的雾度值差等决定,专利文献2所公开的方法同样制造设计为困难。即使专利文献4所公开的方法,也引起导电层的图型化或通过图型化引起图案可视。
[0016]因此,本专利技术的课题是提供一种通过不加工包含在含有导电性纤维的层的导电性纤维就表现不同导电性,构成低电阻部(导电部)与高电阻部(非导电部),低电阻部(导电部)与高电阻部(非导电部)的非可视性良好的透明基板和其制造方法。
[0017]用以解决课题的手段
[0018]本专利技术人发现通过在透明基材上实施由特定的材料而成的底涂,并进行指定的操作,而得到具有在俯视下导电性纤维以大致均匀的分布堆积的低电阻部与高电阻部的非可视性良好的透明基板。
[0019]也即,本专利技术具有以下的实施方案。
[0020][1].一种透明基板,其特征在于,包含透明基材、和层叠在所述透明基材的至少一侧的主面上的含有导电性纤维的层,该含有导电性纤维的层中包含在俯视下大致均匀分散的导电性纤维和粘结剂树脂,
[0021]在所述透明基材与含有导电性纤维的层之间的一部分,具有隔着底涂层而存在的高电阻部、与没隔着底涂层而存在的低电阻部,高电阻部的薄层电阻值R H
、与低电阻部的薄层电阻值R L
的关系为R H
/R L
>100,所述底涂层包含树脂,该树脂具有:具有

NH

的基和键结部中的至少一个。
[0022][2].如[1]所述的透明基板,在所述底涂层中所述具有

NH

的基或键结部的总含量为0.1mmol/g以上且5.0mmol/g以下。
[0023][3].如[2]所述的透明基板,所述具有

NH

的基或键结部的总含量小于2.0mmol/g。
[0024][4].如[1]~[3]中任一项所述的透明基板,所述具有

NH

的基或键结部是选自伯氨基、仲氨基、氨基甲酸酯键(

NH

C(=O)

O

)、脲键(

NH

C(=O)

NH

)、酰胺键(

C(=O)

NH

)中的至少一个。
[0025][5].如[1]~[4]中任一项所述的透明基板,所述粘结剂树脂为聚N

乙烯基乙酰胺、即N

乙烯基乙酰胺(NVA)的均聚物,或所述粘结剂树脂为N

乙烯基乙酰胺(NVA)为70摩
尔%以上的共聚物。
[0026][6].如[1]~[5]中任一项所述的透明基板,所述底涂层的厚度为10~30000nm。
[0027][7].如[1]~[6]中任一项所述的透明基板,在所述含有导电性纤维的层上具有外涂层、即保护膜层。
[0028][8].如[1]~[7]中任一项所述的透明基板,所述导电性纤维为金属纳本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种透明基板,其特征在于,包含透明基材、和层叠在所述透明基材的至少一侧的主面上的含有导电性纤维的层,该含有导电性纤维的层中包含在俯视下大致均匀分散的导电性纤维和粘结剂树脂,在所述透明基材与含有导电性纤维的层之间的一部分,具有隔着底涂层而存在的高电阻部、与没隔着底涂层而存在的低电阻部,高电阻部的薄层电阻值R H
、与低电阻部的薄层电阻值R L
的关系为R H
/R L
>100,所述底涂层包含树脂,该树脂具有:具有

NH

的基和键结部中的至少一个。2.如权利要求1所述的透明基板,在所述底涂层中所述具有

NH

的基或键结部的总含量为0.1mmol/g以上且5.0mmol/g以下。3.如权利要求2所述的透明基板,所述具有

NH

的基或键结部的总含量小于2.0mmol/g。4.如权利要求1~3中任一项所述的透明基板,所述具有

NH

的基或键结部是选自伯氨基、仲氨基、氨基甲酸酯键(

NH

C(=O)

O

)、脲键(

NH

C(=O)

NH

)、酰胺键(

C(=O)

NH

)中的至少一个。5.如权利要求1~4中任一项所述的透明基板,所述粘结剂树脂为聚N

【专利技术属性】
技术研发人员:鸟羽正彦
申请(专利权)人:株式会社力森诺科
类型:发明
国别省市:

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